The invention relates to the technical field of surface treatment, and discloses a frame structure including a frame, a manufacturing strip and a supporting piece. A positioning groove is formed on the inner edge of the frame, a manufacturing strip is detachably installed in the positioning slot, a groove is formed on the manufacturing strip, the supporting piece is fixed in the groove, and the supporting piece forms a supporting mask. Plane, when the type and design of the product to be evaporated change, just remove the strip from the frame positioning groove, and simply polish the frame, and then the modified strip can be detachably installed in the positioning groove, the support is fixed in the groove, and form a support for the corresponding mask. Plane, therefore, can ensure the fixed demand of different mask plate, when fixing different mask plate, only need to change the production strip, do not need to abandon the existing frame structure, so the frame structure can be used to fix a variety of mask plate, good versatility, improve the utilization of the frame, save costs and production time.
【技术实现步骤摘要】
一种框架结构
本专利技术涉及表面处理
,尤其涉及一种框架结构。
技术介绍
在表面处理
,精细金属掩膜(FMMMask)模式是通过蒸镀方式将OLED(有机发光二极管)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(低温多晶硅技术)背板上,在蒸镀过程中利用FMM(精细金属)上的图形将有机物蒸镀到规定位置上。目前,由于用于蒸镀过程中的Frame框架上有覆盖条的沟槽设计的限制,使得每种框架只能焊接一种宽度的精细金属掩膜版,当待蒸镀产品型号及设计发生变化,对应的覆盖条的沟槽排布就会发生变化,之前产品使用的Frame框架因沟槽不匹配将不能重复使用,故需要更换掩膜版,重新设计对应的Frame框架,而框架的制造费用很高,造成成本浪费,因此,设置一种能够用于固定多种的掩膜版的框架显得尤为必要。
技术实现思路
本专利技术提供一种框架结构,该框架结构能够用于固定多种掩膜版,提高框架的利用率,减少成本。为达到上述目的,本专利技术提供以下技术方案:一种框架结构,包括框架、制作条以及支撑件,所述框架的内边缘上形成有定位槽,所述制作条可拆卸地安装于所述定位槽,所述制作条上形成有沟槽,所述支撑件固定在沟 ...
【技术保护点】
1.一种框架结构,其特征在于,包括框架、制作条以及支撑件,所述框架的内边缘上形成有定位槽,所述制作条可拆卸地安装于所述定位槽,所述制作条上形成有沟槽,所述支撑件固定在沟槽内,所述支撑件形成支撑掩模版的支撑平面。
【技术特征摘要】
1.一种框架结构,其特征在于,包括框架、制作条以及支撑件,所述框架的内边缘上形成有定位槽,所述制作条可拆卸地安装于所述定位槽,所述制作条上形成有沟槽,所述支撑件固定在沟槽内,所述支撑件形成支撑掩模版的支撑平面。2.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条焊接或粘结在所述定位槽内。3.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条采用金属材料制备。4.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条采用Invar36制备。5.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条的厚度不小于所述支撑件的厚度。6.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:李冬伟,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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