一种用于磁控溅射镀膜的型材制造技术

本实用新型专利技术公开一种用于磁控溅射镀膜的型材，包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部，所述上部包括避让部、水平部以及连接部，所述避让部包括第一直线部、第一圆弧部和第二直线部，所述连接部连接第二直线部和水平部；所述下部包括2个安装部、安装部连接部和封闭端，所述安装部包括两个第二圆弧部和连接两个第二圆弧部的第三直线部，所述安装部连接部连接两个安装部的第二圆弧部，所述直线部通过第四直线部连接安装部的第二圆弧部，所述封闭端的一端连接第二圆弧部，所述封闭端的另一端贴在第一圆弧部上，形成封闭空间，本实用新型专利技术在保证强度的同时预留安装槽和避让槽。

Profile for magnetron sputtering coating

The utility model discloses a profile used for magnetron sputtering coating, which comprises an upper part, a lower part and a straight line connecting the upper part and the lower part. The upper part comprises a collision avoidance part, a horizontal part and a connecting part. The collision avoidance part comprises a first straight line part, a first arc part and a second straight line part, and the connecting part connects a second straight line part and a second straight line part. The lower part includes two installation parts, a connection part of the installation part and a closed end. The installation part includes two second arcs and a third straight line connecting two second arcs. The connection part of the installation part connects the second arc part of the two installation parts, and the straight line part connects the second arc part of the installation part through the fourth straight line part. The arc part, one end of the closed end is connected with the second arc part, and the other end of the closed end is attached to the first arc part to form a closed space. The utility model reserves the installation groove and the avoidance groove while guaranteeing the strength.

【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射镀膜的型材
本技术涉及磁控溅射镀膜领域，具体是一种用于磁控溅射镀膜的型材。
技术介绍
磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。磁控溅射镀膜需要相配套的设备，由于磁控溅射镀膜的特点，需要设备的型材上预留两个安装槽和一个避让槽并保证强度。
技术实现思路
本技术提供一种用于磁控溅射镀膜的型材，在保证强度的同时预留安装槽和避让槽。为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种用于磁控溅射镀膜的型材，包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部，所述上部包括避让部、水平部以及连接部，所述避让部包括第一直线部、第一圆弧部和第二直线部，所述连接部连接第二直线部和水平部；所述下部包括2个安装部、安装部连接部和封闭端，所述安装部包括两个第二圆弧部和连接两个第二圆弧部的第三直线部，所述安装部连接部连接两个安装部的第二圆弧部，所述直线部通过第四直线部连接安装部的第二圆弧部，所述封闭端的一端连接第二圆弧部，所述封闭端的另一端贴在第一圆弧部上，形成封闭空间。进一步的，所述避让部开口朝上。进一步的，所述避让部的第一直线部与第二直线部平行，所述第一圆弧部为半圆，所述第二直线部的长度大于第一直线部的长度。进一步的，所述连接部为直线，所述直线部与水平部的夹角为钝角。进一步的，所述安装部连接部包括依次连接的第五直线部、第六直线部、第七直线部和第八直线部，第五直线部与其中一个安装部的第二圆弧部圆弧连接，第八直线部与另一个安装部的第二圆弧部圆弧连接，所述第六直线部与水平部平行。进一步的，第八直线部的顶部与直线部的垂直距离为88mm，第六直线部与避让部的顶端距离为30.7mm,所述型材的厚度为1.5mm。优选的，所述第三直线部朝向上部。本技术的有益效果是：本技术结构巧妙，将避让部设置在上端，两个安装部设置在下部，水平部用来放置设备的其他零部件，型材的封闭端贴在第一圆弧部上，形成封闭空间，这样整个型材能保证安装槽和避让槽的位置设置，又能提高整个型材的强度。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。图1为本技术用于磁控溅射镀膜的型材的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例提供了一种用于磁控溅射镀膜的型材，通过对结构的设计，如将整个型材分为上部和下部，将避让槽设置在上部，安装槽设置在下部，封闭端的另一端贴在第一圆弧部上，形成封闭空间，保证安装槽和避让槽的位置设置，又能提高整个型材的强度。图1为本技术用于磁控溅射镀膜的型材的结构示意图，如图1所示，一种用于磁控溅射镀膜的型材，包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部1，所述上部包括避让部2、水平部3以及连接部4，所述避让部2包括第一直线部21、第一圆弧部22和第二直线部23，所述连接部4连接第二直线部23和水平部3；所述下部包括2个安装部5、安装部连接部6和封闭端7，所述安装部5包括两个第二圆弧部51和连接两个第二圆弧部的第三直线部52，所述安装部连接部6连接两个安装部5的第二圆弧部51，所述直线部1通过第四直线部8连接安装部的第二圆弧部51，所述封闭端7的一端连接第二圆弧部51，所述封闭端7的另一端贴在第一圆弧部22上，形成封闭空间。在本技术一实施例中，所述避让部2开口朝上。在本技术一实施例中，所述避让部2的第一直线部21与第二直线部23平行，所述第一圆弧部为22半圆，所述第二直线部23的长度大于第一直线部21的长度。在本技术一实施例中，所述连接部4为直线，所述直线部1与水平部3的夹角为钝角，这样避让部2的开口倾斜朝上。在本技术一实施例中，所述安装部连接部6包括依次连接的第五直线部61、第六直线部62、第七直线部63和第八直线部64，第五直线部61与其中一个安装部的第二圆弧部51圆弧连接，第八直线部64与另一个安装部的第二圆弧部51圆弧连接，所述第六直线部62与水平部3平行。在本技术一实施例中，第八直线部64的顶部与直线部1的垂直距离为88mm，第六直线部与避让部的顶端距离为30.7mm,所述型材的厚度为1.5mm。在本技术一实施例中，所述第三直线部朝向上部。以上所述仅为本技术的优选实施方式而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于磁控溅射镀膜的型材，其特征在于，包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部，所述上部包括避让部、水平部以及连接部，所述避让部包括第一直线部、第一圆弧部和第二直线部，所述连接部连接第二直线部和水平部；所述下部包括2个安装部、安装部连接部和封闭端，所述安装部包括两个第二圆弧部和连接两个第二圆弧部的第三直线部，所述安装部连接部连接两个安装部的第二圆弧部，所述直线部通过第四直线部连接安装部的第二圆弧部，所述封闭端的一端连接第二圆弧部，所述封闭端的另一端贴在第一圆弧部上，形成封闭空间。

【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射镀膜的型材，其特征在于，包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部，所述上部包括避让部、水平部以及连接部，所述避让部包括第一直线部、第一圆弧部和第二直线部，所述连接部连接第二直线部和水平部；所述下部包括2个安装部、安装部连接部和封闭端，所述安装部包括两个第二圆弧部和连接两个第二圆弧部的第三直线部，所述安装部连接部连接两个安装部的第二圆弧部，所述直线部通过第四直线部连接安装部的第二圆弧部，所述封闭端的一端连接第二圆弧部，所述封闭端的另一端贴在第一圆弧部上，形成封闭空间。2.根据权利要求1所述一种用于磁控溅射镀膜的型材，其特征在于,所述避让部开口朝上。3.根据权利要求2所述一种用于磁控溅射镀膜的型材，其特征在于,所述避让部的第一直线部与第二直线部平行，所述第一圆弧部...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋道顶，
申请(专利权)人：无锡市重本异型钢管有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32