【技术实现步骤摘要】
半导体封装件和制造该半导体封装件的方法于2018年2月6日在韩国知识产权局提交并且名称为“SemiconductorPackageandMethodofFabricatingtheSame(半导体封装件和制造该半导体封装件的方法)”的第10-2018-0014810号韩国专利申请通过引用全部包含于此。
实施例涉及一种半导体封装件,更具体地,涉及一种包括再分布层的半导体封装件和一种制造该半导体封装件的方法。
技术介绍
提供半导体封装件来实现有资格在电子产品中使用的集成电路芯片。通常,半导体封装件被构造为使得半导体芯片安装在印刷电路板(PCB)上并且使用接合线或凸起将半导体芯片电连接到印刷电路板。随着电子工业的发展,人们对半导体封装件的标准化和小型化越来越感兴趣。此外,正在进行各种研究以改善兼容性并提高半导体封装件的运行速度。
技术实现思路
根据示例性实施例,一种半导体封装件可以包括:再分布层,具有彼此相对的第一表面和第二表面,再分布层包括位于再分布层的第一表面上的多个第一再分布垫;半导体芯片,位于再分布层的第二表面上;多个导电结构,设置在再分布层的第二表面上并与半导体芯片分隔开;以及多个外部连接端子,位于导电结构上并结合到导电结构。半导体芯片的有效表面可以面对再分布层。第一再分布垫可以具有比外部连接端子的节距小的节距。根据示例性实施例,一种半导体封装件可以包括:再分布层,具有彼此相对的第一表面和第二表面;半导体芯片,位于再分布层的第二表面上;多个导电结构,位于再分布层的第二表面上并且与半导体芯片分隔开;以及第一半导体器件,位于再分布层的第一表面上。半导体芯片可以 ...
【技术保护点】
1.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:再分布层,具有彼此相对的第一表面和第二表面,再分布层包括位于第一表面上的多个第一再分布垫;半导体芯片,位于再分布层的第二表面上,半导体芯片的有效表面面对再分布层;多个导电结构,位于再分布层的第二表面上,所述多个导电结构与半导体芯片分隔开;以及多个外部连接端子,位于导电结构上并结合到导电结构,所述多个第一再分布垫具有比所述多个外部连接端子的节距小的节距。
【技术特征摘要】
2018.02.06 KR 10-2018-00148101.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:再分布层,具有彼此相对的第一表面和第二表面,再分布层包括位于第一表面上的多个第一再分布垫;半导体芯片,位于再分布层的第二表面上,半导体芯片的有效表面面对再分布层;多个导电结构,位于再分布层的第二表面上,所述多个导电结构与半导体芯片分隔开;以及多个外部连接端子,位于导电结构上并结合到导电结构,所述多个第一再分布垫具有比所述多个外部连接端子的节距小的节距。2.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,半导体芯片包括可编程芯片。3.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,再分布层还包括位于再分布层的第一表面上的多个第二再分布垫,所述多个第二再分布垫具有与所述多个第一再分布垫的节距不同的节距。4.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,当在平面图中观看时,所述多个第一再分布垫中的至少一个与半导体芯片分隔开。5.根据权利要求1所述的半导体封装件,所述半导体封装件还包括位于再分布层的第一表面上的第一半导体器件,第一半导体器件结合到所述多个第一再分布垫。6.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述多个第一再分布垫中的至少一些通过再分布层和导电结构结合到外部连接端子。7.根据权利要求1所述的半导体封装件,所述半导体封装件还包括位于再分布层上的多个基体层、穿透所述多个基体层的孔和位于孔内部的半导体芯片。8.根据权利要求7所述的半导体封装件,其中,导电结构中的至少一个包括:第一垫,位于所述多个基体层中的最上面的基体层上;导电图案,位于所述多个基体层中的两个基体层之间;过孔,穿透所述多个基体层中的每个基体层,过孔结合到导电图案;以及第二垫,位于所述多个基体层中的最下面的基体层上,第二垫相对于第一垫水平地偏移。9.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:再分布层,具有彼此相对的第一表面和第二表面;半导体芯片,位于再分布层的第二表面上,半导体芯片包括面对再分布层的芯片垫;多个导电结构,位于再分布层的第二表面上并且与半导体芯片分隔开;以及第一半导体器件,位于再分布层的第一表面上,第一半导体器件包括面对再分布层的连接垫。10.根据权利要求9所述的半导体封装件,所述半导体封装件还包括位于再分布层的第一表面上的第二半导体器件,第二半导体器件具有与第一半导体器件的高度不同的高度。11.根据权利要求9所述的半导体封装件,其中,当在平面图中观看时,第一半导体器件的至少一部分不与半导体芯片叠置。12.根据权利要求9所述的半导体封装件,其中,第一半导体器件还包括:封装基底;第一半导体芯片,位于封装基底上;以及成型构件,位于封装基底上并且覆盖第一半导体芯片。13.一种制造半导体...
【专利技术属性】
技术研发人员:柳慧桢,吴琼硕,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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