激光曝光单元制造技术

一种曝光设备，该设备有：第一激光源，第一激光源的光量受到直接调制且发射具有第一波长的第一激光束；第二激光源，其发射具有第二波长的第二激光束，所述第二波长与第一波长不同；声光调制元件，其用于调制第二激光束的光量。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种激光曝光单元，更确切地说涉及这样一种激光曝光单元，其中至少用两个或更多个不同波长的激光束对记录介质进行扫描，对彩色图像曝光而使其成像。作为使彩色图像曝光而成像的激光曝光单元，公知的有将对应于B(蓝)、G(绿)和R(红)的三波长气体激光器(氩激光器、氦氖激光器和其它激光器)与声光调制元件(以下称之为AOM)结合使用的单元和具有可对三波长半导体激光器进行直接调制(内调制)之结构的单元。然而，在气体激光器中，特别是通常作为B光源使用的氩激光器存在的问题是单元的尺寸太大而且生产成本高。此外，在用传统的AOM进行调制时，会使从气体激光器发出的激光束直接进入AOM。在这种情况下，曝光速度受到AOM调制速度的制约，这使得无法有效地提高曝光速度。另一方面，如果把对红色波长或更长的波长敏感的感光材料用于C(青色)、M(品红色)和Y(黄色)三层，那么就可以用不太贵的半导体激光器作为所有光源。然而，问题是具有上述特性的感光材料很难设计、生产和保管，而且这种感光材料本身的价格很费。此外，由于所用的红色波长或更长的波长使三个波长彼此很靠近，所以可能会出现相邻波长相互干涉的问题。基于上述问题而提出了本专利技术，本专利技术的第一目的是提供一种激光曝光单元，这种曝光单元尺寸紧凑、成本低而且能在高速下使彩色图像稳定地曝光。下面将说明与多个激光束有关且由本专利技术解决的问题。在包含光源部分、光束排列光学系统和运动装置的图像记录设备中，通过控制流过激光二极管的电流可以调节激光束的强度，其中在光源部分多个具有相同波长的激光二极管排成一排，光束排列光学系统使从多个激光二极管发出的激光束沿辅助扫描方向在记录材料上排成一排，运动装置使从多个激光二极管发出的激光束和记录材料在主扫描方向上产生相对运动。然而，在上述图像记录设备中，需要通过控制流过激光二极管的电流来完成为使所有激光束具有相同强度而进行的调整以及对从多个激光二极管射出的所有激光束之曝光强度的调整。虽然并不需要频繁地进行为使所有激光束具有相同强度而实施的调整，但是当输出图像的再现色调发生变化和当记录介质发生变化时则需要使多个激光二极管发出的所有激光束的曝光强度发生相应变化，这就需要快速进行调整。但是，流过激光二极管的电流和发光量并不成比例关系，而且电流和发光量之间的关系随每个激光二极管而变化，并且关系的变化随时间的推移而不同。因此，当输出图像的再现色调发生变化和改变记录介质时，需要设置一个用于对从每个激光二极管发出的每个激光束的光束强度进行测量的测量装置，和根据由测量装置测得的每个激光束的光束强度经常调整流过多个激光二极管中每个激光二极管的电流，而这是费时的。通常用光学系统测量来自每个激光二极管的激光束之光束强度，并由此调整流过多个激光二极管中每个激光二极管的电流。然而，上述系统只对调整因激光二极管的发光强度随时间发生的变化引起的光束强度的变化有效，而该系统不能调整因光轴改变而引起的光强变化。在传统的单元中，需要使来自每个激光二极管之激光束的记录位置与主扫描方向相一致以便使记录材料上的记录位置不出现偏差。因此，需要在系统安装前或在使用一段时间后对每个单元进行精确调整。本专利技术的第二个目的是解决与多个光束有关的问题并由此得到以下各项结果。在短时间内用简单和稳定的方式在需经常改变输出图像的再现色调和改变记录材料的情况下使从多个激光二极管发出所有激光束的曝光强度发生变化。对不仅因激光束的发光强度随时间发生变化而且还因光轴变化引起的包含光束强度变化的每个激光束的光束强度之变化进行令人满意的校正。本专利技术的第一目的可以通过以下结构获得。一种曝光设备包括按光量进行直接调制和发射具有第一波长之激光束的第一激光源；用于发射第二激光束的第二激光源，所说第二激光束具有与第一波长不同的第二波长；和用于按光量调制第二激光束的声光调制元件。