The invention provides a semiconductor manufacturing device capable of identifying tiny cracks and a manufacturing method for semiconductor devices. A semiconductor manufacturing device has a supporting part, which supports the lower surface of a bare chip; a shooting part, which takes a pose of a bare chip above the supporting part; and a control unit that deforms the bare chip by means of the supporting part to form a convex or concave part on the upper surface side of the bare chip, and uses the description. The shooting section takes the upper surface of the bare chip.
【技术实现步骤摘要】
半导体制造装置及半导体器件的制造方法
本公开涉及半导体制造装置,能够应用于例如具有裸芯片外观检查功能的芯片贴装机。
技术介绍
在半导体器件的制造中,为了检测出在半导体晶片或成为单片的半导体芯片上产生了的裂痕,而通过目测判定或识别摄像头等进行外观检查。专利文献1:日本特开2012-182356号公报在利用识别芯片贴装机的裸芯片姿势等的光学系统(图像识别)来检测裂痕的情况下,裂痕检测能力是宽度50μm以上。但是,层叠存储器产品等的裸芯片的微小裂痕是宽度3μm以下,因此远超出芯片贴装机的图像识别能力。
技术实现思路
本公开的课题在于提供一种能够识别微小裂痕的技术。其它课题和新的特征根据本说明书的记述及附图而变得明朗。简单说明本公开中具有代表性的概要如下。即,一种半导体制造装置,其具有:支承部,其支承裸芯片的下表面;拍摄部,其拍摄所述支承部上方的裸芯片的姿势;以及控制部,其利用所述支承部以在所述裸芯片的上表面侧形成凸或者凹的部位的方式使所述裸芯片变形,并利用所述拍摄部拍摄所述裸芯片的上表面。根据上述半导体制造装置,能够提高裂痕的识别精度。附图说明图1是示出实施例的芯片贴装机的构成的概略俯视图。图2是示出图1的裸芯片供给部的构成的外观立体图。图3是示出图2的裸芯片供给部的主要部分的概略剖视图。图4是说明图1的芯片贴装机的概略构成及其动作的图。图5是示出控制系统的概略构成的框图。图6是说明第一实施例的半导体制造装置的裸芯片贴装工序的流程图。图7是用于说明裂痕检测宽度扩大原理的图。图8是用于说明裸芯片的外观检查识别的概念图。图9是示出上推单元的构造的图。图10是用于说明裸芯 ...
【技术保护点】
1.一种半导体制造装置,其特征在于,具有:支承部,其支承裸芯片的下表面;拍摄部,其拍摄所述支承部上方的裸芯片的姿势;以及控制部,其利用所述支承部以在所述裸芯片的上表面侧形成凸或者凹的部位的方式使所述裸芯片变形,并利用所述拍摄部拍摄所述裸芯片的上表面。
【技术特征摘要】
2017.01.26 JP 2017-0119971.一种半导体制造装置,其特征在于,具有:支承部,其支承裸芯片的下表面;拍摄部,其拍摄所述支承部上方的裸芯片的姿势;以及控制部,其利用所述支承部以在所述裸芯片的上表面侧形成凸或者凹的部位的方式使所述裸芯片变形,并利用所述拍摄部拍摄所述裸芯片的上表面。2.如权利要求1所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有裸芯片供给部,该裸芯片供给部具有保持晶片的晶片保持台和将裸芯片从晶片上推的上推单元,所述晶片保持台具有:晶片环,其保持贴附有所述裸芯片的切割带;以及扩展器,其将所述切割带拉伸变宽,所述上推单元具有:上推所述裸芯片的块部;以及吸附部,其吸附所述裸芯片的周围的所述切割带,所述支承部是所述上推单元。3.如权利要求2所述的半导体制造装置,其特征在于,所述块部具有:第一块,其设于最外周;第二块,其设于所述第一块的内侧;以及第三块,其设于所述第二块的内侧,所述第一块的外周小于所述裸芯片的外周,所述控制部使所述第一块、第二块及第三块独立地上升及下降。4.如权利要求3所述的半导体制造装置,其特征在于,所述控制部在以下状态下利用所述拍摄部拍摄所述裸芯片:(a)没有利用所述第一块、第二块及第三块上推所述裸芯片的状态;(b)使所述第一块、第二块及第三块上升来上推所述裸芯片的状态;(c)使所述第二块及第三块上升来上推所述裸芯片的状态;以及(d)使所述第三块上升来上推所述裸芯片的状态。5.如权利要求4所述的半导体制造装置,其特征在于,所述控制部比较原图像与检查图像来检查裂痕,该原图像是针对无裂痕的裸芯片,在所述(a)状态、(b)状态、(c)状态及(d)状态的各个状态下拍摄得到的图像,该检查图像是针对作为检查对象的裸芯片,在所述(a)状态、(b)状态、(c)状态及(d)状态的各个状态下拍摄得到的图像。6.如权利要求1~5中任一项所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有贴装部,该贴装部具有将所述裸芯片贴装在已经贴装了的裸芯片上的贴装头。7.如权利要求1~5中任一项所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有拾取头,该拾取头拾取所述裸芯片。8.如权利要求7所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有贴装部,该贴装部将拾取的所述裸芯片贴装于基板或者已经贴装了的裸芯片上。9.如权利要求8所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有中间载台,拾取的所述裸芯片被载置在所述中间载台上,所述贴装部将在所述中间载台上载置的裸芯片贴装于所述基板或者已经被贴装于所述基板的裸芯片上。10.如权利要求9所述的半导体制造装置,其特征在于,拾取的所述裸芯片被上下反转,所述贴装部将上下反转了的所述裸芯片贴装于所述基板。11.如权利要求7所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有用于收纳裸芯片的容器,拾取的所述裸芯片被载置于所述容器。12.如权利要求1所述的半导体制造装置,其特征在于,还具有:拾取头,其拾取所述裸芯片;中间载台,其载置拾取的所述裸芯片;以及贴装头,其将在所述中间载台上载置的裸芯片贴装于基板或者已经被贴装于基板的裸芯片上,所述支承部是所述中间载台。13.如权利要求12所述的半导体制造装置,其特征在于,所述中间载台具有:吸附孔,其对所述裸芯片的外周附近进行真空吸附;以及开口部,其对所述裸芯片的中央附近进行真空吸引或者向所述裸芯片的中央附近吹出空气,所述吸附孔通过第一路径与真空源连接,所述开口部通过相对于所述第一路径独立的第二路径与真空源或者空气源连接。14.如权利要求13所述的半导体制造装置,其特征在于,所述控制部任意地设定来自所述真空源的真空压及来自所述空气源的气压。15.如权利要求13所述的半导体制造装置,其特征在于,所述开口部与所述裸芯片的大小同等或者是除了保持所述裸芯片的外周部的位置以外的大小。16.如权利要求13所述的半导体制造装置,其特征在于,所述控制部在以下的状态下利用所述拍摄部拍摄所述裸芯片:(a)利用所述吸附孔吸附所述裸芯片,没有利用所述开口部进行真空吸引或空气吹出的状态;(b)利用所述吸附孔吸附所述裸芯片,并利用所述开口部对所述裸芯片进行真空吸引的状态;以及(c)利用所述吸附孔吸附所述裸芯片,并利用所述开口部向所述裸芯片吹出空气的状态。17.如权利要求16所述的半导...
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