真空泵制造技术

本实用新型专利技术提供的真空泵，包括外壳以及位于所述外壳上且用于与反应腔室连通的进气口，还包括控制器以及位于由所述外壳围绕而成的腔体内的管道；所述管道用于将吹扫气体自外界传输至所述腔体内；所述控制器，连接所述管道，用于判断用户是否发出进行真空泵维护的指令，若是，则关闭所述进气口、并在保持对所述腔体加热的同时控制所述吹扫气体自所述管道上的开口喷出，以排除所述腔体内残留的反应腔室生成物。本实用新型专利技术提避免反应腔室内的生成物在所述真空泵停止抽气后固化、沉积于所述腔体内，避免了真空泵启动异常等问题的出现，延长了真空泵的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
真空泵
本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种真空泵。
技术介绍
随着智能手机、平板电脑等移动终端向小型化、智能化、节能化的方向发展，芯片的高性能、集成化趋势明显，促使芯片制造企业积极采用先进工艺，对制造出更快、更省电的芯片的追求愈演愈烈。尤其是许多无线通讯设备的主要元件需用40nm以下先进半导体技术和工艺，因此对先进工艺产能的需求较之以往显著上升，带动集成电路厂商不断提升工艺技术水平，通过缩小晶圆水平和垂直方向上的特征尺寸以提高芯片性能和可靠性，以及通过3D结构改造等非几何工艺技术和新材料的运用来影响晶圆的电性能等方式实现硅集成的提高，以迎合市场需求。然而，这些技术的革新或改进都是以晶圆的生成、制造为基础。晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆。在硅晶片上可加工、制作成各种电路元件结构，而称为有特定电性功能的集成电路产品。真空泵(VacuumPump)是半导体制造过程中，用于对反应腔室进行排气的装置。但是，由于某些工艺制程的特殊性，例如化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)工艺，其生成物往往具有腐蚀性、高粉尘性等特点。同时，由于制程原因，需要经常性的关闭真空泵，以进行各种周期性的维护工作。而在实际制程中，既使做好了真空泵进气口保护工作、缩短了真空泵停机时间等措施，仍然会经常出现真空泵开启异常、运行功率异常等问题。一旦出现这些问题，则需要耗费巨大的成本对真空泵进行开腔、彻底检查。研究发现，之所以出现真空泵工作异常，主要是在真空泵停机后，由于其内部各种元件都停止运转，自反应腔室进入所述真空泵的副产物会凝结硬化，附着于真空泵内各种电子元件的表面或者元件之间的间隙内。因此，如何减少反应腔室内的产物附着于真空泵内，避免真空泵工作异常，以提高真空泵的使用寿命，是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种真空泵，用于解决现有的真空泵易出现运行异常的问题，以提高真空泵的使用寿命，降低半导体制造成本。为了解决上述问题，本技术提供了一种真空泵，包括外壳以及位于所述外壳上且用于与反应腔室连通的进气口，还包括控制器以及位于由所述外壳围绕而成的腔体内的管道；所述管道用于将吹扫气体自外界传输至所述腔体内；所述控制器，连接所述管道，用于判断用户是否发出进行真空泵维护的指令，若是，则关闭所述进气口、并在保持对所述腔体加热的同时控制所述吹扫气体自所述管道上的开口喷出，以排除所述腔体内残留的反应腔室生成物。优选的，还包括位于所述腔体内的转子；所述控制器，连接所述转子，用于在用户发出进行真空泵维护的指令后控制所述转子以预设转速转动。优选的，还包括输入组件；所述输入组件位于所述外壳表面，连接所述控制器，用于接收用户发出的真空泵维护的指令。优选的，所述输入组件为设置于所述外壳上的物理按键或位于所述外壳上的显示屏中显示的虚拟按键。优选的，还还包括保护组件；所述保护组件连接所述输入组件，用于接收用户输入的密码；所述控制器连接所述保护组件，用于判断用户输入的密码是否正确，若是，则确认用户发出进行真空泵维护的指令。优选的，还包括加热器；所述加热器包覆于所述管道表面，用于对所述管道加热，以提高所述管道内所述吹扫气体的温度。优选的，所述加热器包括包覆于所述管道外表面的电热丝；所述控制器连接所述电热丝，用于控制流经所述电热丝的电流，以调整所述管道内所述吹扫气体的温度。优选的，所述吹扫气体为氮气。优选的，还包括位于所述外壳上的排气口，所述吹扫气体将所述反应腔室生成物经所述排气口吹扫出所述腔体。优选的，还包括位于所述进气口处的传感器以及位于所述外壳表面的指示器；所述传感器连接所述指示器，用于检测所述转子是否处于转动状态，若是，则控制所述指示器显示所述转子处于转动状态。本技术提供的真空泵，通过设置控制器和管道，并在用户发出对真空泵维护的指令后，自动关闭进气口，并在保持对所述腔体加热的同时控制吹扫气体自所述管道上的开口喷出，以实现对所述真空泵腔体内的吹扫，排出所述腔体内的异物，避免反应腔室内的生成物在所述真空泵停止抽气后固化、沉积于所述腔体内，实现了所述真空泵的自清洁，避免了真空泵启动异常等问题的出现，延长了真空泵的使用寿命。