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本发明所提供的真空装置组及其变体用于将材料真空沉淀到基板上的领域。依据设计方案的第一变体，所述真空装置组与具有类似用途的公知设备的不同之处在于：所述真空室设置有主隔间和至少一个处理隔间；处理装置被安置在真空室的处理隔间中并且被安装成使得其能...该专利属于希里波夫.弗拉基米尔.雅科夫莱维奇;希萨莫夫.艾拉特.哈米图维奇;马雷舍夫.谢尔盖.帕夫洛维奇;勒什尤科.米卡莱.叶夫根列维奇所有，仅供学习研究参考，未经过希里波夫.弗拉基米尔.雅科夫莱维奇;希萨莫夫.艾拉特.哈米图维奇;马雷舍夫.谢尔盖.帕夫洛维奇;勒什尤科.米卡莱.叶夫根列维奇授权不得商用。