用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底被所述系统移动。所述真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间。通过位于隔间上的真空端部能够直接排空隔间，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空隔间。至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口。本发明专利技术的目的是，制造伸长真空系统，根据不同的一侧和两侧涂覆处理的要求进行灵活应用，并且在所述系统内进行该处理，所述系统确保稳定、可区分并且过程优化的溅射气氛。通过这样的事实实现该目的，在至少其中一个上方局部隔间内能够安装水平和／或竖直部件，用于将所述上方局部隔间分为数个子隔间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于对平坦基底的一侧或两侧施加涂层的伸长真空系统，基底能够利用输送系统在输送平台内移动通过真空系统。真空系统包括至少一个设有磁控管周围区域的磁控管，并且被能够闭合的隔离壁沿基底的输送方向被分成连续的隔间，隔离壁上具有抽吸口，磁控管能够被位于隔间上的真空连接装置直接排空或者被隔离壁上的抽吸口间接排空。至少一个隔间包括位于基底之上的上方局部隔间，所述局部隔间在其至少其中一个外壁上包括能够闭合的上开口。
技术介绍
在公开文本EP 1 179 516 A1中公开了一种涂覆系统，能够在基底通过系统的一次输运过程中对平坦基底的两侧进行涂覆涂层。在基底上方和下方同时设置的靶利用输送系统通过涂覆系统，能够在子隔间内对两侧基底表面进行同时涂覆。同时，尽管涂覆空间被突出进来的隔板分成几个子隔间，涂覆过程仍然可以仅在具有相同或类似气氛的子隔间内进行操作。对于处理气氛彼此显著不同的涂覆系统的同时操作，目前尚没有普遍获知将涂覆系统进一步细分为数个分别排空的子隔间，也没有获知将系统分隔为涂覆子隔间和排出子隔间。在欧洲专利EP 783 174大概介绍了这种涂覆系统。其实质特征是，在基底输送方向具有大量彼此相邻的子隔间，其一同构成真空腔室，并且彼此通过通道相连，该通道形成用于平坦基底的输送平台。通常，邻接的涂覆子隔间每个都具有阴极，涂覆子隔间被至少一个排出子隔间隔开。排出子隔间和涂覆子隔间之间的侧隔离壁包括抽吸口，通过抽吸口，利用相连的真空泵直接排空涂覆子隔间。当将两个相邻的涂覆子隔间被仅一个排出子隔间隔开时，从输送方向看，该位置的真空泵从而将前后的涂覆子隔间排空。由此，在排出子隔间反方向的两股气流彼此相遇，导致产生涡流，并且对于排出过程有不利影响，而且真空泵的性能价值下降。如果利用不同的溅射气氛操作不同的涂覆子隔间，需要在排出子隔间旁边设置与真空泵相连的其它子隔间，这些子隔间用作压力工段或者用于气体隔开。在这种情况下，由于其它需要的子隔间，涂覆系统被延长，导致纵向很长的系统，当彼此相邻设置多个不同的溅射气氛、溅射动力和/或阴极材料时，系统具有大的排出体积。在该系统的其它发展中，其在专利说明书DE 197 33 940中有述，利用横向于输送方向设置的横向隔离壁，与涂覆子隔间相比，排出子隔间被缩短，并且在中心被分开，因此，通过横向隔离壁内的适当凹槽和对应设置的挡板，根据对挡板的调节，横向隔离壁上方系列布置的真空泵将在前的或者在后的涂覆子隔间排空。通过调节挡板，泵的不对称(交替)分布产生了压力梯度，从而在相邻的、间接被排空的涂覆子隔间内溅射条件产生变化。还在这种布置中，涂覆子隔间通常在排出子隔间后，因此两个子隔间表现出不同的尺寸。相应的，对于每类子隔间具有不同尺寸的开口形成在每个子隔间的上壁内，该上壁或者保持真空泵或者保持盖。在每个盖上可安装包括屏幕、和介质提供和排出装置的阴极，可连同盖一起除去阴极，盖包括它的阴极包围物。同时，已经证明，由于每个涂覆系统中各子隔间的不同尺寸，因此不能改变所述子隔间的序列是很有利的。在至少一个位于要被分开的涂覆子隔间和与之相邻的排出子隔间之间的一个涂覆子隔间内，省略阴极及其阴极环境，以便实现用于操作具有不同溅射条件的系统的气体隔开。此外，挡板这样放置在相邻的排出子隔间内，两个泵将位于其间的分离子隔间排空。结果，并且如上所述，由于下一列泵中的每个第二个泵排空气体隔开之前和之后的涂覆子隔间，在挨着用于气体隔开的子隔间定位的涂覆子隔间内的泵动力显著减小，这导致两子隔间间的溅射条件相背离。
技术实现思路
