有双重冷却系统的多晶硅还原炉技术方案

有双重冷却系统的多晶硅还原炉，主要由底盘、含夹套冷却水的钟罩式双层炉体、电极、视镜孔、混和气进气管、混和气尾气出气管、炉体冷却水进水管、炉体冷却水出水管、底盘冷却水进水管、底盘冷却水出水管、电极冷却水进水管、电极冷却水出水管及其他附属部件组成，炉体主体采用不锈钢材质制成，以减少设备材质对产品的污染，其特征是在还原炉夹套内上部增加低温冷却盘管和对还原炉夹套进行隔离分为两个冷却系统，通过对还原炉上部和下部用不同温度的冷却水进行冷却，抵消由于热对流的影响导致还原炉内上部温度高于下部温度的现象，使炉内上下部温度均衡，有利于多晶硅均匀的在硅芯上沉积。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

有双重冷却系统的多晶硅还原炉
本专利技术涉及一种多晶硅还原炉，主要是用于化学气相沉积法生产多晶硅的 还原炉。
技术介绍
目前，国内外生产多晶硅的主要工艺技术仍以"改良西门子法"为主，约占 总产量的百分之七十五左右，其主要方法是用氯气和氢气合成氯化氢，氯化 氢和硅粉在--定温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提 纯后的高纯三氯氢硅与氢气按比例混合后，在一定的温度和压力下通入多晶硅还原炉内，在直径3至5毫米、长约2. 3至2. 5米的导电硅芯上进行还原反应 沉积生成多晶硅，还原反应温度控制在1080摄氏度左右，最终生成直径20厘 米左右、长约2.4米的棒状多晶硅，同时生成四氯化硅、二氯二氢硅、氯化氢 等副产物。多晶硅还原炉是"改良西门子法"生产多晶硅的主要设备，由底盘、含夹 套冷却水的钟罩式双层炉体、电极、视镜孔、混和气进气管、混和气尾气出气 管、炉体冷却水进水管、炉体冷却水出水管、底盘冷却水进水管、底盘冷却水 出水管、电极冷却水进水管、电极冷却水出水管及其他附属部件组成，炉体主 体采用不锈钢材质制成，以减少设备材质对产品的污染，每对电极分正、负极 均匀的设置在底本文档来自技高网...

【技术保护点】
有双重冷却系统的多晶硅还原炉主要由底盘、含夹套冷却水的钟罩式双层炉体、电极、视镜孔、混和气进气管、混和气出气管、炉体冷却水进水管、炉体冷却水出水管、底盘冷却水进水管、底盘冷却水出水管、电极冷却水进水管、电极冷却水出水管及其他附属部件组成，炉体主体采用不锈钢材质制成，以减少设备材质对产品的污染，每对电极分正、负极均匀的设置在底盘上，混和气进气管分为数个喷口均匀设置在底盘上，混和气出气管设置在底盘中心位置，其特征是在还原炉夹套内的上部增加低温冷却盘管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱青松，王存惠，
申请(专利权)人：朱青松，王存惠，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]