用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件制造技术

本发明专利技术公开一种用于化学气相沉积的高温制程腔室内的滚轮衬套组合件，包括承载体、耐磨衬套、陶瓷固定圈、至少二个滚轮组以及升降销。耐磨衬套具有相对的第一端及第二端，耐磨衬套的第一端位在承载体中，耐磨衬套的第二端位在承载体的下方。陶瓷固定圈用来固定耐磨衬套。至少二个滚轮组分别设置在耐磨衬套相对的第一端及第二端，且至少二个滚轮组可以防止升降销左右晃动。升降销设置在耐磨衬套之中并且可在至少二个滚轮组中上下移动。本发明专利技术公开的用于化学气相沉积的高温制程腔室内的滚轮衬套组合件的至少二个滚轮组可大幅度降低升降销断裂。

Roller bushing assembly for chemical vapor deposition chamber

The invention discloses a roller bushing assembly used in a high temperature process chamber for chemical vapor deposition, comprising a bearing body, a wear-resistant bushing, a ceramic fixing ring, at least two roller groups and a lifting and lowering pin. The wear-resistant bushing has relative first and second ends. The first end of the wear-resistant bushing is in the bearing body, and the second end of the wear-resistant bushing is under the bearing body. Ceramic fixing rings are used to fix wear-resistant bushes. At least two roller groups are set at the first and second ends of the wear-resistant bushing, respectively, and at least two roller groups can prevent the left and right shaking of the lifting pin. The lifting pin is arranged in the wear-resistant bushing and can move up and down in at least two roller groups. The invention discloses at least two roller sets of the roller bushing assembly used in the high temperature process chamber for chemical vapor deposition, which can greatly reduce the fracture of the lifting pin.

