制剂及其制造方法技术

本发明专利技术的课题在于，提供一种制剂，其为包含含有有效成分及表面活性剂的粒子、以及基质的制剂，所述制剂的贮藏稳定性更优异。作为其解决方案，提供一种制剂，其包含：含有至少一种有效成分及至少一种表面活性剂的粒子、以及基质，所述制剂以下述比例含有所述表面活性剂，所述比例是相对于所述有效成分总量1重量份，所述表面活性剂的总量为5～100重量份。

【技术实现步骤摘要】
制剂及其制造方法本申请是中国申请号为201580035339.8、专利技术名称为“制剂及其制造方法”且申请日为2015年09月18日的专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种制剂及其制造方法。
技术介绍
包含含有有效成分及表面活性剂的粒子、以及基质的制剂用于例如医药、食品及化妆品等广泛的用途。作为用于医药、食品及化妆品等用途的上述制剂的一个例子，提出了包含芯壳结构体的制剂等，所述芯壳结构分别含有芯部为有效成分、且壳部为表面活性剂(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2006/025583号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术人等通过独自的研究发现：按照现有的制造方法制造上述制剂时，得到的制剂的贮藏稳定性存在改良的余地。因此，本专利技术的课题在于，提供一种贮藏稳定性更优异的制剂，其是包含含有有效成分及表面活性剂的粒子以及基质的制剂。用于解决课题的方案本专利技术人等为了解决上述课题重复进行了深入研究，发现：通过将制剂中的表面活性剂的含有比例相对于有效成分设为特定范围内，可以解决所述的课题。本专利技术是基于所述的见解进一步经过试行错误而完成的，包含以下的方面。项本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制剂，其包含粒子及基质，所述粒子包含含有至少一种有效成分的芯部，以及含有至少一种表面活性剂的壳部，所述有效成分含有具有亲水性基团及疏水性基团的化合物，并且，所述表面活性剂含有熔点为30℃以上的表面活性剂及熔点低于30℃的表面活性剂。

【技术特征摘要】
2014.09.19 JP 2014-191274;2014.10.17 JP 2014-213061.一种制剂，其包含粒子及基质，所述粒子包含含有至少一种有效成分的芯部，以及含有至少一种表面活性剂的壳部，所述有效成分含有具有亲水性基团及疏水性基团的化合物，并且，所述表面活性剂含有熔点为30℃以上的表面活性剂及熔点低于30℃的表面活性剂。2.如权利要求1所述的制剂，其中，所述基质的辛醇-水分配系数为6.5～17.0。3.如权利要求1所述的制剂，其中，所述基质含有：(a)酯化合物，其具有总数为两个以上的烃基，所述烃基是最长直链部分的碳原子数为5以上、且选自烷基、烯基及炔基中的至少一种烃基，并且，所述烃基中，最长直链部分最长的烃基与最长直链部分最短烃基之间的最长直链部分上的碳原子数之差小于5；和/或(b)碳原子数为12以上的烃。4.如权利要求3所述的制剂，其中，所述酯化合物及烃的溶解度参数(SP值)为6.5～10(cal/cm3)1/2。5.如权利要求3所述的制剂，其中，所述酯化合物为选自异壬酸酯、甘油三酯以及二醇的脂肪酸酯中的至少一种酯化合物。6.如权利要求3所述的制剂，其中，所述酯化合物为选自异壬酸异壬酯、异壬酸异十三烷基酯、二异壬酸新戊二醇酯、三异辛酸甘油酯及三庚酸甘油酯中的至少一种酯化合物。7.如权利要求1所述的制剂，其中，所述表面活性剂的HLB值的加权平均值为10以下。8.如权利要求1所述的制剂，其中，所述表面活性剂具有烷基链。9.如权利要求1所述的制剂，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：赤峰隆之，伊藤和志，利根纱织，阿部佳子，
申请(专利权)人：积水化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP