蒸发源容器以及蒸发源装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够更加有效地抑制容器开口部的蒸镀材料的冷凝的蒸发源容器以及蒸发源装置。收容蒸镀材料的蒸发源容器(301)，其特征在于，所述蒸发源容器具有：具有供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口(304)的第一部分(331)；以及与所述第一部分连接的第二部分(321)，第一部分(331)的壁厚、以及第二部分(321)中与第一部分(331)连接的连接部(321a)的壁厚比第二部分(321)中比连接部(321a)远离第一部分(331)的主体部(321b)的壁厚大。

Evaporation source container and evaporation source device

The invention provides an evaporation source container and an evaporation source device which can more effectively restrain the condensation of evaporation plating material at the opening of the container. The evaporation source container (301) containing evaporation plating material is characterized in that the evaporation source container has a first part (331) having an opening (304) through which the evaporation plating material can be sublimated or gasified, a second part (321) connected with the first part, a wall thickness of the first part (331), and a wall thickness ratio of the connecting part (321a) connected with the first part (331) in the second part (321). The wall thickness of the main part (321b) in the second part (321) is larger than that of the connecting part (321a) far from the first part (331).

【技术实现步骤摘要】
蒸发源容器以及蒸发源装置
本专利技术涉及用于真空蒸镀的蒸发源容器以及蒸发源装置。
技术介绍
在用于有机EL显示器等有机电子设备的显示板的制造工序中，包括利用真空蒸镀在基板表面形成各种薄膜(材料层)的成膜工序。作为用于该成膜工序的装置，已知一种蒸发源装置，其具有收容蒸镀材料的容器(坩埚)以及作为加热容器内的蒸镀材料的加热部件的加热器。利用加热器的加热在容器内蒸发(升华或者气化)的蒸镀材料经由设置于容器上部的喷嘴向容器外喷出，在设置于装置上方的基板的表面进行蒸镀。作为蒸发源装置的结构，提出有各种结构(专利文献1～3)。在容器中供蒸镀材料喷射的喷嘴周边，由于未在开口部配置加热器，因此温度容易下降。其结果，有时气化的蒸镀材料的一部分冷凝而使喷嘴开口变小或者堵塞，有可能无法确保稳定的蒸镀率。在专利文献2中公开了如下内容：在将加热器卷绕于容器的外周的结构中，使加热器的卷绕状态在配置有供蒸镀材料喷出的放出孔的上部侧密集，在下部侧稀疏，由此抑制放出孔附近的温度下降。另外，在专利文献3中公开了如下内容：在容器的全长的1/3以上且2/3以下的范围内配置加热器，并将传热构件配置于加热器与容器之间，抑制喷嘴附近的温度下降。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开昭59-16974号公报专利文献2:日本特开2011-17059号公报专利文献3:日本特开2015-67847号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，在专利文献2、3所公开的结构中，也存在不能够完全防止喷嘴中的蒸镀材料附着的情况。具体而言，在容器内部，在喷嘴等容器开口部附近的蒸镀材料的蒸气压力成为饱和蒸气压力以上的情况下，会发生蒸镀材料的冷凝。