膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案技术

本申请涉及一种膜掩模；该膜掩模的制备方法；使用该膜掩模的图案形成方法；以及由该膜掩模制备的图案，所述膜掩模包括：透明基板、设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层、以及在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部。

Membrane mask, preparation method, pattern forming method using membrane mask, and pattern formed by membrane mask

The application relates to a membrane mask, a preparation method of the film mask, a pattern forming method using the mask, and a pattern prepared by the mask, including a transparent substrate, a dark light shielding pattern layer set on the transparent substrate, and a area without a dark light shielding pattern layer. A grooves set.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案
本申请要求于2016年1月27日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2016-0010237的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用并入本说明书中。本申请涉及一种膜掩模、其制备方法、使用所述膜掩模的图案形成方法和由所述膜掩模形成的图案。
技术介绍
当基于常规膜掩模的卷对卷光刻技术不能确保与待图案化的基板的粘合力时，出现图案的分辨率降低和各个位置的偏差。为了克服在对各个位置图案化时的偏差，引入层压工艺以在图案化过程中将紫外曝光区域中的膜掩模最大程度地粘附至基板。然而，层压工艺具有的缺点为，由于诸如层压用轧辊通常具有3/100mm以上的公差的加工公差以及由压力引起的变形等特性，难以保持精确的公差。为了克服这个缺点，近来已经尝试使用干膜抗蚀剂(下文称为DFR)的图案化技术，对于该技术，进行如下工艺，包括：在室温至接近约100℃下对膜状态的干膜抗蚀剂加热，将干膜抗蚀剂层压在基板上，再次层压膜掩模，然后进行紫外曝光。然而，由于在实际图案化过程中难以克服DFR的分辨率问题的缺点，以及难以将膜的厚度调节为理想厚度的缺点，干本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜掩模，包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.27 KR 10-2016-00102371.一种膜掩模，包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部。2.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述凹槽部直接形成在所述透明基板上。3.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述凹槽部形成在所述透明树脂上设置的单独树脂层中。4.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述暗化光屏蔽图案层在紫外区域范围内的反射率为约30％以下。5.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述暗化光屏蔽图案层由黑色基体材料、炭黑类材料、混合有染料的树脂以及AlOxNy(0≤x≤1.5，0≤y≤1，x和y分别是O原子和N原子与一个Al原子的比值)中的至少一种构成。6.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：设置在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间的金属层。7.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间设置金属层，所述膜掩模包括该金属层中厚度彼此不同的两个以上的区域或所述暗化光屏蔽图案层中厚度彼此不同的两个以上的区域，或者，所述膜掩模包括在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间设置有金属层的区域，以及所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层彼此直接接触的区域。8.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：设置在所述暗化光屏蔽图案层和所述凹槽部上的表面保护层和剥离力增强层中的至少一种。9.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：设置在所述暗化光屏蔽图案层与所述透明基板之间的附着层。10.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述膜掩模包括设置在所述暗化光屏蔽图案层与所述透明基板之间的金属层，并且还包括设置在所述金...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄智泳，徐汉珉，韩尚澈，李承宪，吴东炫，徐大韩，裵南锡，宋民守，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR