【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体存储装置,特别涉及SRAM(静态随机访问存储器)。
技术介绍
近年来,由于微细加工技术的进步与系统性能提高的要求,半导体存储装置谋求大容量化与高速化。图8是表示SRAM的一个例子的电路图。多个存储单元(MC)在行方向上配置。所述多个存储单元以规定个数平均分割形成多个子阵列。在子阵列上设有字线(WL)本地位线对(LBL,/LBL)。子阵列的存储单元连接于本地位线对和分别对应的字线(WL)上。在本地位线上连接写入电路和预充电(pre-charge)电路。在写入电路上连接写入用全局(global)位线对(WGBL,/WGBL)。在本地位线(LBL)上连接读出电路。读出电路连接于读出用全局位线(RGBL)。在这样构成的SRAM中,读出电路只在本地位线上连接。这样的单端型读出电路能够减少读出用全局位线的条数。又,如果由于存储单元的容量与配线容量而增大位线容量的负荷,则读出动作变慢。但是,由于如图8所示的SRAM那样将本地位线分层化,所以消减了位线的电容负荷。在对上述SRAM进行访问的情况下,将字线激活。这时,通常在这时只使具有激活的字线的子阵列的本地 ...
【技术保护点】
一种半导体存储装置,其特征在于,具有第1位线及第2位线、有互补的两个存储节点,且各个存储节点通过各选择晶体管连接于所述第1位线与第2位线的存储单元、读出数据时预先将所述第1位线及第2位线充电到规定电位的预充电电路、保持所述第1位线及第2位线的电位的保持电路、连接于所述第1位线的读出电路、以及一端的端子连接于所述第2位线,而另一端的端子连接于地线,且从所述第2位线泄漏电流的泄漏电路。
【技术特征摘要】
US 2004-3-11 2004-0692531.一种半导体存储装置,其特征在于,具有第1位线及第2位线、有互补的两个存储节点,且各个存储节点通过各选择晶体管连接于所述第1位线与第2位线的存储单元、读出数据时预先将所述第1位线及第2位线充电到规定电位的预充电电路、保持所述第1位线及第2位线的电位的保持电路、连接于所述第1位线的读出电路、以及一端的端子连接于所述第2位线,而另一端的端子连接于地线,且从所述第2位线泄漏电流的泄漏电路。2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于,所述充电电路充电到高电平,所述保持电路在所述第1位线和...
【专利技术属性】
技术研发人员:菅原毅,藤本幸宏,
申请(专利权)人:株式会社东芝,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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