遮蔽掩模图案的形成方法技术

本发明专利技术提供一种遮蔽掩模图案的形成方法，其在施加有拉力的状态下首先焊接在掩模框上，利用激光形成蒸镀图案，由此容易制作大面积的掩模，并且加工步骤及设备简单，能够缩短加工时间。本发明专利技术的遮蔽掩模图案的形成方法包括使遮蔽掩模（１０）附着在掩模框（２０）上的步骤、在所述已附着的遮蔽掩模（１０）上形成图案的步骤，另外，使所述遮蔽掩模（１０）附着在所述掩模框（２０）上的步骤包括使所述遮蔽掩模（１０）与所述掩模框（２０）邻接的步骤、向所述遮蔽掩模（１０）施加外力的步骤、在所述掩模框（２０）上接合施加有外力的所述遮蔽掩模（１０）的步骤。

【技术实现步骤摘要】
遮蔽掩模图案的形成方法
本专利技术涉及一种遮蔽掩模图案的形成方法，更加详细地说，涉及一种如下的遮蔽掩模图案的形成方法，通过在施加有拉力的状态下首先将遮蔽掩模焊接在掩模框上，利用激光形成蒸镀图案，容易进行大面积的掩模制作，并且加工步骤及设备简单，能够缩短加工时间。
技术介绍
一般，在真空状态下蒸镀薄膜的真空蒸镀法在半导体及显示元件领域等广泛使用。这样的真空蒸镀法中在进行蒸镀的基板上利用具有特定图案的遮蔽掩模，仅对该遮蔽掩模遮掩的部分以外的部分进行蒸镀。但是，所述遮蔽掩模因为是厚度薄的板金形态，故在所述基板上排列时，一边仅支承端部一边粘合在所述基板上，但此时由于所述遮蔽掩模的中央部无支承装置，而仅由其端部支承，故不能完全粘合。特别是，沿垂直方向支承基板时，产生由于中央部自身的重量而向下方垂下的现象，在蒸镀步骤时产生图案误差。这样的问题在大面积的基板蒸镀时更加显著。图1是表示一般的遮蔽掩模的图示。如图1所示，遮蔽掩模10形成遮断区域11和与基板(未图示)的蒸镀区域对应的透过区域12的图案而构成。图2是表示利用一般的遮蔽掩模在形成有金属配线的显示元件基板上蒸镀蒸镀物质的过程的图示。参照图2，显示元件由相互交叉的定义像素区域的栅极配线32及数据配线31和位于栅极配线32及数据配线31的交叉地点的薄膜晶体管构成。在各像素区域33上蒸镀蒸镀物质，但是如图所示，构成所述阵列配线和驱动元件的基板30的一面向下，使遮蔽掩模10位于基板30的下部。在这样的状态下通过蒸镀步骤在各像素区域33上形成薄膜。但是，最近要求的大面积的显示元件中，所述遮蔽掩模面积越大越产生由所述遮蔽掩模的重量引起的弯曲，越往所述遮蔽掩模的中央部位所述-->遮蔽掩模和所述基板的间隔越大，难以确保图案的准确性。为解决这样的问题点，以往提案有在基板的上部配置磁性体来改善掩模图案的准确性的方法。图3是表示在形成有金属配线的基板的上部配置磁性体，通过遮蔽掩模在基板上蒸镀蒸镀物质的过程的图示。如图3所示，所述方法利用遮蔽掩模10为金属材料这一点夹着基板30在各自的对面配置遮蔽掩模10和磁铁50，利用磁铁50的引力防止遮蔽掩模10的下垂。但是，在这种情况下，遮蔽掩模10下垂的程度在整个面积上形成梯度，若磁场的强度增加则会过分牵引遮蔽掩模10，其结果，产生损伤基板30表面的问题。另外，在上述的所述遮蔽掩模制作时，通过蚀刻方法和电铸(electroforming)方法来制作。但是，这两种方法都对所述遮蔽掩模的透过区域的集成化和所述遮蔽掩模厚度有限制。另外，蚀刻的方法在所述透过区域间的间隔小于或等于30μm时几乎不能使用，另外还存在不能呈现矩形模样，成直角的部分受到圆形处理的缺点。电铸方法由于以镍为主要成分，故具有耐热弱的缺陷，并且因为所述透过区域间的间隔仅是所述掩模厚度的90％，所述透过区域的集成化困难，制作时间需要约5天左右，难以应对生产日程。另外，在这样的所述遮蔽掩模图案的形成方法中，参照图4，为了在基板30的一面上形成规定结构的成膜层(未图示)，需在掩模框20上固定具有形成有与所述成膜层的结构对应的图案的透过区域12的遮蔽掩模10。