与偏振无关的量测系统技术方案

一种量测系统包括：产生光的辐射源、光学调制单元、反射器、干涉仪和检测器。光学调制单元将光的第一偏振模式与光的第二偏振模式在时间上分离开。反射器将光朝衬底引导。干涉仪干涉从衬底上的图案所衍射的光或者从衬底所反射的光，并且由干涉产生输出光。检测器接收来自干涉仪的输出光。输出光的第一偏振模式和第二偏振模式在检测器处在时间上被分离开。

Polarization independent measurement system

A measuring system includes: radiation source for producing light, optical modulation unit, reflector, interferometer and detector. The optical modulation unit divides the first polarization mode of the light with the second polarization mode of the light in time. The reflector guides the light toward the substrate. The interferometer interferes with the light diffracted from the pattern on the substrate or the light reflected from the substrate, and produces output light by interference. The detector receives the output light from the interferometer. The first polarization mode and the second polarization mode of the output light are separated at the time of the detector.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】与偏振无关的量测系统相关申请的交叉引用本申请要求于2015年10月27日递交的美国临时专利申请No.62/247,116的优先权，并且该美国临时专利申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
本公开涉及可以用在例如光刻设备中的量测系统。
技术介绍
光刻设备是将所需的图案施加至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，可替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生对应于IC的单层的电路图案，并且该图案可以成像到具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或多个管芯)上。通常，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器；在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每一个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。另外，能够通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。另一种光刻系统是干涉式光刻系统，其中，不存在图案形成装置，而是将光束分成两个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量测系统，包括：辐射源，配置成产生光；光学调制器，配置成将所述光的第一偏振模式与所述光的第二偏振模式在时间上分离开；反射器，配置成将所述光朝衬底引导；干涉仪，配置成接收已经从所述衬底上的图案所衍射的光或者从所述衬底所反射的光，并且由所衍射的光或所反射的光之间的干涉产生输出光；和检测器，配置成接收来自所述干涉仪的输出光，其中，所述输出光的第一偏振模式与第二偏振模式在所述检测器处在时间上被分离开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.27 US 62/247,1161.一种量测系统，包括：辐射源，配置成产生光；光学调制器，配置成将所述光的第一偏振模式与所述光的第二偏振模式在时间上分离开；反射器，配置成将所述光朝衬底引导；干涉仪，配置成接收已经从所述衬底上的图案所衍射的光或者从所述衬底所反射的光，并且由所衍射的光或所反射的光之间的干涉产生输出光；和检测器，配置成接收来自所述干涉仪的输出光，其中，所述输出光的第一偏振模式与第二偏振模式在所述检测器处在时间上被分离开。2.根据权利要求1所述的量测系统，其中，所述光学调制器包括：偏振分光器，配置成将所述光分成具有所述第一偏振模式的第一偏振光和具有所述第二偏振模式的第二偏振光；光学延迟元件，配置成改变所述第一偏振光的群延迟；和光学耦合器，配置成组合延迟的第一偏振光与所述第二偏振光，使得所述第一偏振模式与所述第二偏振模式在组合后的光中在时间上分离开。3.根据权利要求2所述的量测系统，其中，所述光学调制器配置成从所述辐射源接收光并且将所述组合后的光传输至分光器。4.根据权利要求2所述的量测系统，其中，所述光学延迟元件包括配置成增加所述第一偏振光的光学路径长度的光纤。5.根据权利要求2所述的量测系统，其中，所述光学延迟元件包括配置成增加所述第一偏振光的光学路径长度的多个反射镜。6.根据权利要求2所述的量测系统，其中，所述光学调制器配置成接收已经从所述衬底上的图案所衍射的光或所反射的光并且将所述组合后的光传输至所述干涉仪。7.根据权利要求2所述的量测系统，其中，所述辐射源包括脉冲式激光源，所述脉冲式激光源配置成输出具有不同波长的脉冲，其中所述光学调制器配置成基于所述脉冲的波长将不同的调制施加到所述脉冲。8.根据权利要求1所述的量测系统，其中，所述辐射源包括连续激光源。9.根据权利要求8所述的量测系统，其中，所述光学调制器配置成从所述连续激光源接收光，并且将从所述连续激光源接收的所述第一偏振模式与所述第二偏振模式在时间上分离开。10.根据权利要求9所述的量测系统，其中，所述光学调制器还配置成将一信号传输至所述检测器，所述信号与所述光的第一偏振模式和第二偏振模式之间的在时间上的分离相关。11.根据权利要求8所述的量测系统，其中，所述光学调制器包括：偏振分光器，配置成将来自所述连续激光源的光分成具有所述第一偏振模式的第一偏振光和具有所述第二偏振模式的第二偏振光；第一光学调制器，配置成将调制施加到所述第一偏振光；和第二光学调制器，配置成将调制施加到所述第二偏振光，其中，所述第一调制和所述第二调制被施加成使得当重新组合所述第一偏振光和所述第二偏振光时，所述第一偏振模式与所述第二偏振模式在时间上被分离开。12.一种量测系统，包括：辐射源，配置成产生光；反射器，配置成将所述光朝衬底引导；光学调制器，包括：偏振分光器，配置成将从所述衬底...

【专利技术属性】
技术研发人员：K·肖梅，J·L·克勒泽，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL