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本实用新型公开了一种原子层沉积装置，属于原子镀膜技术领域，腔体位于下壳体内，上壳体位于下壳体的上侧，腔体的底部设置进气主管，进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置，并...
该专利属于南京丙辰表面技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京丙辰表面技术有限公司授权不得商用。

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