一种镀膜机的基带卷绕装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种镀膜机的基带卷绕装置，包括安装架、基带、供所述基带送料的卷绕机构、蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块，所述卷绕机构安装于安装架的内部，所述蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块均设于安装架的内部且穿插安装在卷绕机构内，且预处理机构固定安装于蒸镀室的右侧，本实用新型专利技术涉及镀膜机技术领域。该镀膜机的基带卷绕装置，通过设置有预处理机构，在等离子处理器上增设两组带有若干个纠偏轮的导向架、设有垫板的延展架以及压辊组件，基带在若干个纠偏轮的限位作用下，避免因气流的冲击而发生位置的偏移，基带在压辊和垫板的压合下，既可以排除附着在其表面的气体，避免后续收卷作业过程中存在气泡。避免后续收卷作业过程中存在气泡。避免后续收卷作业过程中存在气泡。

A baseband winding device for coating machine

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机的基带卷绕装置


[0001]本技术涉及镀膜机
，具体为一种镀膜机的基带卷绕装置。

技术介绍

[0002]蒸发式卷绕镀膜设备根据蒸镀工艺可分为连续式、半连续式和间歇式三种，因设备结构不同还可分为：单室、双室和多室卷绕镀膜设备，广泛用于包装、装潢、印刷、纺织、食品、防伪、卷烟、电子工业等领域。
[0003]在对基带进行镀膜前，需要通过等离子处理器对基带进行预处理，以提高薄膜的表面张力和镀层附着力，而等离子处理器是借助于气流将等离子体喷射在基带表面，气流作用于基带，会使基带发生位置的偏移，同时基带表面残留的气体会影响后续的收卷作业，为此，我们出一种镀膜机的基带卷绕装置，来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种镀膜机的基带卷绕装置，解决了等离子处理器是借助于气流将等离子体喷射在基带表面，气流作用于基带，会使基带发生位置的偏移，同时基带表面残留的气体会影响后续的收卷作业的问题。
[0005]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种镀膜机的基带卷绕装置，包括安装架、基带、供所述基带送料的卷绕机构、蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块，所述卷绕机构安装于安装架的内部，所述蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块均设于安装架的内部且穿插安装在卷绕机构内，且预处理机构固定安装于蒸镀室的右侧，
[0006]所述预处理机构包括等离子处理器、安装有若干个纠偏轮的导向架、设有垫板的延展架以及压辊组件，所述等离子处理器上开设有供基带贯穿的通槽，所述导向架设有两组且分别安装于所述通槽内部的前、后两侧，所述延展架固定安装于等离子处理器的顶部，所述压辊组件固定安装于延展架的右侧壁上，且压辊组件与垫板之间留有供基带贯穿的间隙。
[0007]优选的，所述卷绕机构包括沿所述基带输送方向依次设置的放卷辊、第一转向辊、第二转向辊、进料辊、镀膜辊、出料辊、第三转向辊、第一输送辊、第二输送辊、收卷辊，所述放卷辊和收卷辊均位于安装架的右侧，所述第一转向辊和第二转向辊分别位于预处理机构的上方和下方，所述蒸镀室的顶部开设有供镀膜辊安装的容置腔，所述镀膜辊的底部延伸至所述容置腔内并与蒸镀室活动连接，所述出料辊和进料辊分别位于镀膜辊左、右两侧的上方，所述光纤监测模块位于第三转向辊和第一输送辊之间。
[0008]优选的，所述第一输送辊和第二输送辊轴线所在的直线位于同一水平面上。
[0009]优选的，所述压辊组件包括压辊、固定架、滑座和限位螺钉，所述固定架设有两组且分别位于压辊的前、后两侧，所述滑座设有两组且分别滑动连接在两组所述固定架的内部，所述压辊的两端分别与两组所述滑座转动连接，所述限位螺钉设有两组且分别螺纹贯穿于两组所述固定架并抵压在两组所述滑座上。
[0010]优选的，所述延展架和垫板采用整铸工艺制作而成。
[0011]有益效果
[0012]本技术提供了一种镀膜机的基带卷绕装置。与现有技术相比具备以下有益效果：
[0013]该镀膜机的基带卷绕装置，通过设置有预处理机构，在等离子处理器上增设两组带有若干个纠偏轮的导向架、设有垫板的延展架以及压辊组件，基带在若干个纠偏轮的限位作用下，避免因气流的冲击而发生位置的偏移，同时确保了输送的稳定性，同时基带在压辊和垫板的压合下，既可以排除附着在其表面的气体，避免后续收卷作业过程中存在气泡，同时对基带起到一定的压平效果。