附图说明附图1是本技术具体实施方式中真空泵的结构示意图；附图2是本技术具体实施方式中真空泵的结构框图。具体实施方式下面结合附图对本技术提供的真空泵的具体实施方式做详细说明。本具体实施方式提供了一种真空泵，附图1是本技术具体实施方式中真空泵的结构示意图，附图2是本技术具体实施方式中真空泵的结构框图。如图1、图2所示，本具体实施方式提供的真空泵，包括外壳11以及位于所述外壳11上且用于与反应腔室连通的进气口19。具体来说，在采用所述真空泵对所述反应腔室抽真空的过程中，所述反应腔室内的气体经所述进气口19进入所述真空泵内。本具体实施方式提供的真空泵还包括控制器21以及位于由所述外壳11围绕而成的腔体111内的管道12；所述管道12用于将吹扫气体自外界传输至所述腔体111内；所述控制器21，连接所述管道12，用于判断用户是否发出进行真空泵维护的指令，若是，则关闭所述进气口19、并在保持对所述腔体111加热的同时控制所述吹扫气体自所述管道12上的开口喷出，以排除所述腔体111内残留的反应腔室生成物。本具体实施方式在传统的真空泵开启和关闭功能之外，增加了真空泵维护功能。具体来说，当控制器21接收到用户发出的进行真空泵维护的指令后，关闭所述进气口19，即使得所述反应腔室与所述腔体111物理隔离、相互不导通，停止对所述反应腔室的抽气。同时，所述控制器21在保持对所述腔体111加热的同时控制所述吹扫气体自所述管道12上的开口喷出：一方面，由于所述腔体111保持加热状态，因而能够避免残留于所述腔体111内的反应腔室生成物凝结、固化；另一方面，吹扫气体在所述腔体111内也能被加热，使得所述吹扫气体能够更有效的将残留于所述腔体111内部的反应腔室生成物排出所述腔体111，避免所述反应腔室生成物沉积于所述腔体111内的真空泵元件表面或者相邻元件之间的间隙内，从而有效避免了真空泵启动异常等问题，实现了真空泵的自维护，延长了真空泵的使用寿命。为了简化所述真空泵的结构，且不增加所述真空泵的制造成本，优选的，所述真空泵还包括位于所述外壳11上的排气口17，所述吹扫气体将所述反应腔室生成物经所述排气口17吹扫出所述腔体111。为了进一步清除残留于所述腔体111内部的反应腔室生成物，尤其是残留于所述腔体发111角落处的反应腔室生成物，优选的，所述真空泵还包括位于所述腔体111内的转子13；所述控制器21连接所述转子13，用于在用户发出进行真空泵维护的指令后控制所述转子13以预设转速转动。其中，所述预设转速的具体数值，本领域技术人员可以根据实际需要进行设置，例如根据反应腔室生成物的具体类型设置。为了节省能源，并且快速排出所述腔体111内残留的反应腔室生成物，更优选的，所述预设转速低于所述真空泵对所述反应腔室抽真空过程中的转子转速。优选的，所述真空泵还包括输入组件14；所述输入组件14位于所述外壳11表面，连接所述控制器21，用于接收用户发出的真空泵维护本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空泵，包括外壳以及位于所述外壳上且用于与反应腔室连通的进气口，其特征在于，还包括控制器以及位于由所述外壳围绕而成的腔体内的管道；所述管道用于将吹扫气体自外界传输至所述腔体内；所述控制器连接所述管道，用于判断用户是否发出进行真空泵维护的指令，若是，则关闭所述进气口、并在保持对所述腔体加热的同时控制所述吹扫气体自所述管道上的开口喷出，以排除所述腔体内残留的反应腔室生成物。

【技术特征摘要】
1.一种真空泵，包括外壳以及位于所述外壳上且用于与反应腔室连通的进气口，其特征在于，还包括控制器以及位于由所述外壳围绕而成的腔体内的管道；所述管道用于将吹扫气体自外界传输至所述腔体内；所述控制器连接所述管道，用于判断用户是否发出进行真空泵维护的指令，若是，则关闭所述进气口、并在保持对所述腔体加热的同时控制所述吹扫气体自所述管道上的开口喷出，以排除所述腔体内残留的反应腔室生成物。2.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，还包括位于所述腔体内的转子；所述控制器连接所述转子，用于在用户发出进行真空泵维护的指令后控制所述转子以预设转速转动。3.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，还包括输入组件；所述输入组件位于所述外壳表面，连接所述控制器，用于接收用户发出的真空泵维护的指令。4.根据权利要求3所述的真空泵，其特征在于，所述输入组件为设置于所述外壳上的物理按键或位于所述外壳上的显示屏中显示的虚拟按键。5.根据权利要求3所述的真空泵，其特征在于，还包括保护组件；所述保护组件...

【专利技术属性】
技术研发人员：王磊，周冬成，吴宗祐，林宗贤，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32