磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法技术

在包括化学强化工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在玻璃基板的主表面的整个面上充分地进行化学强化处理，谋求磁头的低浮起化，提供可以进行高密度信息记录，特别是，很适合用于便携式信息设备用的小型的硬盘驱动器的磁盘用玻璃基板。在使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序中，使化学强化处理液相对于玻璃基板流动，或者，使玻璃基板相对于化学强化处理液移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及构成作为磁盘装置的硬盘驱动器(HDD)等所使用的磁盘的磁盘用玻璃基板的制造方法，以及使用该磁盘用玻璃基板的磁盘的制造方法。
技术介绍
近年，信息记录技术，特别是，磁记录技术，随着所谓的IT产业的发展而要求飞跃的技术革新。并且，在搭载在作为用作计算机用存储器登的磁盘装置的硬盘驱动器(HDD)上的磁盘中，与磁带和软盘等其他的磁记录介质不同，延续了急速的信息记录密度的增大化。并且，可以容纳在个人计算机装置内的硬盘驱动器的信息记录容量，由这种磁盘的信息记录密度的增大支持，从而飞跃地增加。这种磁盘，通过将磁记录层等在玻璃基板或铝类合金基板等基板上成膜而构成。并且，在硬盘驱动器中，一面使磁头在被高速旋转的磁盘上浮起飞行，一面通过该磁头，将信息信号作为磁化图形记录在磁记录层上，而且，进行再生。近年，在这种磁盘中，信息记录密度达到每1平方英寸超过40GB，进而，还要实现每1平方英寸超过100GB的超高记录密度。这样可以实现较高的信息记录密度的近年的磁盘，与以往的软盘等磁盘相比，具有即便非常小的磁盘面积，也能够容纳在实用方面足够的信息量的特征。另外，这种磁盘，与其他的信息记录介质相比，具有信息的记录速度和再生速度(应答速度)极为敏捷，并可以进行信息的随时录入以及读出的特征。着眼于这种磁盘的各种特征的结果，是近年来，要求可以搭载在所谓的手机、数码相机、便携式信息设备(例如，PDA(personal digitalassistant))、或者、车辆行驶用信息系统等这样筐体比个人计算机装置小的多，并且要求较高的应答速度的便携式设备上的小型的硬盘驱动器。随着对于将硬盘驱动器搭载在便携式设备上(所谓的“移动用途”)的要求提高，作为磁盘用的基板，由作为硬质材料的玻璃构成的玻璃基板成为主流。这是因为，玻璃基板与由作为软质材料的金属构成的基板相比，强度高，并且刚性高。另外，在玻璃基板上，可以得到平滑的表面，因此可以将一面在磁盘上浮起飞行一面进行记录再生的磁头的浮起量狭窄化(低浮起化)，并可以得到较高信息记录密度的磁盘。但是，玻璃基板是脆性材料。因此，始终以来，提出了各种玻璃基板的强化方法。例如，提出了如下的化学强化处理，即，通过将玻璃基板，在于化学强化槽中加热到300℃左右的硝酸钠(NaNO3)或硝酸钾(KNO3)等化学强化液(硝酸盐溶液)中浸泡规定时间，将玻璃基板中的表层部的锂离子(Li+)置换成纳离子(Na+)或钾离子(K+)，或者，将玻璃基板中的表层部的纳离子(Na+)置换成钾离子(K+)，在两面的表层部形成压缩应力层，使这些压缩应力层之间成为拉伸应力层。并且，在日本专利公开2003-146703公报以及日本专利公开2003-201148公报中，记载了在这样的化学强化处理工序中，用于在化学强化槽中保持玻璃基板的支架。这些专利文献所记载的支架，在玻璃基板的周缘部分(端面)上具备接触玻璃基板的多个支撑部件，通过这些支撑部件支撑玻璃基板的周缘部分(端面)的多个部位，从而在化学强化槽中保持玻璃基板。进而，在日本专利第3172107号公报中，记载了如下的技术，即，在所述的化学强化处理工序中，通过用不锈钢合金形成化学强化槽以及保持玻璃基板的支架，防止来自于这些化学强化槽和支架的灰尘。可是，近年来，要求磁盘的小径化、薄型化，所述玻璃基板的小径化、薄型化正在发展。例如，用于制造搭载在“1英寸型HDD”上的磁盘的玻璃基板的直径是大约27.4mm，厚度是0.381mm。另外，用于制造搭载在“0.85英寸型HDD”上的磁盘的磁盘用玻璃基板的直径是大约21.6mm。这种薄型的玻璃基板，在所述的化学强化工序之前，容易产生波纹，并有波纹度(波纹)(Wa)恶化的可能。再者，波纹度(Wa)，可以用Wa来表示，所述Wa是用非接触激光干涉法，测定由从玻璃基板的表面内的中心离开规定距离的点构成的2个同心圆所围成的区域的、波长为300μm至5mm的波纹的平均高度。波纹的平均高度Wa，可以通过以下的公式求出。Wa＝(1/N)∑i＝1N|xi-xa|在此，xi，是测定点的测定点值(测定点的从基准线到测定曲线的高度)，xa，是测定点值的平均值，N，是测定点数。