基座以及蒸镀设备制造技术

技术编号:20472919 阅读:24 留言:0更新日期:2019-03-02 14:46
本发明专利技术是关于一种基座以及蒸镀设备。该基座包括:基座本体,用于承载待蒸镀基板,所述待蒸镀基板的表面覆有背电极层;汇流部,沿垂直于基板传动方向分布在所述基座本体的两侧,并与所述基座本体绝缘连接,在执行蒸镀工艺时所述背电极层与所述汇流部相接触;导电部,与所述汇流部电连接并连接至外部电源,用于在通电时向所述汇流部提供电压。该技术方案可使待蒸镀基板的上下表面达到几乎相同的温度,从而避免基板镀膜面温度不足的问题以及由基板上下表面的温差而造成的变形问题,而且还能促进薄膜生成速度并改善成膜质量。

【技术实现步骤摘要】
基座以及蒸镀设备
本专利技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种基座以及蒸镀设备。
技术介绍
随着能源危机的日益严峻,关于太阳能的开发应用显得十分重要。其中,铜铟镓硒(CuInGaSe,CIGS)薄膜太阳能电池以其光电转化效率高、稳定性好、制造成本低、以及可柔性化等优点而受到了广泛的关注。CIGS薄膜太阳能电池的吸收层可采用共蒸发技术进行制备,其中需要在共蒸发工艺腔室中采用高温真空辐射烘烤的方式进行加热处理,以便达到共蒸发工艺的温度要求。鉴于加热均匀性的考虑,只能在玻璃平面的单侧进行加热,另一侧受到蒸镀方式的限制,无法大面积的安装加热装置,如此便会造成玻璃的上下表面存在超过10℃的温差。由于CIGS的工艺温度高于500℃,此时已经开始出现玻璃软化现象,若单纯的为使镀膜面的温度达标而提高主加热器的功率,就会导致玻璃上层的软化现象严重,从而造成玻璃变形下垂,影响后续工艺。相关技术中还可在底部增加辅助加热器,以使作为镀膜面的下表面温度有所提升,但辅助加热器的均匀性受限于蒸镀空间的需要,仍然无法均匀高效的改善玻璃上下面温差的现象。
技术实现思路
为克服相关技术中存在的问题,本专利技术实施例提供了一种基座以及蒸镀设备。该技术方案如下:根据本专利技术实施例的第一方面,提供一种基座,应用于蒸镀设备,包括:基座本体,用于承载待蒸镀基板,所述待蒸镀基板的表面覆有背电极层;汇流部,沿垂直于基板传动方向分布在所述基座本体的两侧,并与所述基座本体绝缘连接,在执行蒸镀工艺时所述背电极层与所述汇流部相接触;导电部,与所述汇流部电连接并连接至外部电源,用于在通电时向所述汇流部提供电压。在一个实施例中,所述汇流部为汇流条,所述汇流条固定在所述基座本体的承载面。在一个实施例中,所述导电部包括导电槽和连接柱,所述导电槽平行于所述汇流条并连接至外部电源,所述连接柱用于将所述导电槽和所述汇流条电连接;其中,沿所述待蒸镀基板所在平面的垂直方向,所述导电槽位于所述待蒸镀基板背离所述基座本体的一侧,所述导电槽在所述基座本体所在平面的投影轮廓位于所述汇流条在所述基座本体所在平面的投影轮廓的外侧。在一个实施例中,所述基座还包括绝缘部,所述绝缘部位于所述基座本体的承载面,用于使所述基座本体与所述待蒸镀基板相互绝缘,所述绝缘部背离所述基座本体的表面与所述汇流部背离所述基座本体的表面齐平。在一个实施例中,所述绝缘部为绝缘条,所述绝缘条与所述汇流部相互垂直。在一个实施例中,所述绝缘条包括沿基板传动方向分布在所述基座本体两侧的第一绝缘条和第二绝缘条,以及位于所述基座本体中间的第三绝缘条。根据本专利技术实施例的第二方面,提供一种蒸镀设备,包括蒸镀腔室以及上述的基座。在一个实施例中,所述蒸镀设备还包括导电组件,所述导电组件与外部电源相连接,用于向所述基座中的导电部提供电压。在一个实施例中,所述导电组件包括导电滚刷,所述导电滚刷与所述导电部相接触;或者,所述导电组件包括导电弹性杆,所述导电弹性杆的弹性部与所述导电部相接触;或者,所述导电组件包括导电极板,所述导电极板与所述导电部相对设置,用于向所述导电部放电。在一个实施例中,所述外部电源提供的电压在20V~30V范围内。本专利技术的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:本专利技术实施例所提供的技术方案,通过在基座本体的两侧设置汇流部以及与汇流部电连接的导电部,以便于在执行蒸镀工艺时使得待蒸镀基板的背电极层与汇流部相接触,如此即可在导电部接通外部电源时借助汇流部而将电压施加于背电极层,从而实现对背电极层的加热效果。这样一来,在执行蒸镀工艺时,可使待蒸镀基板跟随基座进入蒸镀腔室,一方面采用腔室顶部的加热装置作用于衬底基板以使其迅速升温,另一方面控制基座的导电部接通外部电源以产生对背电极层的加热效果,如此可使待蒸镀基板的上下表面达到几乎相同的温度,从而避免基板镀膜面温度不足的问题以及由基板上下表面的温差而造成的变形问题。由基板上下表面的温差而造成的变形问题,由于这种对背电极层通电加热的方式不会产生大量的热辐射,其利用率相对较高,因此更加容易达到镀膜面的工艺温度要求。更进一步的,镀膜面的温度提升不仅可在背电极层产生大量的活性电子,这将有利于CIGS膜层的生长,从而达到促进薄膜生成速度以及改善成膜质量的效果,而且还能降低对腔室顶部的加热装置的要求,使其功率得以降低,从而达到降低功耗的效果。