因此，本专利技术的任务是提供一种伸长的涂覆系统，其被灵活设计成，对于系统内的处理循环，用于不同的一侧和两侧涂覆处理需求，从而确保一个稳定的、可区分的并且处理被最优化的溅射气氛。本专利技术这样解决该任务，在其中一个上方局部隔间内安装至少水平和/或竖直的部件，用于将上方局部隔间细分成多个子隔间。与本专利技术相应，对于其中一个可能的功能，例如用于涂覆、排出或气体隔开的子隔间，所述局部隔间表现出没有固定的状态。而且，通过安装或拆解这些水平和竖直部件，特别是通过可闭合的上部开口，每个局部隔间的设置被启动，用于在单个系统内可以变化的这些功能中的一个，而不会使系统的成本提高，综合转换的时间延长。对于真空系统的灵活设计选择，由于上述的水平和竖直部件能够拆卸，本专利技术的任务能满足特定的要求，使用者自己可不仅条件相应的设备还可调节开口的相应闭合，而且通过各子隔间的可变分离，单个系统可被调节而满足他的不同技术要求。同时，对应于计划的涂覆结果，彼此相随的处理子隔间的顺序几乎可以自由选择，而不会被与系统相关的条件所固定。这样，通过将局部隔间不定的细分为例如两个子隔间，特别是泵和用于气体隔开的子隔间可以被增加到一定的程度。所述的不定的细分特别有优势，因为它满足了稳定、可区分并且过程最优化的溅射气氛的要求。这样因此，例如，两个相邻子隔间中仅一个被通过闭合隔离壁上的抽吸口而被排空。此外，还防止真空泵中抽吸动力降低，否则会引起通过彼此相对的局部隔间的两股气流彼此相遇并且产生涡流而脱离彼此相对的局部隔间。在隔间内可以具有不同的处理气氛和对特定部件进行涂覆，而且可以维持稳定性，该稳定性与本专利技术的任务的重要方面相关。相应于本专利技术特别有利的实施例，可以在输送平台下方设置由分隔壁形成的至少一个其它的下部隔间，所述下部隔间在至少其中一个外壁上具有可闭合的下部开口，在每个分隔壁上具有可闭合的抽吸口。在每个子隔间内，移动经过系统的平坦基底将输送平台上方的空间与输送平台下方的空间分开，由此，输送平台作为基底在其中移动的平台。为了在两侧进行基底涂覆，因此在输送平台下面可形成涂覆空间。通过这样的事实，即，特别是如果该空间能够对应本专利技术的其它设计，而也具有安装的水平和/或竖直部件，以这种方式形成的两个空间子隔间被如此设计，使得以同等的方式作为上方局部隔间进行变化，为以上述方式进行的下侧涂覆提供稳定的、可区分的并且处理最优化的溅射气氛以及可以变化的涂覆参数。因此，真空泵或者可以与下方局部隔间连接，下方局部隔间独立于在基底之上定位的上方局部隔间设备，或者配备有至少一个磁控管，由此，以这种方式配备的子隔间的基底下方空间对于排空真空系统或者对于在完整循环内的下侧涂覆及由此进行的两侧涂覆都是有用的。在标准安装中，如果包括磁控管周围区域的磁控管通过上方和/或下方外壁上的开口进行安装，并且真空连接装置位于侧面的外壁的开口内，已经证明这是很实用的。但是，可以完全取代开口的这种分配，或者取代各个局部隔间的这种开口分配，结果是磁控管能够安装在真空系统的侧面。从输送方向看，对于特定的功能，或者对于至少同等的功能，例如气体隔开，如果涂覆系统的特定子隔间安装在输送平台的上方和下方，这被证明特别有利，由此，下方局部隔间与在输送平台之上和它相对的上方局部隔间，具有相同或至少类似的水平和/或竖直部件的设置。通过这样的事实，上方开口和下方开口，无论它们位于上方、下方还是侧面的外壁内，都能被盖闭合，并且至少一个包括磁控管周围区域的磁控管能够被安装在盖上，和/或真空连接装置位于适当的位置，或者盖可以仅用作闭合装置，可以将单一的系统转化为最广泛用途的涂覆结构。而且，对应于本专利技术的另一个实施例，如本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底能够在输送平台上被输送系统移动所述真空系统，其中，真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间，所述分隔壁包括抽吸口，通过位于隔间上的真空连接装置能够直接排空基底，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空基底，其中，至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口，其特征在于，在至少其中一个上方局部隔间（１ ８）内能够安装水平和／或竖直部件（１７，２０），用于将所述上方局部隔间（１８）分为数个子隔间（２１）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：沃尔夫冈埃尔布卡姆，迪特马尔舒尔策，延斯梅尔歇尔，奥拉夫加韦，
申请(专利权)人：冯阿德纳设备有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]