制备卤化银乳剂的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种制备卤化银乳剂的装置，其中该装置的工艺条件是，在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内，任意控制在卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距，使其维持在如下所限定的：平均颗粒间距＝（反应混合液的体积／反应混合液中的颗粒数量）↑［１／３］。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于制备卤化银光敏感材料中的卤化银乳剂的装置和方法，更具体地说，本专利技术涉及一种生产成本较低，感光度较高，且具有优良颗粒性和抗压性的卤化银乳剂的制备装置和制备方法。近来，随着自动聚焦单镜头反光照相机和预装一次用照相机的普及，摄影变得越来越流行，需要功能扩展且价格较低的卤化银光敏感光材料。因此，需要开发一种生产成本和感光性能，如感光度、颗粒性和清晰度，更相适应的卤化银感光乳剂。在其生产和使用过程中，卤化银感光材料要承受各种压力。例如，在通常使用中，在进行切割和打孔处理时，感光底片经常承受较大的压力，并且当穿过照相机输送底片时，会使其弯曲或划伤。从所周知，当在卤化银感光材料上施加各种压力时，感光性能会发生变化，因此需要一种将这种压力影响减小到最小的技术。提高卤化银感光材料的感光度和图像质量的一个重要因素是卤化银颗粒，为了改进感光度和图像质量，对卤化银颗粒进行充分显影。为了提高图像质量，通常，通过减小颗粒度来增加单位给定卤化银量的颗粒数量是有效的，由此增加彩色显影点的数量(也就是显出单元数量)。然而，减少颗粒度会降低感光度，因此，很难同时得到满意的高感光度和高的图像质量。为了进一步提高感光度和图像质量，已经研制了一种提高感光度与每一种卤化银颗粒颗粒尺寸之比的技术；在JP-A58-111935，58-111936，58-111937，59-113927和59-99433(这里，术语“JP-A”指的是未审查的但已经公开日本专利)中公开了采用片状卤化银颗粒的技术。与卤化银规则的晶体颗粒，如六角形、八角形或十二角形颗粒相比，每一种片状卤化银颗粒单位体积都有较大的表面积，由此可使大量增感染料吸附在颗粒表面，提高了感光度，包括改进了光谱增感效率。在众多的旨在提高感光度和图像质量的用于改进卤化银乳剂的技术中，最基本和重要的一项技术是制备单分散卤化银颗粒乳剂。由于在较大粒径颗粒与较小粒径颗粒之间，最佳化学增感或光谱增感的条件有一定的差异，因此，很难对既有较大颗粒又有较小颗粒的卤化银乳剂进行最佳化学增感，也就是说，具有宽粒径分布的乳剂经常会引起灰雾密度增大或化学增感不充分。另一方面，在单分散卤化银乳剂(粒径分布窄)的情况下，很容易提供最佳化学增感或光谱增感，由此可以制备一种具有高感光度、低灰雾和优良颗粒性的卤化银乳剂。作为制备分散卤化银片状颗粒乳剂的技术，JP-A1-213637公开了一种带有两个平行双晶面的单分散片状颗粒，改进感光度和颗粒性的技术。JP-A5-173268和6-202258公开了制备粒径分布窄的卤化银片状颗粒乳剂的技术。应当注意，上述技术都是针对单分散卤化银片状颗粒，其中颗粒之间等效圆直径有小的波动。如本专业众所周知的那样，片状颗粒的粒径可以根据至少两个参数确定，即一个是片状颗粒的等效圆直径，另一个是颗粒的厚度。换句话说，即使仅相应于片状颗粒的等效圆直径的分布窄，相应于粒径的片状颗粒的分布也不会窄。在片状粒径分布宽的情况下，由于感光度的波动和显影能力的差异，会产生如颗粒性变坏的诸多问题。JP-A6-258744公开了一种通过使用单分散卤化银片状颗粒，改进感光度、反差、抗压性、潜影稳定性的工艺，该卤化银状颗粒具有大于或等于2的纵横尺寸比，并在颗粒内部含有卤化物组份不同的区域，其中单分散颗粒这种说法表示那些片状颗粒的等效圆直径变化很小的颗粒。然而，上述专利描述的工艺没有包括任何减少卤化银片状颗粒乳剂生产成本的内容。JP-A5-210188公开了一种在维持颗粒之间的距离为0.1～3.0μm的条件下，制备含有10～45mol％碘化物芯颗粒技术。(这里，尽管两者有不同的定义，但颗粒之间的上述距离除以0.89几乎等于本专利技术所限定的颗粒之间的平均距离)。然而，上述技术既没有包括任何在颗粒生长过程中任意控制颗粒间的平均距离的任何意向，也没有包括具体措施。