应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本专利技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本专利技术的实施例,并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。图1是根据示例性实施例示出的基座的平面结构示意图;图2是根据图1示出的基座的A-A向剖视图;图3是根据图1示出的基座的A-A向剖视图;图4是根据示例性实施例示出的基座的平面结构示意图;图5是根据图4示出的基座的B-B向剖视图;图6是根据示例性实施例示出的基座的平面结构示意图;图7是根据图6示出的基座的C-C向剖视图;图8是根据示例性实施例示出的基座本体的俯视图;图9是根据示例性实施例示出的蒸镀设备的结构示意图;图10是根据示例性实施例示出的蒸镀腔室连接外部电源的示意图;图11是根据示例性实施例示出的蒸镀腔室连接外部电源的示意图;图12是根据示例性实施例示出的蒸镀腔室连接外部电源的示意。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本专利技术相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本专利技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。本专利技术实施例所提供的技术方案涉及一种基座,该基座应用于蒸镀设备。图1示例性绘示了基座的平面结构示意图。根据图1所示,所述基座10包括基座本体101、汇流部102和导电部103。具体的,基座本体101可用于承载待蒸镀基板,该待蒸镀基板的靠近基座本体101的表面覆有背电极层例如钼电极层,汇流部102沿基板传动方向的垂直方向分布在基座本体101的两侧,并与基座本体101绝缘连接,在执行蒸镀工艺时汇流部102与待蒸镀基板的背电极层相接触;导电部103与汇流部102电连接并连接至外部电源,可用于在接通外部电源即通电时向汇流部102提供所需的电压。图2和图3示例性绘示了待蒸镀基板20与基座10的位置关系示意图。其中,待蒸镀基板20包括衬底基板201,该衬底基板201靠近基座本体101的一面覆有背电极层202例如钼电极层或者铝电极层等金属电极层。示例的,参考图2和图3中的A-A向剖面图,基座本体101包括相对设置且具有中空结构的承载面和传动面,承载面是指用于放置待蒸镀基板20的表面即图2和图3中的上表面,传动面是指用于接触传动部件例如滚轮的表面即图2和图3中的下表面,中空结构的中空面积需以不影响待蒸镀基板20的膜层蒸镀为准。汇流部102安装在基座本体101上,例如承载面的边缘或者基座10的侧面,其方向应当平行于基板传动方向,汇流部102可以采用耐腐蚀且耐高温的导电材质例如钛合金等材料制得,且在汇流部102与基座本体101之间还需增设绝缘层,以用于防止汇流部102在通电状态时与蒸镀腔室连通而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基座,应用于蒸镀设备,其特征在于,包括:基座本体,用于承载待蒸镀基板,所述待蒸镀基板的表面覆有背电极层;汇流部,沿垂直于基板传动方向分布在所述基座本体的两侧,并与所述基座本体绝缘连接,在执行蒸镀工艺时所述背电极层与所述汇流部相接触;导电部,与所述汇流部电连接并连接至外部电源,用于在通电时向所述汇流部提供电压。

【技术特征摘要】
1.一种基座,应用于蒸镀设备,其特征在于,包括:基座本体,用于承载待蒸镀基板,所述待蒸镀基板的表面覆有背电极层;汇流部,沿垂直于基板传动方向分布在所述基座本体的两侧,并与所述基座本体绝缘连接,在执行蒸镀工艺时所述背电极层与所述汇流部相接触;导电部,与所述汇流部电连接并连接至外部电源,用于在通电时向所述汇流部提供电压。2.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,所述汇流部为汇流条,所述汇流条固定在所述基座本体的承载面。3.根据权利要求2所述的基座,其特征在于,所述导电部包括导电槽和连接柱,所述导电槽平行于所述汇流条并连接至外部电源,所述连接柱用于将所述导电槽和所述汇流条电连接;其中,沿所述基座本体所在平面的垂直方向,所述导电槽位于所述待蒸镀基板背离所述基座本体的一侧,所述导电槽在所述基座本体所在平面的投影轮廓位于所述汇流条在所述基座本体所在平面的投影轮廓的外侧。4.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,还包括绝缘部,所述绝缘部位于所述基座本体的承载面,用于使所述基座本体与所述待蒸镀基板相...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐义岳志远
申请(专利权)人:北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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