【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基于2，5-二氨基对苯二酸衍生物的新型有机场致发光器件。所述衍生物是用于有机发光二极管(OLED)的发射体物质。早已闻名的有机发光二极管利用某种有机化合物的电致发光。在附图说明图1中举例说明OLED的结构和它各单层的任务将有机物质的层序列排列在两个电极之间，电极中的至少一个必须是半透明的，每种有机物质在器件中具有特定的功能。1.阴极组成为碱金属或合金(例如铝或钙)，并具有注射电子的功能；2.缓冲层组成为特定金属盐或其氧化物，例如LiF，并具有改善电子注入至层3的功能；3.电子导体可以例如由Alq3(三-(8-羟基喹啉)-铝)(tris-(8-hydroxychinolinato)-aluminium)组成，并将电子从阴极传导至器件内的发射层或空穴导体；4.空穴导体主要由三苯胺衍生物组成；可以提供数个空穴导体层，其性质适合于器件并且其功能是将空穴传输至发射层；5.阳极由ITO组成，其将空穴注入空穴传输层；6.基底由透明材料例如玻璃组成。上述类型的设备发射绿光，其是由于通过由空穴和电子形成的激子导致Alq3的激发而产生的。然而，这种简单的设备具有几...
【技术保护点】
一种有机场致发光器件，其以纯的或掺杂的形式在器件的一个或数个反射体层中包含下式１ａ的２，５－二氨基对苯二酸衍生物＊＊＊１ａ其中环Ａ是其中省略Ｒ↑［４′］和Ｒ↑［８′］的三重不饱和苯环，或者环Ａ是在１，２－位置和在４，５－位置含有两个分开的双键的不饱和环，并且其中Ｒ↑［１０］表示腈基－ＣＮ或－Ｃ（＝Ｘ↑［１］）－Ｘ↑［２］Ｒ↑［１］基，Ｒ↑［１１］是腈基－ＣＮ或－Ｃ（＝Ｘ↑［３］）－Ｘ↑［４］Ｒ↑［５］基，Ｘ↑［１］和Ｘ↑［３］相同或不同，是氧，硫或亚氨基，Ｘ↑［２］和Ｘ↑［４］相同或不同，是氧，硫或取代或者未取代的氨基，Ｒ↑［１］至Ｒ↑［８］，Ｒ↑［４′］和Ｒ↑［８′］可以...
【技术特征摘要】
DE 2001-8-21 10141266.51.一种有机场致发光器件，其以纯的或掺杂的形式在器件的一个或数个反射体层中包含下式1a的2，5-二氨基对苯二酸衍生物 其中环A是其中省略R4′和R8′的三重不饱和苯环，或者环A是在1，2-位置和在4，5-位置含有两个分开的双键的不饱和环，并且其中R10表示腈基-CN或-C(＝X1)-X2R1基，R11是腈基-CN或-C(＝X3)-X4R5基，X1和X3相同或不同，是氧，硫或亚氨基，X2和X4相同或不同，是氧，硫或取代或者未取代的氨基，R1至R8，R4′和R8′可以相同或不同，是氢，C1-C20的烷基，芳基，杂芳基，其中芳基和杂芳基可以单独或多重地被相同或不同的二-C1-C3-氨基，C1-C10烷氧基，C1-C4烷基，氰基，氟，氯和溴以及苯基所取代，R4和R8也可以是卤素，硝基，氰基或氨基，R2至R4，R6至R8，R4′和R8′也可以是三氟甲基，2-氟苯基，3-氟苯基，4-氟苯基，2，4-二氟苯基，2，6-二氟苯基，2，3，4，5-四氟苯基或五氟苯基，并且其中下列基团可以形成饱和或不饱和环X1和X2，R1和R2，R2和X2，R2和R3，R3和R4，R4和X3，X3和X4，R5和X4，R6和X4，R6和R7，R7和R8，R8和X1，R3和R4′，R7和R8′，R4和R4′，以及R8和R8′，这些环上可以稠合更多的环。2.按照权利要求2的器件，其中烷基是C1-C8烷基，芳基是苯基或萘基，并且杂芳环是香豆基，吡啶基，chinolyl，吲哚基，咔唑基，咪唑基，噻吩基，噻唑基，呋喃基，或噁唑基。3.按照权利要求1或2的器件，其中R2，R3，R6和R7是三氟甲基，2-氟苯基，3-氟苯基，4-氟苯基，2，4-二氟苯基，2，6-二氟苯基，2，3，4，5-四氟苯基或五氟苯基，R4和R8是卤素，硝基，氰基或氨基，并且其它取代基具有在权利要求1中说明的含义。4.按照权利要求1或2的器件，其中R4和R8是三氟甲基，2-氟苯基，3-氟苯基，4-氟苯基，2，4-二氟苯基，2，6-二氟苯基，2，3，4，5-四氟苯基或五氟苯基，并且其它取代基具有在权利要求1中说明的含义。5.按照权利要求1至4中任何一项的器件，其中所述烷氧基中的烷基为C1-C4烷基。6.按照权利要求1至5中任何一项的器件，其中X1和X3表示氧。7.按照权利要求1的器件，其中下列通式1的化合物以纯的或掺杂的形式被包含在器件中的一个或数个发射体层中 其中X1和X3可以是相同或不同的原子或基团，氧，硫或亚氨基；X2和X4可以是相同或不同的原子或基团，氧，硫或氨基，其中所述氨基氮可以被取代；R1至R8可以是相同或不同的取代基，氢，含有1至20个C原子的烷基；芳基，例如苯基或萘基，杂芳基，例如吡啶基，噻吩基，呋喃基，并且上述基团可以被例如二烷基氨基，烷氧基，氰基，氟或氯的原子或基团所取代；R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。8.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式5的化合物 其中X1和X2是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化(anellation)的饱和或不饱和杂环，并且X1是亚氨基，X2，X3和X4以及R2至R8具有在权利要求1中说明的含义，其中R4和R8还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。9.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中在器件中包含下式6的化合物 其中X2和R1是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X2是氨基，并且X1，X3和X4以及R2至R8具有在权利要求1中说明的含义，其中R4和R8还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。10.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中在器件中包含下式7的化合物 其中X2和R2是5-至6-元环的成员，其形成成环的杂环，X2是N或O，其中在X2＝O的情形中不存在取代基R1；并且X1，X3，X4，R1，R3至R8具有在权利要求1中说明的含义，其中R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。11.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中在器件中包含下式8的化合物 其中R2和R3是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，并且X1至X4，R1和R4至R8具有在权利要求1中说明的含义，其中R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。12.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式9的化合物 其中R3和R4是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，并且X1至X4，R1，R2，R5至R8可以具有在权利要求1中说明的含义，R8还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。13.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式10的化合物 其中R3和X3是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X3是亚氨基，并且X1，X2，X4，R1至R3和R5至R8具有在权利要求1中说明的含义，R8还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。14.