用于将涂料涂敷到基板上的真空装置组制造方法及图纸

本发明专利技术所提供的真空装置组及其变体用于将材料真空沉淀到基板上的领域。依据设计方案的第一变体，所述真空装置组与具有类似用途的公知设备的不同之处在于：所述真空室设置有主隔间和至少一个处理隔间；处理装置被安置在真空室的处理隔间中并且被安装成使得其能够平行于基板和／或基板支架的表面往复移入到真空室的主隔间内，且处理装置运送机构被安置在真空室的外面并且通过支撑架与处理装置连接。依据设计方案的第二变体，真空室的主隔间设置有一个开口和真空闸门阀，处理隔间被设计成一个单独的单元并且连接到真空室的主隔间上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的真空装置组及其变体用在真空沉淀领域上，亦即使材料沉淀到包括立体基板在内的基板上，例如显像管、平板显示器等，以在其正面上形成多层的薄膜型涂层，而且，在多装置组的真空设备中，所述真空装置组及其变体可用于形成不同材料的多组分及多层涂层。
技术介绍
已有公知的、用于在显像管(阴极射线管(CRT))组装之后，在显像管外表面上涂敷上薄膜型涂层的方法和设备。在该公知的设备中，具有不同的初步系统的沉淀室由沉淀区域和初步的区域构成。在该设备的操作过程中，沉淀区域的压力从1×10-1帕直到8×10-1帕，而在初步的区域中则为从5×10-3帕直到7×10-2帕。安置在基板支架上的CRT沿着真空室移动。在该实例中，基板支架设置有将真空室的空间分成两个区域的挡板，即沉淀区域和初步的区域。在该公知的设备中，导电涂料在真空中沉淀，例如通过磁控管沉淀到邻接CRT屏幕的定位环或其他接地区域的表面的一部分上，这促进了表面静电放电情形的消除〔1〕。然而，该公知设备的特征具有本质缺点。作为一种连续处理型设备，其生产率低下。除此之外，组装的CRT在真空室内部的移动不能排除来自结构部件表面的各种污染物以及不希望有的杂质的侵入，并且不能排除所述污染物和杂质沉淀在接受涂敷的表面上，因而，不能确保必需的涂层质量。在该实例中，当安排需要涂敷的CRT的一致的固体流通过设备时，系统中单个单元的任何故障均会导致系统全部关闭。由此，所述设备可靠性和适用性差，进而生产率低下。另外，与系统的生产率相比，该公知设备也不能够降低针对每一涂敷上沉淀材料的CRT的电力消耗，原因在于，系统的所有单元都要精准地运行以确保系统总体上的操作。公知的还有一种真空喷镀设备，该设备包括一个设置有一个开口的真空室、密封元件和预期用于沉淀涂料的处理装置，其中所述开口用于放置基板〔2〕。除此之外，公知的还有一种用于将涂料涂敷到基板上的真空组件(其变体)及组件系统，其包括一个设置有一个开口的真空室、密封元件、预期用于沉淀涂料的处理装置、真空闸门阀、以及处理装置运送机构，运送机构被安装成使得其能够平行于基板表面进行往复移动，其中所述开口用于放置基板〔3〕。该真空沉淀设备、其设计方案具有变体的真空组件以及组件系统预期用在真空沉淀领域上，亦即使材料沉淀到基板上，以形成高质量的薄膜型多层涂层。然而，预期用于在真空下将涂料涂敷到基板上的所有公知设备的特征具有共同的严重缺点，亦即由于污染和涂层自身的高缺陷率而不能确保涂层的应有质量；关于预防性及故障性维护，其使用寿命短；既不能确保涂层厚度的均匀性，也不能确保同质性；不能确保必需的生产率。因此，具有处理装置的车架在真空室内部的移动、以及在沉淀处理过程中沉淀到涂层上的不希望有的污染物的存在，极为严重地影响到涂层的清洁度和缺陷率，进而影响到其质量；除此之外，在车架移动期间，同样安置在真空室内部的各种连通部件(用于水、气体和电力供应)的存在需要非常精确且通常昂贵的措施，以保护所述连通部件免受热流和辐射流，其中所述热流和辐射流的影响会导致这些部件的表面的损毁，使真空变差，进而使涂层本身劣化；最后，将处理装置布置在涂料涂敷处理过程在其内进行的真空室的内部，使得真空室的某一指定空间内的许多此类装置的使用大大地受到限制，或者需要相当大地扩大该空间。在该实例中，预防性和调试性工作之间的连续操作周期缩短，进而设备总体上的生产率下降。
技术实现思路
