一种10管高产能PECVD设备制造技术

本发明专利技术公开了一种10管高产能PECVD设备，包括气源柜、主机、密封炉门机构和工作台，气源柜的一侧固定连接有主机，且主机远离气源柜的一侧固定连接有密封炉门机构，密封炉门机构远离主机的一侧固定连接有工作台，工作台内壁的一侧固定连接有上下料机械手。该高产能PECVD设备，通过气源柜的一侧固定连接有主机，通过该结构设备的创新，使得单位面积的产能提高了50%，降低了晶片的生产成本，给企业带来更高的效益，通过工作台的内部滑动连接有石墨舟，新的石墨舟载片量达到600片，石墨舟形成两个回路，避免了电场的衰减，增大石墨舟的载片能力，不仅带来高产能，也能优化PECVD工艺指标。

A 10-tube PECVD equipment with high productivity

The invention discloses a 10-tube high-productivity PECVD device, which comprises a gas source cabinet, a main engine, a sealed furnace door mechanism and a worktable. One side of the gas source cabinet is fixedly connected with a main engine, and the side of the main engine away from the gas source cabinet is fixedly connected with a sealed furnace door mechanism. The side of the sealed furnace door mechanism away from the main engine is fixedly connected with a worktable, and the side of the inner wall of the worktable is fixedly connected with a loading and unload The high-productivity PECVD equipment is fixed on one side of the gas source cabinet and connected with the main engine. Through the innovation of the structure equipment, the output per unit area is increased by 50%, the production cost of wafers is reduced, and higher benefits are brought to the enterprise. Graphite boats are connected by sliding inside the workbench. The new graphite boat carries 600 pieces. Graphite boats form two loops to avoid electricity. The attenuation of the field and the increase of the carrying capacity of graphite boat not only bring about high productivity, but also optimize the PECVD process parameters.