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式11的化合物 其中X3和X4是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X3是亚氨基，并且X1，X2，X4，R1至R8具有在权利要求1中说明的含义，R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。15.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式12的化合物 其中X4和R5可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X4是氨基，并且X1，X2，X3，R1至R4，R6至R8具有在权利要求1中说明的含义，R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。16.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式13的化合物 其中X4和R5可以是5-至6-元环的成员，其形成成环的杂环，X4是N或O，其中在X4＝O的情形中不存在取代基R5，并且X1，X2，X3，R1至R5，R7和R8具有在权利要求1中说明的含义，R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。17.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式14的化合物 其中R6和R7可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，并且X1至X4，R1至R5和R8R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。18.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式15的化合物 其中R7和R8可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的稠合、饱和或不饱和杂环，X1至X4，R1，R6具有在权利要求1中说明的含义，并且R4还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。19.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式16的化合物 其中R8和X1可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的稠合，饱和或不饱和杂环，X1是亚氨基，X2，X3，X4，R1至R7具有在权利要求1中说明的含义，并且R4还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。20.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式17的化合物 其中X1和X2以及X3和X4可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化(anellation)的饱和或不饱和杂环，X1是亚氨基，X2，X3，X4，R1至R8具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8还可以是卤素，硝基，氰基或氨基。21.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式18的化合物 其中R1和X2以及R5和X4可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X1至X4，R2至R4和R6至R8具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。22.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式19的化合物 其中X2和R2以及X4和R6可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X1至X4，R1，R3至R5，R7和R8具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。23.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式20a的化合物 其中R10表示腈基-CN或-C(＝X1)-X2R1基，R11是腈基-CN或-C(＝X3)-X4R5基，R2和R3以及R6和R7可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X1至X4，R1，R4，R5和R8具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。24.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式21a的化合物 其中R10表示腈基-CN或-C(＝X1)-X2R1基，R11是腈基-CN或-C(＝X3)-X4R5基，并且其中R3和R4以及R7和R8可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X1至X4，R1，R2，R5，R6具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。25.按照权利要求1至7中任何一项的器件，其中包含下式22的化合物 其中R4和X3以及R8和X1可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X1和X4是亚氨基，X2和X3，R1至R3和R5至R7具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基或氨基。26.按照权利要求1-21中任何一项的器件，其中在器件中的一个或数个发射体层中包含2-6种不同物质的混合物。27.按照权利要求1至6中任何一项的器件，其中包含下式2的化合物， 其中X1和X3以及X2和X4，R1至R8，R4′和R8′具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8以及R4′和R8′也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基，氨基，三氟甲基，2-氟苯基，3-氟苯基，4-氟苯基，2，4-二氟苯基，2，6-二氟苯基，2，3，4，5-四氟苯基或五氟苯基。28.按照权利要求1至6中任何一项的器件，其中包含下式23的化合物， 其中X1和X2可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X1是亚氨基，X2，X3，X4，R1至R8，R4′和R8′具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8以及R4′和R8′也可以相同或不同，为卤素，硝基，氰基，氨基，三氟甲基，2-氟苯基，3-氟苯基，4-氟苯基，2，4-二氟苯基，2，6-二氟苯基，2，3，4，5-四氟苯基或五氟苯基。29.按照权利要求1至6中任何一项的器件，其中包含下式24的化合物， 其中X2和R1可以是5-至6-元环的成员，其形成含有或不含另外环化的饱和或不饱和杂环，X2是氨基，X1，X3，X4，R2至R8，R4′和R8′具有在权利要求1中说明的含义，并且R4和R8以及R4′和R8′也可以相同或不同...
【专利技术属性】
技术研发人员：安德列亚斯M里希特，延斯舍内韦克，格哈德迪纳，
申请(专利权)人：灵敏成像技术有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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