所提出的专利技术旨在提高沉淀涂层的质量、提高生产率以及改进具有类似用途的设备的功能性和技术性特征。所产生的问题通过用于将涂料涂敷到基板上的、真空装置组中的真空室加以解决，其中所述真空装置组包括上述真空室、预期用于安置基板的基板支架、用于将涂料涂敷在基板上的处理装置以及处理装置运送机构，运送机构被安装成使得所述处理装置能够平行于基板和/或基板支架的表面进行往复移动，而其中依据本专利技术(变体1)，所述真空室设置有主隔间和至少一个处理隔间；处理装置被安置在真空室的处理隔间中，并且被安装成使得所述处理装置能够平行于基板和/或基板支架的表面、以往复方式移入到真空室的主隔间内，另外，处理装置运送机构安置在真空室的外面并且通过设置有连通部件的支撑架连接到处理装置，所述连通部件预期用于对处理装置进行供应。依据本专利技术的第二变体，真空室设置有主隔间和至少一个处理隔间，真空室的主隔间设置有一个开口和真空闸门阀，其中所述开口和真空闸门阀用于将主隔间与处理隔间连接在成单一的处理单元，并且所述开口和真空闸门阀被安置在一个垂直于基板支架和/或基板所处平面的平面上，将处理隔间设计成一个单独的单元，并且使其连接到真空室的主隔间上，而且，将处理装置安装在处理隔间中，从而所述处理装置能够平行于基板和/或基板支架的表面、以往复方式移入到真空室的主隔间内，另外，将处理装置运送机构安置在真空室的外面并且通过设置有连通部件的支撑架连接到处理装置，所述连通部件预期用于对处理装置进行供应。将支撑架设计成中空的圆柱形管子，其中所述管子与运送机构及处理装置刚性连接在，连通部件安置在所述管子内部，所述连通部件用作气体载体、水载体以及电力载体；除此之外，依据任一设计方案变体所提出的装置组中的真空室可包括两个或多个处理隔间，其中所述隔间各自包括一个处理装置；可将处理装置安装在与用于运送所述处理装置的机构连接在一起的平台上，并将所述处理装置设计成一组可更换的处理部件，即刻蚀、加速及溅射线性源、靶、磁控管溅射源、基板加热器，这些可更换的处理部件用于进行处理及将涂料涂敷到所述基板上。在该实例中，可将处理装置运送机构设计成一个车架和与运送机构刚性连接的支撑架，并且将处理装置安置在柔韧性的伸缩管的内部，所述伸缩管与处理隔间和运送机构密封性地连接。与具有类似用途的公知装置对比，作为一项专利技术提出的、用于将涂料涂敷在基板上的真空装置组及其设计方案的变体具有不容置疑的优点。例如，所要求保护的设计中的处理装置运送机构被安置在真空室的外面的事实使得大大地降低污染物的数量成为可能，其中所述污染物为机构在真空下移动时由磨损表面所造成。预期用于使处理装置的操作得以进行的连通部件(气体、水及电力载体)包括在中空的圆柱形支撑架内部的事实也有助于减少污染物，其中所述圆柱形支撑架被引到真空室的外面。在该实例中，根据进行涂料涂敷时处理装置相对于基板移动的行进范围选择支撑架的长度。并且支撑架自身起到防护屏的作用，保护连通部件的表面免受热流和辐射流的影响。由于依据变体2的真空室的工艺隔间可被设计成连接到真空室上的单独的单元，因而在该情况下，真空室的主隔间用作进行涂料涂敷的隔间，处理隔间则用于容纳处理装置。在该实例中，无需为真空室装配上额外的连通部件(气体、水及电力载体)，原因在于，全部连通部件已经在圆柱形支撑架的内部运转，并且可被安装在真空室上以及在其上独立起作用。因此，实际上使额外污染物侵入到真空室内的情形减至零。柔韧性伸缩管的使用(在真空装置组设计方案的两个变体中)旨在对连通部件进行真空密封。此时，伸缩管的一侧确保与处理隔间的真空气密性连接，且另一侧与安置在真空室外面的运送机构确保处于真空气密性连接。伸缩管在进行伸展和收缩时保持气密性的性能，使得对基板进行扫描而同时确保处理装置在主隔间中的无阻碍运动成为可能。安装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将涂料涂敷到基板上的真空装置组，其包括：一个真空室；一个预期用于安置基板的基板支架；一个用于将涂料涂敷到基板上的处理装置；及一个处理装置运送机构，其被安装成使得其能够平行于基板和／或基板支架的表面往复移动，其特征在于，所述真空室设置有主隔间和至少一个处理隔间；处理装置被安置在真空室的处理隔间中并且被安装成使得所述处理装置能够平行于基板和／或基板支架的表面往复移入真空室的主隔间内，而且，处理装置运送机构被安置在真空室的外面并且通过支撑架与所述处理装置连接。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：希里波夫弗拉基米尔雅科夫莱维奇，希萨莫夫艾拉特哈米图维奇，马雷舍夫谢尔盖帕夫洛维奇，勒什尤科米卡莱叶夫根列维奇，
申请(专利权)人：希里波夫弗拉基米尔雅科夫莱维奇，希萨莫夫艾拉特哈米图维奇，马雷舍夫谢尔盖帕夫洛维奇，勒什尤科米卡莱叶夫根列维奇，
类型：发明
国别省市：BY[白俄罗斯]