JP-A公开了一种在片状卤化银颗粒中引入位错线，以增强感光度的工艺。如众所周知的那样，向卤化银颗粒施加压力会导致灰雾或减感，且当承受压力时，引入位错线的卤化银颗粒显示出明显的减感性。JP-A3-189642公开了一种由纵横比大于或等于2，条纹部分的位错线大于或等于10的单分散片状颗粒组成的卤化银乳剂。然而，已证实，不能根据这项工艺改进由于压力和引进位错线导致的明显的减感。在卤化银乳剂的显影中，除了感光性能以外，重要的一点是生产成本问题。在生产成本方面，优选的方法是增加每一批生产乳剂的量。换句话说，就是增加反应器中卤化银的产量，在完成颗粒生长的同时制备卤化银乳剂。因此，它能够增加乳剂中卤化银的浓度，同时完成颗粒生长。JP-B59-43727和JP-A3-140946公开了一种在乳剂制备过程中，采用超滤来浓缩反应产物(卤化银乳剂)体积的技术(这里，术语JP-B指的是审查后出版的日本专利)。然而，这项公开技术都没有提到任何关于制备片状颗粒，尤其是单分散卤化银片状颗粒乳剂的内容，在制备卤化银乳剂的过程中，也没有试图控制平均颗粒间距。JP-A6-67326公开了一种制备卤化银片状颗粒乳剂的方法，其中采用超滤浓缩反应产物的体积，以便提高卤化银的产量，并得到具有中等纵横比的片状颗粒。根据该专利公开的内容，利用了片状颗粒的纵横比随浓度降低的现象，在颗粒生成过程中，通过超滤，浓缩含有高纵横比的片状颗粒的反应混合物，可以得到具有中等纵横比的片状颗粒。通常，纵横比越高，越难于得到单分散片状颗粒。由于通常很难制备具有高纵横比的单分散片状颗粒，所以，不能期望通过浓缩高纵横比的片状颗粒乳剂，来得到具有低纵横比的单分散片状颗粒。事实上，本文所公开的卤化银乳剂，包括专利技术的和对照的乳剂，等效圆直径的变化系数都大于或等于0.3，因此，不能够解决与常规片状颗粒的照相性能有关的各种问题。另外，上述公开内容没有给出与制备卤化银乳剂的装置有关的教导。因此，本专利技术的一个目的是提供一种具有高感光度和优良颗粒性，在生产成本和抗压性方面得到改进的卤化银乳剂，以及制备具有上述性能的片状卤化银乳剂的装置和方法。本专利技术的上述目的能够通过下述措施实现(1)一种通过使银盐与卤盐在溶液中反应，制备卤化银乳剂的装置，其中该装置具有这样的工艺条件，使得可以在卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内任意控制卤化银乳剂中的卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距，使其维持直至生长完成平均颗粒间距＝(反应混合液的体积/反应混合液中的颗粒数量)1/3；(2)制备如上述(1)所述的卤化银乳剂的装置，其中在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内，在卤化银乳剂中卤化银颗粒的生长过程中，控制平均颗粒间距，使其维持在颗粒生长开始时的平均颗粒间距的不小于0.60倍，到不大于1.15倍；(3)制备如上述(1)或(2)所述的卤化银乳剂的装置，其中控制颗粒生长过程中反应混合液的体积，并使其维持在颗粒生长开始时的反应混合液的体积的不小于0.22倍且不大于1.52倍；(4)制备如上述(1)、(2)或(3)所述的卤化银乳剂的装置，其中颗粒生长是在借助超滤以最佳方式从反应混合液中排走含盐的水溶液的同时完成的；(5)制备如上述(1)至(4)中任何一项所述的卤化银乳剂的装置，其中任意控制通过超滤膜分离出来的可溶盐溶液的渗透流量；(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备卤化银乳剂的装置，其中该装置的工艺条件是，在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内，任意控制在卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距，使其维持：平均颗粒间距＝（反应混合液的体积／反应混合液中的颗粒数量）↑［１／３］ 。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高田宏，石川贞康，伊藤聪，
申请(专利权)人：柯尼卡株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]