此时，遮蔽掩模10在沿箭头A表示的方向施加拉力的状态下通过焊接等固定在掩模框20上。并且，从蒸发源(未图示)沿箭头B方向供给的气相蒸镀物质通过掩模框20的加工区域22和遮蔽掩模10的透过区域12蒸镀在基板30上，并且形成成膜层的规定结构。附图标记11是不形成图案而对掩模框20进行焊接操作而将其固定的固定部。另一方面，掩模图案通过图案形成装置(未图示)的加工而形成在遮蔽掩模10上。为了在遮蔽掩模10上形成图案，如图5所示，在对遮蔽掩模10施加有与固定在掩模框上时对形成有图案的掩模施加的拉力相对应的-->张力的状态下，使所述图案形成装置在遮蔽掩模10的透过区域12沿从一侧向另一侧的方向、例如箭头c方向移动。在以上述方式在遮蔽掩模10上形成图案时，通过施加在遮蔽掩模10上的张力而邻接的图案间的刚性减弱。其结果，在被从四方施加相同大小的张力的掩遮蔽掩模10上形成图案期间，先形成图案的部分刚性弱化，故掩模整体的刚性分布产生偏差，不能得到希望结构的图案。即，在遮蔽掩模中，先形成图案的部分的刚性和没有形成图案的部分的刚性不同，这会造成因张力而使预先形成的图案弯曲或挠曲。特别是，在大面积蒸镀用遮蔽掩模上形成图案时，如上所述形成图案中刚性的偏差现象明显，难以得到希望形成的图案。另一方面，作为记载有现有的与遮蔽掩模图案形成方法有关的技术的文献，包括：公开了有机EL(电致发光)用掩模的专利文献1、记载有遮蔽掩模及使用该遮蔽掩模的有机电场发光显示元件的制造方法的专利文献2、记载有遮蔽掩模及利用该遮蔽掩模的全彩有机EL的制造方法的专利文献3等。专利文献1：韩国专利公开第2004-0054937号说明书专利文献2：韩国专利公开第2003-0077370号说明书专利文献3：韩国专利公开第2002-0027959号说明书
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述现有问题而提出的，其目的在于提供一种遮蔽掩模图案的形成方法，其通过在施加有拉力的状态下首先将遮蔽掩模焊接在掩模框上，并且利用激光形成蒸镀图案，容易制造大面积掩模，并且，加工步骤及设备简单，缩短加工时间。另外，本专利技术另一目的在于提供一种遮蔽掩模图案的形成方法，其在遮蔽掩模上形成规定结构的图案期间通过施加在遮蔽掩模上的拉力，防止在遮蔽掩模上因有无形成图案而产生刚性偏差的现象，由此防止图案弯曲或挠曲。为实现上述目的，本专利技术的遮蔽掩模图案的形成方法包括使遮蔽掩模附着在掩模框上的步骤和在所述已附着的遮蔽掩模上形成图案的步骤。另外，使所述遮蔽掩模附着在所述掩模框上的步骤包括：使所述遮蔽-->掩模邻接在所述掩模框上的步骤；对所述遮蔽掩模施加外力的步骤；在所述掩模框上接合施加有外力的所述遮蔽掩模的步骤。在此，施加在所述遮蔽掩模上的外力最好由前端拉力产生。另外，使所述遮蔽掩模附着在所述掩模框上的接合最好通过焊接来进行。另外，更加理想的是，所述焊接最好通过多个点焊接进行。另外，形成在所述遮蔽掩模上的图案通过激光加工来形成。更加理想的是，在所述遮蔽掩模上形成图案的激光加工通过激光喷水(レ一ザワ一タジエツト)加工来进行。另外，根据本专利技术，在由在对掩模框施加有拉力的状态下固定的固定部和形成有图案的透过区域构成的遮蔽掩模上形成图案的方法中，包括：一边对所述遮蔽掩模施加对应于所述拉力的张力一边固定所述遮蔽掩模的步骤；在已固定的遮蔽掩模的透过区域选定图案形成开始位置的步骤；从所述图案形成开始位置沿螺旋方向的形成路径形成所述图案的步骤。此时，所述螺旋方向形成为从所述遮蔽掩模的透过区域中心朝向外部的方向。或所述螺旋方向形成为从所述遮蔽掩模的透过区域外部朝向中心的方向。