信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘制造技术

技术编号:3982022 阅读:140 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的目的在于提供一种耐酸性和耐候性良好的信息记录介质基板用玻璃。一种信息记录介质基板用玻璃,其特征在于,基于下述氧化物以摩尔%表示时,所述玻璃包含:61~72%的SiO2、3~12%的Al2O3、0~14.3%的Li2O、0~22%的Na2O、0~22%的K2O、4~13%的MgO、0~6%的TiO2和0~5%的ZrO2;限制条件是:Li2O、Na2O和K2O的总含量、即R2O的含量为8~22%,Li2O的含量和R2O的含量之比Li2O/R2O至多为0.52,Na2O的含量和R2O的含量之比Na2O/R2O至少为0.35,K2O的含量和R2O的含量之比K2O/R2O至少为0.45。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及例如磁盘(硬盘)等信息记录介质基板所用的玻璃、信息记录介质用 玻璃基板以及磁盘。
技术介绍
玻璃基板被广泛用作信息记录介质、特别是磁盘用的基板,已知一种市售玻璃基 板,该玻璃基板的组成以摩尔%表示包含65. 4 %的Si02、8. 6 %的A1203、12. 5 %的Li20、 10. 5%的Na20和3. 0%的&02。该市售玻璃经过化学强化处理以便使用。另一方面,专利文献1提出了一种未经过化学强化处理的磁盘用基板玻璃。专利文献1 JP-A-2002-358626 (表 1 14)在磁盘用玻璃基板的抛光或洗涤工序中使用低pH的酸,所以要求磁盘用玻璃基 板在抛光或洗涤工序中在低PH条件下不会发生表面粗糙,也即具有耐酸性。此外,通过使 用具有低PH的酸,可提高抛光速率或洗涤工序中除去缺陷的能力。但是,对于耐酸性低的 玻璃,如果使用具有低PH的酸,则抛光速率降低,或者在洗涤后容易有缺陷残留,导致质量变差。要求磁盘用玻璃基板具有以下性质形成于基板上的膜、例如基底膜、磁性膜、保 护膜不会因储存过程中的显著的表面状况变化而剥离,即要求具有耐候性。例如Li、Na、K 等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种信息记录介质基板用玻璃,其特征在于,基于下述氧化物以摩尔%表示时,包含:61~72%的SiO↓[2]、3~12%的Al↓[2]O↓[3]、0~14.3%的Li↓[2]O、0~22%的Na↓[2]O、0~22%的K↓[2]O、4~13%的MgO、0~6%的TiO↓[2]和0~5%的ZrO↓[2];限制条件是:Li↓[2]O、Na↓[2]O和K↓[2]O的总含量、即R↓[2]O的含量为8~22%,Li↓[2]O的含量和R↓[2]O的含量之比Li↓[2]O/R↓[2]O至多为0.52,Na↓[2]O的含量和R↓[2]O的含量之比Na↓[2]O/R↓[2]O至少为0.35,K↓[2]O的含量和R↓...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:远藤淳长嶋达雄中岛哲也MD雷耶斯
申请(专利权)人:旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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