本发明提供一种清洁遮罩的方法及其实施装置。在本发明方法的第一变体中，其上安置有遮罩的冷却支架安装在真空室中；通过聚焦的带状离子束对朝向离子源的发射表面的接受处理的遮罩表面进行扫描。所选择扫描的切向速度使得在单次离子束通过遮罩表面期间，遮...

本发明所提供的真空装置组及其变体用于将材料真空沉淀到基板上的领域。依据设计方案的第一变体，所述真空装置组与具有类似用途的公知设备的不同之处在于：所述真空室设置有主隔间和至少一个处理隔间；处理装置被安置在真空室的处理隔间中并且被安装成使得...