【技术实现步骤摘要】
用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件
本专利技术是有关于一种滚轮衬套组合件，特别是有关于一种用于化学气相沉积(CVD)的高温制程腔室内的滚轮衬套组合件。
技术介绍
在化学气相沉积(CVD)的工艺中，晶圆置放在反应腔室内的承载体的升降销(liftpin)上，气相源材料引进反应腔室内，接着气相源材料吸附在晶圆表面上并开始形成薄膜，其它气相副产物则会流出反应腔室，最后沉积后的晶圆通过升降销顶升，并经移转机构如一真空机械手臂移走。然而在顶升和移走晶圆的过程中会受到静电吸附和高温的影响，会出现升降销顶破晶圆或是机械手臂的干涉导致晶圆破片。另外，反应腔室内的承载体表面具有电极层，依照对产品需求的不同，承载体表面的电极层厚度也不同。在一般情况下，在承载体表面的电极层出现问题或是针对不同产品的个别差异，就会需要将承载体送去翻新，此时会以蚀刻或研磨的方式将承载体表面有问题的电极层去除，接着在形成新的电极层，然而此举会导致承载体的升降销孔变大，导致升降销在上下移动的过程中，升降销会左右晃动，而会有升降销断裂的风险。为了改善上述缺点，有必要提供一种用于化学气相沉积的高温制程腔室内的滚轮衬套组合件，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，包括承载体、耐磨衬套、陶瓷固定圈、至少二个滚轮组及升降销，其中耐磨衬套具有相对的第一端及第二端，耐磨衬套的第一端位在承载体中，耐磨衬套的第二端位在承载体的下方；陶瓷固定圈固定耐磨衬套；至少二个滚轮组分别设置在耐磨衬套相对的第一端及第二端；以及升降销设置在耐磨衬套之中。在本专利技术的一实施例中，升降销的长度大于承载体的长度。在本专利技术的一实施例中，升降销的形状包括圆柱状或锥体状。在本专利技术的一实施例中，至少二个滚轮组通过陶瓷固定圈固定在升降销上。在本专利技术的一实施例中，承载体的顶部具有升降销凹槽。在本专利技术的一实施例中，升降销凹槽设置在耐磨衬套的上方。在本专利技术的一实施例中，升降销对应插合于升降销凹槽的内侧。在本专利技术的一实施例中，升降销在至少二个滚轮组中上下移动。在本专利技术的一实施例中，至少二个滚轮组包括滚轮单元。在本专利技术的一实施例中，滚轮单元包括至少四个滚轮。在本专利技术的一实施例中，至少四个滚轮设置在耐磨衬套的周围内壁中。在本专利技术的一实施例中，至少四个滚轮彼此等距离设置。附图说明图1是本专利技术实施例的滚轮衬套组合件的承载体、耐磨衬套、陶瓷固定圈以及升降销的正视图；及图2是本专利技术实施例的滚轮衬套组合件的升降销、耐磨衬套和滚轮组的详细结构示意图。具体实施方式当承载座送去翻新时，在翻新的过程中承载体的升降销孔会变大，导致以后晶圆通过升降销(liftpin)顶升以移走时，由于升降销上下移动会导致升降销左右晃动，而会有升降销断裂的问题。因此本专利技术实施例提供一种用于化学气相沉积的高温制程腔室内的滚轮衬套组合件，以防止升降销断裂的问题。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明。请参照图1及图2，本专利技术实施例提供一种用于化学气相沉积的高温制程腔室的滚轮衬套组合件100，包括升降销10、至少二个滚轮组40以及承载体60。承载体60为用来承载欲在表面形成薄膜的物体22,以使物体22可进行化学气相沉积。欲在表面形成薄膜的物体22可为晶圆或用来在其上形成薄膜晶体管(thinfilmtransistor,TFT)的玻璃基板(glasssubstrate)或其它基板。承载体60的顶部形成有一升降销凹槽70。升降销10顶部具有一直径较大的抵靠部20用来抵靠物体22的底部。当进行化学气相沉积时，抵靠部20是接纳在升降销凹槽70中，如此物体22的底部抵靠在承载体60的顶部。在完成化学气相沉积后，升降销10是由升降机构24带动往向上移动(如图2箭头所示)来向上推动物体22离开承载体60(如图1所示)，藉此，物体22可由一真空机械手臂(图未示)来移动离开化学气相沉积的高温制程腔室。此后,升降销10是由升降机构24带动往向下移动(如图2箭头所示)使抵靠部20缩入升降销凹槽70中，以方便在承载体60上置入新的物体22进行化学气相沉积。本专利技术的升降销10为可滑动地插设在耐磨衬套30中。耐磨衬套30为固定在承载体60中，具有一中央通孔32和承载体的升降销凹槽70相通。耐磨衬套30具有上、下二端分别位在承载体60中和承载体60底部的下方。二个陶瓷固定圈50分别设置在耐磨衬套30的上、下二端，以及至少二个滚轮组40分别设置在耐磨衬套30的上、下二端。在此较佳实施例中，每一滚轮组40具有二个滚轮单元上下设置。每一滚轮单元具有至少四个滚轮42可滚动地设置在耐磨衬套30的周围内壁中。此外，二个陶瓷固定圈50可固定至少四个滚轮42，以防止至少四个滚轮42掉落。至少四个滚轮42彼此等距离设置。在另一实施例中，四个滚轮彼此相隔90度地等距离设置。升降销10为可滑动地插设在耐磨衬套30的中央通孔32中，并介于滚轮42之间。升降销10的周围为可滑动地抵靠在滚轮42的周缘上。藉由滚轮42的引导可确保升降销10的垂直上下移动，而不会左右晃动，造成升降销10断裂的问题。再者，在本专利技术中，设有下方滚轮组40的耐磨衬套30下端为在承载体60底部的下方，本专利技术导引升降销10移动的长度增长，可更有效地确保升降销10垂直地上下移动,而不会有因左右晃动，造成升降销10断裂的问题。虽然本专利技术结合其具体实施例而被描述，应该理解的是，许多替代、修改及变化对于那些本领域的技术人员将是显而易见的。因此，其意在包含落入所附权利要求书的范围内的所有替代、修改及变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，其特征在于，包括：承载体；耐磨衬套，其中所述耐磨衬套具有相对的第一端及第二端，所述耐磨衬套的第一端位在所述承载体中，所述耐磨衬套的第二端位在所述承载体的下方；陶瓷固定圈，其中所述陶瓷固定圈固定所述耐磨衬套；至少二个滚轮组，其中所述至少二个滚轮组分别设置在所述耐磨衬套相对的第一端及第二端；以及升降销，其中所述升降销设置在所述耐磨衬套之中。

【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，其特征在于，包括：承载体；耐磨衬套，其中所述耐磨衬套具有相对的第一端及第二端，所述耐磨衬套的第一端位在所述承载体中，所述耐磨衬套的第二端位在所述承载体的下方；陶瓷固定圈，其中所述陶瓷固定圈固定所述耐磨衬套；至少二个滚轮组，其中所述至少二个滚轮组分别设置在所述耐磨衬套相对的第一端及第二端；以及升降销，其中所述升降销设置在所述耐磨衬套之中。2.如权利要求1所述用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，其特征在于，所述升降销的长度大于所述承载体的长度。3.如权利要求1所述用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，其特征在于，所述升降销的形状包括圆柱状或锥体状。4.如权利要求1所述用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，其特征在于，所述至少二个滚轮组通过陶瓷固定圈固定在所述升降销上。5.如权利要求1所述用于化学气相沉积腔室内之滚轮衬套组合件，其特征在于，承...

【专利技术属性】
技术研发人员：高德龙，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42