此外，通过下面1-9项所述的优选结构可达到本专利技术的第一目的。第一项用至少两个或多个不同波长的激光束扫描记录介质对图像进行曝光以成像的激光曝光单元，该单元由通过直接调制方式根据光量调制的激光束和由声光调制元件根据光量调制的激光束组合构成。在上述结构中，通过将受直接调制(内调制)的激光束和受声光调制元件(AOM)外调制的激光束相互组合进行图像曝光。第二项在该激光曝光单元中，用直接调制方式根据光量调制的激光束是半导体激光而用声光调制元件根据光量调制的激光束是气体激光或固体激光。在上述结构中，就半导体激光器而言，通过流过半导体激光器之电流的通(ON)和断(OFF)进行与图像信号相应的光量调制，而就气体激光器或固体激光器的输出而言，通过声光调制元件(AOM)进行与图像信号相应的光量调制。上述气体激光器最好是使用He-Ne激光器，而固体激光器最好是使用激励固体激光器的激光二极管(LD)。此外，使用的结构最好是将一个CMY感光层作为记录介质，该记录介质是由对红外光敏感的感光材料制成的，通过将光源变成红外光而用气体激光器或固体激光器作为短波长光源(G光源)，和用半导体激光器作为具有两种波长而不是上述短波的光源(R和红外光源)。第三项激光曝光单元中设有光束形成光学装置，该装置使通过直接调制方式根据光量调制的半导体激光器的光束形状与由声光调制元件根据光量调制的气体激光器或固体激光器的光束形状相一致。由于气体激光器或固体激光器的光束形状是完整的圆形而半导体激光器的光束形状通常是椭圆的，所以应使半导体激光器的光束形状成为完整的圆形以使每种波的光束形状与其它光束形状相同。第四项在该激光曝光单元中，设有入射光直径减小装置和光束直径恢复装置，其中入射光直径减小装置可减小进入声光调制元件的激光束直径，而光束直径恢复装置可以使从声光调制元件射出并被入射光直径减小装置减小的激光束直径恢复到它原来的直径。由于声光调制元件(AOM)中的响应速度取决于光束直径，所以要在激光束进入AOM之前减小激光束的直径以提高响应速度，然后使激光束进入AOM并在其中得以调制，随后使激光束的直径恢复原状。第五项在该激光曝光单元中设有曝光定时调整装置，激光定时调整装置使直接调制的激光束与由声光调制元件根据光量调制的激光束之间的曝光时间同步。在上述结构中，设置使曝光时间同步的装置是因为与激光束的直接调制相比，在AOM的调制模式中存在滞后。具体地说，通过使光束位置偏移上述滞后量或使直接调制的调制数据滞后AOM的滞后量便可以使曝光时间同步。第六项在该激光曝光单元中设有减小光束直径的光学装置，所说减小光束直径的光学装置把激光束减小到预期的光束直径并把减小了直径的光束作为准直光束投射到记录介质上。在上述结构中，当通过减小直径扫描记录介质以曝光时，将减小了直径的准直光束，即不管透镜距离怎样其直径不发生变化的光束，投射到记录介质上。第七项将激光曝光单元设计成用关于每种波长的多个激光束扫描记录介质以进行曝光并由声光调制元件同时调制多个激光束，其中设有一个间距改变装置，该装置使通过直接调制方式根据光量调制的激光束特性与声光调制元件中的激光束特性相一致。在上述结构中，通过用各种波长的多个激光束和由声光调制元件同时调制的多个激光束对记录介质进行扫描曝光的结构，改变直接调制的激光束间距使直接调制的激光束特性与用声光调制元件同时调制的多个激光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光设备，包括：第一激光源，其光量受到直接调制并发射具有第一波长的第一激光束；第二激光源，其发射具有第二波长的第二激光束，所述第二波长不同于第一波长；和声光调制元件，其用于调制第二激光束的光量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田胜司，米山努，土居正人，
申请(专利权)人：柯尼卡株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]