另外，所述遮蔽掩模由不锈钢系的材质制作。另外，所述不锈钢系的材质从由SUS304、SUS430以及SUS304+SUS430构成的组中任选其一。另外，根据本专利技术一实施方式，在由在对掩模框施加有拉力的状态下固定的固定部和形成有图案的透过区域构成的遮蔽掩模上形成图案的方法，包括：使具有相对较大厚度的辅助片位于所述遮蔽掩模的下部的步骤；一边对所述遮蔽掩模和辅助片施加对应于所述拉力的张力一边本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，包括：使遮蔽掩模附着在掩模框上的步骤；在所述已附着的遮蔽掩模上形成图案的步骤。

【技术特征摘要】
KR 2005-1-5 958/051.一种遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，包括：使遮蔽掩模附着在掩模框上的步骤；在所述已附着的遮蔽掩模上形成图案的步骤。2.如权利要求1所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，使所述遮蔽掩模附着在所述掩模框上的步骤包括：使所述遮蔽掩模与所述掩模框邻接的步骤；向所述遮蔽掩模施加外力的步骤；在所述掩模框上接合施加有外力的所述遮蔽掩模的步骤。3.如权利要求2所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，对所述遮蔽掩模施加的外力由前端拉力进行。4.如权利要求2所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，使所述遮蔽掩模附着在所述掩模框上的接合通过焊接而进行。5.如权利要求4所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，所述焊接通过多个点焊接来进行。6.如权利要求1所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，形成于所述遮蔽掩模上的图案通过激光加工来形成。7.如权利要求6所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，在所述遮蔽掩模上形成图案的激光加工通过激光喷水加工来进行。8.一种遮蔽掩模图案的形成方法，其在由对掩模框施加有拉力的状态下固定的固定部和形成有图案的透过区域构成的遮蔽掩模上形成图案，其特征在于，包括：一边在所述遮蔽掩模上施加与所述拉力对应的张力一边固定所述遮蔽掩模的步骤；在已固定的遮蔽掩模的透过区域选定图案形成开始位置的步骤；从所述图案形成开始位置沿螺旋方向的形成路径形成所述图案的步骤。9.如权利要求8所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，所述螺旋方向形成为自所述遮蔽掩模的透过区域中心朝向外部的方向。10.如权利要求8所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，所述螺旋方向形成为从所述遮蔽掩模的透过区域的外部朝向中心的方向。11.如权利要求8所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特征在于，所述遮蔽掩模由不锈钢系的材质制作。12.如权利要求11所述的遮蔽掩模图案的形成方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：金振圭，韩尚辰，康熙哲，姜有珍，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]