一种晶圆共用背检平台制造技术

本实用新型专利技术提供一种晶圆共用背检平台。所述晶圆共用背检平台底座；显微镜，所述显微镜设置于所述底座的上方；共用圆盘，所述共用圆盘设置于所述底座的上方，所述共用圆盘的一侧开设有辅助槽，并且共用圆盘的顶部设置有防护板，所述共用圆盘、所述辅助槽和所述防护板之间形成一个共用平台，共用平台适用于8吋和12吋晶圆的检测，所述辅助槽内部与所述底座的侧面之间相互连通。本实用新型专利技术提供的晶圆共用背检平台具有采用共用平台，共用治具进行背面检查时，不需要在更换单独平台，和操作显微镜机台，提升公司设备使用效率，共用治具进行背面检查时，不需要在更换单独平台，减少平台在显微镜机台操作平台上摩擦，有效的保护平台的平整度，粗糙度。

A common wafer back testing platform

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆共用背检平台
本技术涉及晶圆测量辅助设备领域，尤其涉及一种晶圆共用背检平台。
技术介绍
在显微镜机台上量测晶圆背面数据时，区分8吋和12吋含铁框晶圆，不同尺寸量测时，需更换不同尺寸量测平台。在现有技术中，现有的量测平台有不同种类，8吋和12吋背检平台各一只，对应相同晶圆的背检，更换治具时，容易划伤显微镜操作平台，拉长检测晶圆的时间。因此，有必要提供一种晶圆共用背检平台解决上述技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种晶圆共用背检平台，解决了检验晶圆时需要更换相对应背检平台才可以量测，拉长作业时间和造成显微镜操作平台划伤的问题。为解决上述技术问题，本技术提供的晶圆共用背检平台包括：底座；显微镜，所述显微镜设置于所述底座的上方；共用圆盘，所述共用圆盘设置于所述底座的上方，所述共用圆盘的一侧开设有辅助槽，并且共用圆盘的顶部设置有防护板。优选的，所述共用圆盘、所述辅助槽和所述防护板之间形成一个共用平台，共用平台适用于8吋和12吋晶圆的检测。优选的，所述辅助槽内部与所述底座的侧面之间相互连通，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆共用背检平台，其特征在于，包括：/n底座；/n显微镜，所述显微镜设置于所述底座的上方；/n共用圆盘，所述共用圆盘设置于所述底座的上方，所述共用圆盘的一侧开设有辅助槽，并且共用圆盘的顶部设置有防护板。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶圆共用背检平台，其特征在于，包括：
底座；
显微镜，所述显微镜设置于所述底座的上方；
共用圆盘，所述共用圆盘设置于所述底座的上方，所述共用圆盘的一侧开设有辅助槽，并且共用圆盘的顶部设置有防护板。


2.根据权利要求1所述的晶圆共用背检平台，其特征在于，所述共用圆盘、所述辅助槽和所述防护板之间形成一个共用平台，共用平台适用于8吋和12吋晶圆的检测。


3.根据权利要求1所述的晶圆共用背检平台，其特征在于，所述辅助槽内部与所述底座的侧面之间相互连通，并且辅助槽的尺寸与真空笔的尺寸相适配。


4.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐冉冉，吴秋明，钟志芳，陈志远，
申请(专利权)人：合肥新汇成微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34