在容器开口部，坩埚的表面积增加。在能够针对坩埚的表面积配置加热器、反射板等的情况下，能够防止坩埚的温度下降，但是由于蒸镀材料从容器开口部喷出，所以无法针对容器开口部的表面积配置加热器、反射板等。由此，在容器的温度分布中形成从容器侧面到开口部附近而温度下降的温度梯度。若该温度梯度成为开口部的温度低于冷凝点那样的大小，则发生上述冷凝。若像专利文献2、3那样，仅增加靠近开口部的侧面上方的加热器的加热量的话，则存在无法将温度梯度的大小抑制为开口部的温度不低于冷凝点的情况。本专利技术的目的在于提供一种能够更加有效抑制容器开口部的蒸镀材料的冷凝的蒸发源容器。用于解决课题的手段为了上述目的，本专利技术采用以下的结构。即，蒸发源容器，所述蒸发源容器收容蒸镀材料，其特征在于，所述蒸发源容器具有：第一部分，其具有供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口；以及第二部分，其与所述第一部分连接，所述第二部分具有与所述第一部分连接的连接部以及比所述连接部远离所述第一部分的主体部，所述第一部分的壁厚与所述第二部分中的所述连接部的壁厚比所述第二部分中的所述主体部的壁厚大。另外，本专利技术采用以下的结构。即，一种蒸发源装置，所述蒸发源装置具有所述的蒸发源容器以及加热所述蒸发源容器的加热部件，其特征在于，所述加热部件具有与所述蒸发源容器的所述第一部分或者所述连接部相向的发热部的输出密度比与所述蒸发源容器的所述主体部相向的发热部的输出密度大的区域。另外，本专利技术采用以下的结构。即，一种蒸发源容器，所述蒸发源容器收容蒸镀材料，其特征在于，所述蒸发源容器具有：面部，其具有供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口；以及容器主体部，所述面部的厚度比所述容器主体部的壁的厚度大。另外，本专利技术采用以下的结构。即，一种蒸发源装置，所述蒸发源装置具有所述的蒸发源容器以及加热所述蒸发源容器的加热部件，其特征在于，所述加热部件具有与所述蒸发源容器的所述上面部的外周面相向的发热部的输出密度比与所述蒸发源容器的所述容器主体部相向的发热部的输出密度大的区域。另外，本专利技术采用以下的结构。即，一种蒸发源容器，所述蒸发源容器收容蒸镀材料，其特征在于，所述蒸发源容器具有：第一壁厚部分，其包括供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口；以及第二壁厚部分，其与所述第一壁厚部分一起构成容器，所述第一壁厚部分的厚度比所述第二壁厚部分大。另外，本专利技术采用以下的结构。即，一种蒸发源容器，所述蒸发源容器具备所述的蒸发源容器以及加热所述蒸发源容器的加热部件，其特征在于，所述加热部件具有与所述蒸发源容器的所述第一壁厚部分相向的发热部的输出密度比与所述蒸发源容器的所述第二壁厚部分相向的发热部的输出密度大的区域。专利技术效果根据本专利技术，能够更有效抑制容器开口部的蒸镀材料的冷凝。附图说明图1是成膜装置的示意性剖视图。图2是本实施例的蒸发源装置的示意性剖视图。图3是容器温度的温度梯度(dT/dx)与容器壁厚(截面积A)与加热器热量(Q)的关系式。图4是蒸镀材料的冷凝发生机理的说明图。图5是实施例2、3的蒸发源装置的示意图。图6是实施例4、5的蒸发源装置的示意图。图7是实施例6、7的蒸发源装置的示意图。图8是实施例8、9的蒸发源装置的示意图。图9是实施例10、11的蒸发源装置的示意图。图10是实施例12的蒸发源装置的示意图。图11是实施例13的蒸发源装置的示意图。图12是有机EL显示装置的说明图。具体实施方式以下参照附图，基于实施例举例详细说明用于实施本专利技术的方式。但是，在该实施方式中记载的构件零件的尺寸、材质、形状以及它们的相对配置等应当根据应用专利技术的装置的结构、各种条件进行适当变更。即，本专利技术的范围并不限定于以下的实施方式。本专利技术涉及用于利用蒸镀在被蒸镀体上形成薄膜的蒸发源容器以及具备该蒸发源容器的蒸发源装置。本专利技术能够特别优选应用于利用真空蒸镀在作为被蒸镀体的基板的表面形成期望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，可以选择玻璃、树脂、金属等任意的材料，另外，作为蒸镀材料，也可以选择有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等任意的材料。另外，不仅可以形成有机膜，也可以形成金属膜。具体而言，本专利技术的技术可以应用于有机电子设备(例如，有机EL显示装置、薄膜太阳能电池)、光学构件等的制造装置。