The invention provides a method and device for cleaning mask plates. The method of cleaning the mask includes: providing a mask plate to be cleaned, the mask plate to be cleaned includes a mask version body and a metal to be cleaned, the metal to be cleaned is formed on at least a part of the surface of the mask version body, and the mask version body to be cleaned is cathodically protected under the conditions of the mask version body being cleaned. The cleaning mask is cleaned. The inventor found that the method is simple, convenient, easy to implement, wide selection of cleaning solution, low cleaning cost, high efficiency, at least part of the metal to be cleaned can be recycled, saving economic and time costs.
【技术实现步骤摘要】
清洗掩膜版的方法以及装置
本专利技术涉及电化学
，具体的，涉及清洗掩膜版的方法以及装置。
技术介绍
OLED显示装置由于具有自主发光、色彩鲜艳、低功耗、广视角等优点被应用的越来越广泛。目前，制作OLED显示装置时普遍采用蒸镀技术，其中金属掩膜版(MetalMask，简称Mask)在整个OLED显示装置生产工艺中扮演着极其重要的角色。在蒸镀过程中，蒸镀材料会沉积到Mask上，且随着蒸镀次数和时间的增加，Mask上沉积的蒸镀材料会越来越厚，进而影响金属掩膜版的尺寸精度，导致各种蒸镀不良。因此，当Mask使用一段时间后需要对其进行清洗，从而保证蒸镀效果。目前关于清洗掩膜版的方法的研究有待深入。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种操作简单、清洗效果较佳、几乎不会损坏掩膜版本体或者清洗成本低的清洗掩膜版的方法。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种清洗掩膜版的方法。根据本专利技术的实施例，该方法包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所...
【技术保护点】
1.一种清洗掩膜版的方法，其特征在于，包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗。
【技术特征摘要】
1.一种清洗掩膜版的方法，其特征在于，包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述掩膜版本体的材料包括铁、铁镍合金或者不锈钢中的至少之一；形成所述待清洗金属的材料包括镁、镁和银的混合物或者含锂化合物。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗包括：将所述待清洗的掩膜版和保护金属同时浸没在清洗液中，并将所述保护金属与所述待清洗的掩膜版电连接，所述保护金属的腐蚀电位低于所述掩膜版本体的腐蚀电位且高于所述待清洗金属的腐蚀电位。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述保护金属包括铝合金、钛合金中的至少之一。5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗包括：将惰性电极的至少一部分和所述待清洗的掩膜版浸没在清洗液中，并将所述惰性电极和所述待清洗的掩膜版分别与直流电源的正极和负极电连接，其中，所述直流电源的负极的电位低于所述掩...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐倩，丁渭渭，嵇凤丽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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