【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体器件场氧化层的一种形成方法,特别涉及一种通过消除局部热氧化工序产生的鸟嘴形疵点能增加有源区的。通常,形成场氧化层的目的是将各半导体器件彼此隔离开来。下面参看附图说明图1说明现有技术形成场氧化层的方法。热氧化层组成的场氧化层4是这样形在的在硅基片1上依次形成氧化垫层2和氮化层3,再蚀刻氧化垫层2和氮化层3经选定的部分,然后进行热氧化处理。这种现有技术有这样的缺点,即有源区随着氧化层往氮化层3底下的渗入产生的鸟嘴形部分“A”而变小。因此,本专利技术的目的是提供一种通过最大限度地减少场氧化层形成时出现的鸟嘴形部分能改善场氧化层与硅基片之间布局的半导体器件场氧层的形成方法。为达到上述目的,这里提出了按本专利技术的第一实施例进行的形成场氧化层的方法,该方法包括下列步骤在硅基片上形成第一热氧化层,再在第一热氧化层上形成光致抗蚀剂图形,然后除去露出来的第一热氧化层和硅基片;除去第一热氧化层和光致抗蚀剂图形,然后在得出的结构面上依次形成第二热氧化层、多晶硅层和氮化层;除去一部分氮化层,使多晶硅层露出来,再在硅基片上形成沟道截断环;进行热氧化处理,从而形成场氧化层;除去氮化层、多晶硅层和第二热氧化层,再在露出来的硅基片上形成单晶硅层。此外,这里还提出按本专利技术的第二实施例形成场氧化层的方法,该方法包括下列步骤在硅基片上形成光致抗蚀剂图形,再除去一部分露出来的硅基片;除去光致抗蚀剂图形,除去光致抗蚀剂之后再在得出的结构面上依次形成第二热氧化层、多晶硅层和氮化层;除去一部分氮化层使多晶硅层露出来,然后在硅基片上形成沟道截断环;进行热氧化处理,从而形成 ...
【技术保护点】
半导体器体场氧化层的一种形成方法,其特征在于,它包括下列步骤:在硅基片上形成第一热氧化层,再在第一热氧化层上形成光致抗蚀剂图形,然后除去一部分暴露出来的所述第一热氧化层和硅基片;除去所述第一热氧化层和光致抗蚀剂图形,然后在得出的结构 面上依次形成第二热氧化层、多晶硅层和氮化层;通过除去一部分所述氮化层,显露所述多晶硅层,再在所述硅基片上形成沟道截断环;进行热氧化处理,从而形成场氧化层;和除去所述氮化层、多晶硅层和第二热氧化层,然后在所述露出来的硅基片上形成单 晶硅层。
【技术特征摘要】
KR 1994-7-6 16088/94;KR 1994-7-6 16110/941.半导体器体场氧化层的一种形成方法,其特征在于,它包括下列步骤在硅基片上形成第一热氧化层,再在第一热氧化层上形成光致抗蚀剂图形,然后除去一部分暴露出来的所述第一热氧化层和硅基片;除去所述第一热氧化层和光致抗蚀剂图形,然后在得出的结构面上依次形成第二热氧化层、多晶硅层和氮化层;通过除去一部分所述氮化层,显露所述多晶硅层,再在所述硅基片上形成沟道截断环;进行热氧化处理,从而形成场氧化层;和除去所述氮化层、多晶硅层和第二热氧化层,然后在所述露出来的硅基片上形成单晶硅层。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,除去所述第一热氧化层时采用HF或氧化层腐蚀缓冲溶液。3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,注入BF2离子束形成所述沟道截断。4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,用采用磷酸的湿式腐蚀法除去所述氮化层。5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,用采用含HF和HNO3的化学溶液的湿式腐蚀法除去多晶硅层。6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述单晶硅层的外延法形成。7.半导体器件场氧化层的一种形成方法,其特征在于,它包括下列步骤在硅基片上形成光致抗蚀剂图形,然后除去一部分暴露出来的所述硅基片;除去所述光致抗蚀剂图形,然后在除去所述光致抗蚀剂之后在得出的结构面上依次形成第二热氧化层...
【专利技术属性】
技术研发人员:朴相勋,
申请(专利权)人:现代电子产业株式会社,
类型:发明
国别省市:KR[韩国]
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