【技术实现步骤摘要】
一种10管高产能PECVD设备
本专利技术涉及PECVD设备
，具体为一种10管高产能PECVD设备。
技术介绍
PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)是指等离子体增强化学的气相沉积法，借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜，为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积，是太阳能电池片中比较重要的工序，也是体现一个企业太阳能电池片效率的一个重要指标，镀膜技术是整个光伏行业比较重视的技术，太阳能电池的效率提升可以通过镀膜技术的提升来实现，光在硅表面的反射损失率高达35%左右，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，提高光电转换效率。因为每一批电池片都需要监测，所以PECVD工序一般较忙，现在的设备生产状态下，原先的设备量已经无法满足产能的需求，而通过增加设备数量来提高产能，又会带来占地面积的问题，并且大多数电池片生产厂家的设备用地已经达到饱和，在这种情况下，提高设备本身的产能就成了迫切的需求。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种10管高产能PECVD设备，解决了原先的设备量已经无法满足产能的需求，而通过增加设备数量来提高产能，又会带来占地面积的问题。为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种10管高产能PECVD设备，包括气源柜、主机、密封炉门机构和工作台，所述气源柜的一侧固定连接有主机，且主机远离气源柜的一侧固定连接有密封炉门机构，所述密封炉门机构远离主机的一侧固定连接有工作台，所述工作台内壁的一侧固定连接有上下料机械手，所述工作台内壁的一侧固定连接有间歇台，所述工作台一侧的正面与背面均传动连接有自动送取料系统，所述工作台的正面与背面均固定连接有控制操作台。优选的，所述工作台的内部设置有推拉舟，所述工作台的内部滑动连接有石墨舟。优选的，所述密封炉门机构的内部设置有真空系统，所述气源柜一侧的正面与背面均设置有恒温箱。优选的，所述气源柜的顶部设置有变压器，所述密封炉门机构的顶部设置有排毒箱。优选的，所述主机的顶部固定连接有水流开关。优选的，所述工作台的内部设置有Sic桨。有益效果本专利技术提供了一种10管高产能PECVD设备。与现有技术相比具备以下有益效果：（1）、该高产能PECVD设备，通过气源柜的一侧固定连接有主机，且主机远离气源柜的一侧固定连接有密封炉门机构，密封炉门机构远离主机的一侧固定连接有工作台，工作台内壁的一侧固定连接有上下料机械手，工作台内壁的一侧固定连接有间歇台，工作台一侧的正面与背面均传动连接有自动送取料系统，工作台的正面与背面均固定连接有控制操作台，通过该结构设备的创新，使得单位面积的产能提高了50%，降低了晶片的生产成本，给企业带来更高的效益。（2）、该高产能PECVD设备，通过工作台的内部滑动连接有石墨舟，新的石墨舟载片量达到600片，石墨舟形成两个回路，避免了电场的衰减，而且对于膜厚的均匀性来说，新的电场优于以前的单回路形式，增大石墨舟的载片能力，不仅带来高产能，也能优化PECVD工艺指标。附图说明图1为本专利技术结构的设备整机图；图2为本专利技术气源柜结构的主视图；图3为本专利技术结构的侧视图；图4为本专利技术真空系统结构的剖视图；图5为本专利技术结构的设备整体装配图；图6为本专利技术整体装配图结构的俯视图；图7为本专利技术恒温箱结构的立体图；图8为本专利技术恒温箱结构的主视图；图9为本专利技术恒温箱结构的侧视图图10为本专利技术图1中A处的局部放大图；图11为本专利技术图1中B处的局部放大图；图12为本专利技术图3中C处的局部放大图。图中：1气源柜、2主机、3密封炉门机构、4工作台、5上下料机械手、6间歇台、7自动送取料系统、8控制操作台、9推拉舟、10石墨舟、11真空系统、12恒温箱、13变压器、14排毒箱、15水流开关、16Sic桨。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1-12，本专利技术提供一种技术方案：一种10管高产能PECVD设备，包括气源柜1、主机2、密封炉门机构3和工作台4，气源柜1的顶部设置有变压器13，密封炉门机构3的顶部设置有排毒箱14，气源柜1的一侧固定连接有主机2，主机2的顶部固定连接有水流开关15，且主机2远离气源柜1的一侧固定连接有密封炉门机构3，密封炉门机构3的内部设置有真空系统11，气源柜1一侧的正面与背面均设置有恒温箱12，密封炉门机构3远离主机2的一侧固定连接有工作台4，工作台4的内部设置有Sic桨16，工作台4的内部设置有推拉舟9，本设备共12根管，每层两根管，这两根管共用一套推拉舟9机构，通过软件设计来控制推拉舟9送取料机构，使其服务于本层的两根管，所以，新的推拉舟9机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，两列工艺管可以共用工作台的送取料系统，这样在很大幅度上降低了晶片的生产成本，给企业带来更高的效益，工作台4的内部滑动连接有石墨舟10，本设备所配套的石墨舟10是新研发的双极石墨舟10，新的石墨舟10载片量达到600片，产能相比之前提高了将近50%，石墨舟10是通过加大加长石墨舟10片来提高载片量，石墨舟10形成两个回路，避免了电场的衰减，而且对于膜厚的均匀性来说，新的电场优于以前的单回路形式，增大石墨舟10的载片能力，不仅带来高产能，也能优化PECVD工艺指标，工作台4内壁的一侧固定连接有上下料机械手5，工作台4内壁的一侧固定连接有间歇台6，工作台4一侧的正面与背面均传动连接有自动送取料系统7，工作台4的正面与背面均固定连接有控制操作台8，通过气源柜1、主机2、密封炉门机构3、工作台4、上下料机械手5、间歇台6、自动送取料系统7和控制操作台8的设置，该结构设备的创新，使得单位面积的产能提高了50%，降低了晶片的生产成本，给企业带来更高的效益。使用时，自动送取料系统7安装在工作台4上，然后把载有待镀膜晶片的石墨舟10传送给上下料机械手5，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟10放到每管对应的推拉舟9上，然后再由推拉舟9送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过密封炉门机构3和真空系统11，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体，在此过程中，控制系统发挥着大脑的指挥作用，通过一整套严密的闭环控制软件，使得镀膜工艺能够在稳定的低压环境，工艺结束后，由推拉舟9把石墨舟10从工艺管中取出，然后由上下料机械手5把高温石墨舟10放置在间歇台6，并由循环风冷系统进行冷却，待到合适温度后，由自动送取料系统7传送出工作台4，然后可以进行取石墨舟10程序，这样就完成了一次对该高产能PECVD设备的使用。需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种10管高产能PECVD设备，包括气源柜（1）、主机（2）、密封炉门机构（3）和工作台（4），所述气源柜（1）的一侧固定连接有主机（2），且主机（2）远离气源柜（1）的一侧固定连接有密封炉门机构（3），所述密封炉门机构（3）远离主机（2）的一侧固定连接有工作台（4），其特征在于：所述工作台（4）内壁的一侧固定连接有上下料机械手（5），所述工作台（4）内壁的一侧固定连接有间歇台（6），所述工作台（4）一侧的正面与背面均传动连接有自动送取料系统（7），所述工作台（4）的正面与背面均固定连接有控制操作台（8）。

【技术特征摘要】
1.一种10管高产能PECVD设备，包括气源柜（1）、主机（2）、密封炉门机构（3）和工作台（4），所述气源柜（1）的一侧固定连接有主机（2），且主机（2）远离气源柜（1）的一侧固定连接有密封炉门机构（3），所述密封炉门机构（3）远离主机（2）的一侧固定连接有工作台（4），其特征在于：所述工作台（4）内壁的一侧固定连接有上下料机械手（5），所述工作台（4）内壁的一侧固定连接有间歇台（6），所述工作台（4）一侧的正面与背面均传动连接有自动送取料系统（7），所述工作台（4）的正面与背面均固定连接有控制操作台（8）。2.根据权利要求1所述的一种10管高产能PECVD设备，其特征在于：所述工作台（4）的内部设置有推拉舟（...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔慧敏，林罡，王鹏，
申请(专利权)人：无锡华源晶电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32