另外，在化学强化工序中，使玻璃基板在化学强化液中浸泡规定时间，这期间，用于保持该玻璃基板的支架接触玻璃基板的周缘部分(端面)等。因此，在该化学强化处理工序中，在对于玻璃基板的支架的接触部位的附近，有可能化学强化处理不能充分地进行。另外，特别是，由于玻璃基板的小径化，支架相对地变大，将该支架变细缩小的做法，从保持支架的刚性的观点来看，在某种程度上是有界限的。因此，相对于玻璃基板，支架便相对地变大，这种现象很显著。如果在玻璃基板上存在不能充分地进行化学强化处理的部位，在该玻璃基板的表层部上，压缩应力的分布变得不一样，波纹度(Wa)有可能进一步劣化。如果玻璃基板的表面部的波纹度(Wa)劣化到超过1nm左右，在用该玻璃基板构成的磁盘中，在磁头的浮起上产生影响。到目前为止，这种程度的波纹度(Wa)的劣化还没有成为问题，但由于低浮起化，这种程度的波纹度(Wa)的劣化便成了问题。再者，在此，考虑通过扩大化学强化处理槽内的玻璃基板之间的间隔来进行改善。但是，在这样的解决方法中，用一个化学强化处理槽可以处理的玻璃基板的片数减少，可能有损批量生产性，在要求低成本化的小径的玻璃基板中，不能说是优选的方法。
技术实现思路
于是，本专利技术，是鉴于所述的实情而实施的，其目的在于，提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法在包括使含有离子半径比玻璃基板所含有的离子的离子半径大的离子的化学强化处理液，和玻璃基板接触，从而使它们进行离子交换，在玻璃基板的两个主表面侧的表层部分形成压缩应力层，同时在这些压缩应力层之间形成拉伸应力层的化学强化工序，通过在玻璃基板的主表面的整个面上充分地进行化学强化处理，使玻璃基板的表层部的压缩应力的分布相同，由此将波纹度(Wa)保持在小于等于某个数值，使滑行高度达到小于等于所需数值，谋求磁头的低浮起化，可以制造出能够进行高密度信息记录，特别是很适合用于便携式信息设备用的小型的硬盘驱动器的磁盘。另外，本专利技术，提供通过用这种磁盘用玻璃基板，可以制造谋求磁头的低浮起化，可以进行高密度信息记录，特别是，很适合用于便携式信息设备用的小型的硬盘驱动器的磁盘的磁盘的制造方法。本专利技术者，进行要解决的所述问题的研究的结果，发现在化学强化工序中，通过适当控制玻璃基板和化学强化处理液的相对的移动，就可以解决所述问题。即，本专利技术具有以下构成中的任意一个。(构成1)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序，其特征在于，在化学强化工序中，使化学强化处理液相对于玻璃基板流动。(构成2)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序，其特征在于，在化学强化工序中，使玻璃基板相对于化学强化处理液移动。(构成3)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具有构成2，其特征在于，玻璃基板的相对于化学强化处理液的移动，通过使保持玻璃基板的支架在化学强化处理液中以规定的周期摇动的方式进行。(构成4)本专利技术的磁盘的制造方法，其特征在于，在通过具有构成1至3的任意本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板的制造方法，它是包括使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于：在所述化学强化工序中，使所述化学强化处理液相对于所述玻璃基板流动。

【技术特征摘要】
JP 2005-6-3 2005-1641671.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，它是包括使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于在所述化学强化工序中，使所述化学强化处理液相对于所述玻璃基板流动。2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，它是包括使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于在所述化学强化工序中，使所述玻璃基板相对于所述化学强化处理液移动。3.如权利要求2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于所述玻璃基板的相对于所述化学强化处理液的移动，通过使保持所述玻璃基板的支架在所述化...

【专利技术属性】
技术研发人员：磯野英树，岩田胜行，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]