附图说明
[0014]图1为本技术的结构示意图；
[0015]图2为本技术的内部结构示意图；
[0016]图3为本技术预处理机构的结构示意图；
[0017]图4为本技术压辊组件的结构示意图；
[0018]图中：1、安装架；2、基带；3、卷绕机构；4、蒸镀室；5、预处理机构； 6、光纤监测模块；7、等离子处理器；8、纠偏轮；9、导向架；10、垫板； 11、延展架；12、压辊组件；13、放卷辊；14、第一转向辊；15、第二转向辊；16、进料辊；17、镀膜辊；18、出料辊；19、第三转向辊；20、第一输送辊；21、第二输送辊；22、收卷辊；23、压辊；24、固定架；25、滑座； 26、限位螺钉。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
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4，本技术提供一种技术方案：一种镀膜机的基带卷绕装置，包括安装架1、基带2、供基带2送料的卷绕机构3、蒸镀室4、预处理机构5、光纤监测模块6，卷绕机构3安装于安装架1的内部，蒸镀室4、预处理机构5、光纤监测模块6均设于安装架1的内部且穿插安装在卷绕机构3 内，且预处理机构5固定安装于蒸镀室4的右侧，预处理机构5包括等离子处理器7、安装有若干个纠偏轮8的导向架9、设有垫板10的延展架11以及压辊组件12，等离子处理器7上开设有供基带2贯穿的通槽，导向架9设有两组且分别安装于通槽内部的前、后两侧，延展架11固定安装于等离子处理器7的顶部，压辊组件12固定安装于延展架11的右侧壁上，且压辊组件12 与垫板10之间留有供基带2贯穿的间隙。
[0021]基于上述结构的设置，该镀膜机的基带卷绕装置，由安装架1、基带2、卷绕机构3、蒸镀室4、预处理机构5和光纤监测模块6组成，安装架1为卷绕机构3、蒸镀室4、预处理机构5和光纤监测模块6提供安装支撑，基带2 缠绕在卷绕机构3上并由卷绕机构3进行输送作业，蒸镀室4对基带2进行镀膜处理，预处理机构5和光纤监测模块6穿插安装于卷绕机构3内并分别对基带2进行镀膜前的预处理和镀膜后的监测，具体的，基带2由卷绕机构3 实现输送，等离子处理器7通过压缩空气将产生的等离子体喷向贯穿于通槽的基带2表面，当等离子体
和被处理的基带2表面相遇时，产生了物体变化和化学反应，提高了基带2的表面张力和镀层附着力，以确保经过蒸镀室4 的基带2的镀膜效果，镀膜后的基带2随后进入光纤监测模块6，借助于光纤探头，可以在线测量镀层的光密度以及检测镀层的表面缺陷，在等离子处理器7上增设两组带有若干个纠偏轮8的导向架9、设有垫板10的延展架11以及压辊组件12，基带2在若干个纠偏轮8的限位作用下，避免因气流的冲击而发生位置的偏移，同时确保了输送的稳定性，同时基带2在压辊23和垫板 10的压合下，既可以排除附着在其表面的气体，避免后续收卷作业过程中存在气泡，同时对基带2起到一定的压平效果。
[0022]进一步的，卷绕机构3包括沿基带2输送方向依次设置的放卷辊13、第一转向辊14、第二转向辊15、进料辊16、镀膜辊17、出料辊18、第三转向辊19、第一输送辊20、第二输送辊21、收卷辊22，放卷辊13和收卷辊22 均位于安装架1的右侧，第一转向本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜机的基带卷绕装置，其特征在于：包括安装架(1)、基带(2)、供所述基带(2)送料的卷绕机构(3)、蒸镀室(4)、预处理机构(5)、光纤监测模块(6)，所述卷绕机构(3)安装于安装架(1)的内部，所述蒸镀室(4)、预处理机构(5)、光纤监测模块(6)均设于安装架(1)的内部且穿插安装在卷绕机构(3)内，且预处理机构(5)固定安装于蒸镀室(4)的右侧；所述预处理机构(5)包括等离子处理器(7)、安装有若干个纠偏轮(8)的导向架(9)、设有垫板(10)的延展架(11)以及压辊组件(12)，所述等离子处理器(7)上开设有供基带(2)贯穿的通槽，所述导向架(9)设有两组且分别安装于所述通槽内部的前、后两侧，所述延展架(11)固定安装于等离子处理器(7)的顶部，所述压辊组件(12)固定安装于延展架(11)的右侧壁上，且压辊组件(12)与垫板(10)之间留有供基带(2)贯穿的间隙。2.根据权利要求1所述的一种镀膜机的基带卷绕装置，其特征在于：所述卷绕机构(3)包括沿所述基带(2)输送方向依次设置的放卷辊(13)、第一转向辊(14)、第二转向辊(15)、进料辊(16)、镀膜辊(17)、出料辊(18)、第三转向辊(19)、第一输送辊(20)、第二输送辊(21)、收卷辊(22)，所述放卷辊(...

【专利技术属性】
技术研发人员：应世强，应佳根，
申请(专利权)人：南京丙辰表面技术有限公司，
类型：新型
国别省市：