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中密度DNA(基因)芯片制作方法技术

技术编号:2600653 阅读:225 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种中密度DNA(基因)制作方法。它是先将待检测的DNA序列找出,并进行探针的合成,合成后在5’末端进行活性基团的修饰,然后启动DNA点样装置,将DNA送至指定的位置,并使点样针与玻片接触;在一组玻片的相应位置循环点样,制作100~1000探针/cm↑[2]的DNA芯片。当一次DNA样本点样完成后,触发点样针淋洗干燥系统。在完成DNA点样后,可以进行DNA的杂交,扫描获得的图像。该方法操作简便,成本低廉。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是涉及中密度DNA(基因)芯片的制作方法。现有基因芯片制作技术都处在研究之中,至今尚无成熟的技术或产品问世。目前正在研究的芯片制作技术主要分两大类,即激光光刻/光学导向合成技术和三维机器人DNA点样系统。激光光刻/光学导向合成技术以美国Affymatrix公司为唯一代表。Affymatrix公司是光刻导向合成芯片制作技术的始创者。该技术通过激光制作细微光孔的光学屏蔽板,然后在利用光孔的导向作用直接指导在芯片上的DNA寡核苷酸探针合成,(http//www.affymatrix.com)。该技术可以获得密度很高的DNA寡核苷酸探针点阵芯片,但该技术需要昂贵的专用激光设备,制作过程复杂、时间长、质量不易控制,特别是在光导合成过程中对特定碱基的选择还没有达到足够的特导性。另外由该技术制作的芯片,也必须由专用配套的激光扫描检测设备进行检测。三维机器人DNA点样系统由美国斯坦福大学首创并在1998年3月在网络上公布(http//cmgm stanford.edu/pbrown/),其后世界上其它少数实验室也开始跟进,然而至今也未见成熟推向市场的产品和系统的制作技术。该技术操作的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中密度DNA(基因)芯片制作方法:它包括先将各种待检测的DNA序列找出,并进行探针的合成,合成后在5’末端进行活性基团的修饰,采用点样机点样,其特征在于所说点样机点样是在一块平板上,顶部安置X轴的直线驱动装置[1],在微型步进电机的控制下驱动固定在X轴上的Y轴[2]作左右来回移动,而在Y轴也在微型步进电机的控制下以相同的分辨率步距驱动连接在Y轴上的DNA样本打印装置[3]和打印针[7]作前后来回移动,这样,两个微型步进电机和DNA打印头分别在驱动程序的控制下,精确地作三维空间的定位和打印,将DNA送至指定的位置,并使点样针[11]与玻片[4]接触,在每一片玻片上相应位置点样,每次循环点样后...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨梦甦缪金明
申请(专利权)人:杨梦甦
类型:发明
国别省市:HK[中国|香港]

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