ASML控股股份有限公司专利技术

ASML控股股份有限公司共有132项专利

  • 公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法,该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备...
  • 一种方法包括:在器件图案化过程的第一器件光刻步骤之后,测量物体上的劣化的量测标记和/或与所述劣化的量测标记相关联的器件图案特征,所述劣化的量测标记至少部分地起因于所述物体上的所述第一器件光刻步骤;和在所述物体上的所述器件图案化过程的第二...
  • 一种方法,包括在至少部分地位于装置内的同时在结构上印刷装置标记。该结构是衬底台的一部分或者位于衬底台上,但是与将由装置保持的衬底分离。使用装置内的传感器系统测量装置标记。
  • 一种光刻设备可以包括具有第一电导体的固定框架和被配置为支撑物体的支撑结构。支撑结构可移动地耦合到框架并且具有第二电导体。光刻设备还可以包括将第一电导体电耦合到第二电导体的导电流体。
  • 颗粒捕集器组件配置成减少具有较大范围的尺寸、材料、行进速度和入射角的污染物颗粒到达颗粒敏感环境的可能性。所述颗粒捕集器可以是位于光刻设备的静止零件与可移动零件之间的间隙几何颗粒捕集器。所述颗粒捕集器也可以是位于光刻或量测设备中的颗粒敏感...
  • 用于量测设备的照射系统可以实现照射空间分布灵活性、高偏振消光比以及高对比度。照射系统包括偏振分束器(PBS)、照射模式选择器(IMS)和反射式空间光调制器(SLM)。PBS将照射束分成子束。IMS具有透射至少一个子束的多个孔径,且可以设...
  • 一种测量装置,包括:锥形光纤,该锥形光纤具有用于接收辐射的输入并且具有用于朝向测量目标提供在光谱上增宽的输出辐射的输出,锥形光纤被配置为在光谱上增宽在输入处接收的辐射;以及检测器系统,被配置为从测量目标接收输出辐射的重定向部分。
  • 一种对准系统获得从晶片堆叠返回的光的特性。光束分析器测量波长、偏振和光束轮廓的变化。该测得信息允许在线工艺变化校正。校正提供单个标记堆叠变化的光学监控,并接着提供信息以减小单个标记工艺变化诱发的精确性误差。
  • 一种检查设备,包括:衬底保持装置,其配置成保持衬底;孔装置;和光学系统,其配置成将第一测量辐射束引导至衬底上,该第一测量辐射束具有第一强度分布,且光学系统配置成在第一测量束被引导至衬底上的同时将第二聚焦辐射束引导至衬底上,该第二聚焦辐射...
  • 公开了一种方法,包括将辐射束分割成具有第一偏振的所述辐射束的第一部分和具有第二偏振的所述辐射束的第二部分;形成具有在该第一偏振与该第二偏振之间的第一偏振分布的第一束和/或通过调制所述束的第一部分而具有第一强度分布的第一束;形成具有在该第...
  • 一种量测系统包括:产生光的辐射源、光学调制单元、反射器、干涉仪和检测器。光学调制单元将光的第一偏振模式与光的第二偏振模式在时间上分离开。反射器将光朝衬底引导。干涉仪干涉从衬底上的图案所衍射的光或者从衬底所反射的光,并且由干涉产生输出光。...
  • 一种对准系统使用自参考干涉仪,所述自参考干涉仪包括具有多个透镜元件组的物镜系统。在一个实施例中,物镜配置并布置成提供大数值孔径、长工作距离和低波前误差。
  • 具有传感器的设备以及执行目标测量的方法
    公开了用于测量目标(例如,对准标记(例如,在衬底上))的方法和设备。在“飞入”方向执行目标与测量系统的测量斑点之间的相对运动(例如,目标朝向测量斑点的运动),使得可以进行针对目标的第一测量。之后,在相反的“飞入”方向进行目标与测量斑点之...
  • 用于保持光刻设备的物体的卡盘和夹具和用于控制光刻设备的夹具保持的物体的温度的方法
    一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。
  • 包括气量计的设备及其操作方法
    诸如光刻设备的设备具有量测框架,量测框架具有安装在其上的参考框架,参考框架包括参考表面。气量计相对于参考框架、量测框架和被测表面可移动。气量计中的参考喷嘴向参考表面提供气体,并且测量喷嘴向被测表面提供气体。MEMS传感器可以与气量计一起...
  • 用于光学纤维连接的方法和设备
    一种系统,包括:第一部件,包括透镜琢面;和第二部件,被光学耦合至第一部件,第二部件包括锥形琢面,锥形琢面和透镜琢面彼此间隔开以便在第一部件与第二部件之间建立倏逝波耦合。
  • 对准系统的反馈控制系统
    讨论了一种在照射中心波长上具有长期稳定性的对准系统。对准系统包括可调谐辐射源和反馈控制系统。可调谐辐射源包括被配置成提供宽带辐射束的光源和被配置成将宽带辐射束滤波成具有中心波长值的窄带辐射束的可调谐多通带滤波器。反馈控制系统被配置成测量...
  • 具有图案化装置环境的光刻设备
    一种光刻设备在图案化装置(MA)与图案化装置遮蔽刀片(REB‑X,Y)之间注入气体,以帮助保护图案化装置免受污染。可以通过布置在图案化装置的至少一侧的一个或多个气体供应喷嘴(200),将气体注入到在图案化装置与图案化装置刀片之间限定的空...
  • 通过非均匀气流的掩模版冷却
    一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置...
  • 高数值孔径物镜系统
    公开了一种具有高数值孔径、大工作距离和跨越宽光谱带波长的低光学像差的物镜系统。物镜系统包括第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组。第一透镜组包括被定位成沿着物镜系统的光轴彼此相距一距离的第一和第二弯月透镜。距离可以取决于物镜系统的焦距。第二...
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