[实施例1][成膜装置的概略结构]图1是表示成膜装置的结构的示意图。成膜装置具有真空室200。真空室200的内部被维持成真空环境或者氮气等非活性(日文：不活性)气体环境。作为被蒸镀体的基板10当由运送机器人(未图示)运送至真空室200内部时，利用设置于真空室200内的基板保持单元(未图示)进行保持。在成膜时，基板10被载置于掩膜220上表面。掩膜220是具有与形成于基板10上的薄膜图案对应的开口图案221的金属掩膜，与水平面平行地设置在真空室200内部。基板10利用基板保持单元载置于掩膜220的上表面，由此在与水平面平行且在下面由掩膜220覆盖的状态下设置在真空室200内部。在真空室200内部中的掩膜220的下方设有蒸发源装置300。蒸发源装置300大致具备收容蒸镀材料的蒸发源容器(坩埚)301(以下，称为容器301)、以及作为加热收容于容器301的蒸发材料的加热部件的加热器302。容器301内的蒸镀材料利用加热器302的加热在容器301内蒸发，经由设置于容器301上部的喷嘴303向容器301外喷出。向容器301外喷射的蒸镀材料对应设置于掩膜220的开口图案221在设置于装置300上方的基板10的表面进行蒸镀。省略蒸发源装置300的其它构件的图示，但是存在具备如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发源容器，所述蒸发源容器收容蒸镀材料，其特征在于，所述蒸发源容器具有：第一部分，其具有供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口；以及第二部分，其与所述第一部分连接，所述第二部分具有与所述第一部分连接的连接部以及比所述连接部远离所述第一部分的主体部，所述第一部分的壁厚与所述第二部分中的所述连接部的壁厚比所述第二部分中的所述主体部的壁厚大。

【技术特征摘要】
2017.08.28 JP 2017-1632551.一种蒸发源容器，所述蒸发源容器收容蒸镀材料，其特征在于，所述蒸发源容器具有：第一部分，其具有供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口；以及第二部分，其与所述第一部分连接，所述第二部分具有与所述第一部分连接的连接部以及比所述连接部远离所述第一部分的主体部，所述第一部分的壁厚与所述第二部分中的所述连接部的壁厚比所述第二部分中的所述主体部的壁厚大。2.根据权利要求1所述的蒸发源容器，其特征在于，所述第一部分是形成容器的上面部的壁部，所述连接部是与所述上面部连接的容器的侧壁的上方部，所述主体部是容器中的比所述上方部靠下方的部分。3.根据权利要求2所述的蒸发源容器，其特征在于，所述连接部相对于所述主体部的容器侧壁，在容器内侧较厚。4.根据权利要求2所述的蒸发源容器，其特征在于，所述连接部相对于所述主体部的容器侧壁，在容器外侧较厚。5.根据权利要求1～4的任一项所述的蒸发源容器，其特征在于，所述第一部分与所述第二部分分体成形。6.根据权利要求1～4的任一项所述的蒸发源容器，其特征在于，所述蒸发源容器还具有与所述开口连接且供所述蒸镀材料通过的喷嘴，所述喷嘴的壁厚比所述第一部分的壁厚小。7.一种蒸发源装置，所述蒸发源装置具有权利要求1～4的任一项所述的蒸发源容器以及加热所述蒸发源容器的加热部件，其特征在于，所述加热部件具有与所述蒸发源容器的所述第一部分或者所述连接部相向的发热部的输出密度比与所述蒸发源容器的所述主体部相向的发热部的输出密度大的区域。8.根据权利要求7所述的蒸发源装置，其特征在于，所述第一部分为形成容器的上面部的壁部，所述加热部件具有与所述上面部的外周面相向的发热部的输出密度比与所述蒸发源容器的所述主体部相向的发热部的输出密度大的区域。9.一种蒸发源容器，所述蒸发源容器收容蒸镀材料，其特征在于，所述蒸发源容器具有：面部，其具有供升华或者气化的蒸镀材料通过的开口；以及容器主体部，所述面部的厚度比所述容器主体部的壁的厚度大。10.根据权利要求9所述的蒸发源容器，其特征在于，所述面部具有周缘部，所述周缘部从收容所述蒸镀材料一侧的面的外周突出，并与所述容器主体部连接，所述周缘部的厚度比所述容器主体部的壁的厚度大。11.根据权利要求10所述的蒸发源容器，其特征在于，所述周缘部具有嵌合部，所述嵌合部以与所述容器主体部的上端的外周或者内周重叠的方式延伸。12.根据权利要求10或11所述的蒸发源容器，其特征在于，在容...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边一弘，菅原由季，风间良秋，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP