The present invention provides an integrated circuit structure and method for realizing the modification of the posterior segment of an integrated circuit, belonging to the integrated circuit technical field, including providing an integrated circuit structure, providing a test circuit, connecting the test circuit to the first test metal layer, and the first pending test based on the test circuit. A metal layer is used to test the integrity of the intermetallic medium in order to accumulate the preset atom in the first test metal layer to form a metal bulge at a preset position and to break through the pending insulation layer so that the first test metal layer and the second pending metal layer are converted from open circuit to short circuit state, and second. The second dressing structure of the metal layer to be tested is switched from open circuit to short circuit state. The beneficial effect of the invention is that the physical modification of the integrated circuit connection can be easily modified, which has the advantages of non destructive, rapid, economical, large sample size, and good statistics and analysis for the test results.
【技术实现步骤摘要】
一种实现集成电路后段连线修改的集成电路结构及方法
本专利技术涉及集成电路制造
,尤其涉及一种实现集成电路后段连线修改的集成电路结构及方法。
技术介绍
在集成电路设计及可靠性评估领域,经常需要对后段连线进行开路至短路(opentoshort)的物理修改。例如,在集成电路设计中,需要对芯片问题处作针对性的修改及测试以快速验证设计方案;如图1所示,在等离子损伤(Plasmainduceddamage,PID)可靠性评估中,为了快速查找失效层(faillayer),需要将原本在器件晶元(Devicewafer)顶部设置的顶部金属(topmetal)通过金属连接线(jumpermetal)连接到PAD的PID测试结构。在非全制程时连接到PAD上进行测试。目前主要的方法是用聚焦离子束(FocusedIonbeam,FIB)沉积金属来进行电路的切割以及金属的沉积,以进行电路的修改,其主要缺点是破坏性,昂贵,耗时,并且样品量有限,不利于对测试结果进行统计分析。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题,本专利技术涉及一种实现集成电路后段连线修改的集成电路结构及方法。本专利技术采用如下技术方案:一种实现集成电路后段连线修改的集成电路结构,所述集成电路结构包括:多个金属层,所述多个金属层包括相邻的第一待测试金属层和第二待测试金属层,所述第一待测试金属层包括至少一个第一梳状结构,每个所述第一待测试金属层的所述第一梳状结构之间为开路状态,所述第二待测试金属层包括至少一个第二梳状结构,每个所述第二待测试金属层的所述第二梳状结构之间为开路状态;至少一个绝缘层,每个所述绝缘层分别设置在 ...
【技术保护点】
1.一种实现集成电路后段连线修改的集成电路结构,其特征在于,所述集成电路结构包括:多个金属层,所述多个金属层包括相邻的第一待测试金属层和第二待测试金属层,所述第一待测试金属层包括至少一个第一梳状结构,每个所述第一待测试金属层的所述第一梳状结构之间为开路状态,所述第二待测试金属层包括至少一个第二梳状结构,每个所述第二待测试金属层的所述第二梳状结构之间为开路状态;至少一个绝缘层,每个所述绝缘层分别设置在相邻所述金属层之间,所述至少一个绝缘层包括设置在所述第一待测试金属层和所述第二待测金属层之间的待击穿绝缘层。
【技术特征摘要】
1.一种实现集成电路后段连线修改的集成电路结构,其特征在于,所述集成电路结构包括:多个金属层,所述多个金属层包括相邻的第一待测试金属层和第二待测试金属层,所述第一待测试金属层包括至少一个第一梳状结构,每个所述第一待测试金属层的所述第一梳状结构之间为开路状态,所述第二待测试金属层包括至少一个第二梳状结构,每个所述第二待测试金属层的所述第二梳状结构之间为开路状态;至少一个绝缘层,每个所述绝缘层分别设置在相邻所述金属层之间,所述至少一个绝缘层包括设置在所述第一待测试金属层和所述第二待测金属层之间的待击穿绝缘层。2.根据权利要求1的集成电路结构,其特征在于,所述第一待测试金属层包括两个所述第一梳状结构。3.根据权利要求2的集成电路结构,其特征在于,两个所述第一梳状结构在同一平面相对且层叠设置,两个所述第一梳妆结构的梳齿相互交叉且平行。4.根据权利要求2的集成电路结构,其特征在于,每个所述第一梳状结构分别连接一第一金属引线。5.根据权利要求1的集成电路结构,其特征在于,所述第二待测试金属层包括两个所述第二梳状结构。6.根据权利要求5的集成电路结构,其特征在于,两个所...
【专利技术属性】
技术研发人员:王帆,
申请(专利权)人:武汉新芯集成电路制造有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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