蒸镀设备及其蒸镀源更换方法技术

一种蒸镀设备及其蒸镀源更换方法，其中该蒸镀设备包括一反应腔体、一子腔体、以及一第一蒸镀源。该子腔体连通该反应腔体，该子腔体包括一真空阀门以及一减压阀门，该真空阀门设于该子腔体与该反应腔体之间，该减压阀门设于该子腔体与大气环境之间。第一蒸镀源设于该子腔体之中。根据本发明专利技术的蒸镀设备及其蒸镀源更换方法可节省更换蒸镀源所花费的时间，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种蒸镀设备，特别涉及一种方便更新蒸镀材料的。
技术介绍
参照图1，其示出了现有的蒸镀设备1，该现有的蒸镀设备1包括一反应腔体10、一空穴注入单元(空穴注入蒸镀源)20、一空穴传输单元(空穴传输蒸镀源)30、一发光层涂布单元(发光层涂布蒸镀源)40、以及一电子传输单元(电子传输蒸镀源)50。该空穴注入单元20、空穴传输单元30、发光层涂布单元40、以及电子传输单元50设于该反应腔体10之中。基板2在该反应腔体10中以滚轮传输等方式(未图示)移动，并依序经过该空穴注入单元20、空穴传输单元30、发光层涂布单元40、以及电子传输单元50的上方。该空穴注入单元20、空穴传输单元30、发光层涂布单元40、以及电子传输单元50分别对该基板2进行制程处理。在现有技术中，当欲更新空穴注入单元20、空穴传输单元30、发光层涂布单元40、以及电子传输单元50中的蒸镀材料时，需要使蒸镀设备1停止运行，并解除反应腔体10中的真空状态，才能进行蒸镀材料的更换。由于将反应腔体10中的真空状态解除以及将其恢复需要花费相当长的时间，因此现有的蒸镀材料更换方式较费时，并因此导致生产成本的提高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决现有技术中存在的上述问题，提供一种。根据本专利技术一个方案的蒸镀设备包括一反应腔体、一子腔体、以及一第一蒸镀源。该子腔体连通该反应腔体，该子腔体包括一真空阀门以及一减压阀门，该真空阀门设于该子腔体与该反应腔体之间，该减压阀门设于该子腔体与大气环境之间。第一蒸镀源设于该子腔体之中。根据本专利技术，还提供了一种蒸镀源更换方法，包括如下步骤提供如上所述的蒸镀设备；封闭该真空阀门；开启该减压阀门，并从该子腔体中更换该第一蒸镀源；关闭该减压阀门，并将该子腔体中的气体压力降低至真空状态；以及开启该真空阀门。根据本专利技术另一个方案的蒸镀设备还包括一枢轴、一隔板、以及一第二蒸镀源，其中该枢轴设于该隔板上并设置于该子腔体内，使该隔板可通过该枢轴枢转，而该第一蒸镀源以及该第二蒸镀源则分别设于该隔板相对的两侧上。同时该方案还提供了一种蒸镀源更换方法，包括如下步骤提供如另一个方案中所述的蒸镀设备；封闭该真空阀门；开启该减压阀门；通过枢转将该第二蒸镀源取代该第一蒸镀源；关闭该减压阀门，并将该子腔体中的气体压力降低至真空状态；以及开启该真空阀门。根据本专利技术再一个方案的蒸镀设备包括一反应腔体；一子腔体，其连通该反应腔体，该子腔体包括一真空阀门以及一减压阀门，该真空阀门设于该子腔体与该反应腔体之间，该减压阀门设于该子腔体与大气环境之间；以及一第一蒸镀源，其中，该第一蒸镀源经过该子腔体，进入该反应腔体之中。同时该方案还提供了一种蒸镀源更换方法，包括如下步骤提供如该再一个方案中所述的蒸镀设备；开启该真空阀门，并将该第一蒸镀源移入该子腔体中；封闭该真空阀门；开启该减压阀门，并从该子腔体中更换该第一蒸镀源；关闭该减压阀门；将该子腔体中的气体压力降低至真空状态；开启该真空阀门；以及移动该第一蒸镀源进入该反应腔体。根据本专利技术又一方案的蒸镀设备，包括一反应腔体；一子腔体，其连通该反应腔体，该子腔体包括一真空阀门以及一减压阀门，该真空阀门设于该子腔体与该反应腔体之间，该减压阀门设于该子腔体与大气环境之间；一第一蒸镀源，其设于该反应腔体之中；以及一第二蒸镀源，其设于该子腔体之中，其中，当更换该第一蒸镀源时，该第一蒸镀源从该反应腔体经过该真空阀门进入该子腔体之中，该第二蒸镀源从该子腔体经过该真空阀门进入该反应腔体之中。应用本专利技术的蒸镀设备时，由于使用子腔体来分隔该反应腔体以及外界的大气环境。因此，当欲更换蒸镀源时，仅需要针对子腔体内的气体压力进行调整。另外，由于子腔体的体积较小，抽真空所耗费的时间将大幅缩短，因此可节省更换蒸镀源所花费的时间，降低生产成本。附图说明图1示出了现有的蒸镀设备；图2a示出了本专利技术第一实施例的蒸镀设备；图2b示出了第一实施例中子腔体内气体压力调整的情况；图2c示出了更换第一蒸镀源的情况；图3示出了本专利技术第一实施例的蒸镀源更换流程；图4a示出了本专利技术第二实施例的蒸镀设备；图4b示出了本专利技术第二实施例中第二蒸镀源替换第一蒸镀源的情况；图5a示出了本专利技术第三实施例的蒸镀设备；图5b示出了第三实施例中移动该第一蒸镀源的情况；图5c示出了第三实施例中子腔体内气体压力调整的情况；图6示出了本专利技术第三实施例的蒸镀源更换流程；图7示出了本专利技术第四实施例的蒸镀设备；图8示出了本专利技术第五实施例的蒸镀设备；图9a以及图9b示出了蒸镀源的详细结构。其中，附图标记说明如下1～蒸镀设备2～基板；10～反应腔体； 20～空穴注入单元；30～空穴传输单元 40～发光层涂布单元；50～电子传输单元； 60～金属棒；100、200、300、400、500～蒸镀设备；110～第一蒸镀源； 111～侧板；112～螺栓 113～坩埚；114～蒸镀材料；120～子腔体；121～真空阀门 122～减压阀门；210～第二蒸镀源221～枢轴； 222～隔板； 223～密封组件；310～第一蒸镀源； 320～子腔体；321～真空阀门； 322～减压阀门；420～子腔体； 421～真空阀门；422～减压阀门； 510～第二蒸镀源；S11、S12、...S15～第一实施例的蒸镀源更换步骤；S21、S22、...S26～第三实施例的蒸镀源更换步骤。具体实施例方式参照图2a，其示出了本专利技术第一实施例的蒸镀设备100，其包括一反应腔体10、一第一蒸镀源(空穴注入蒸镀源)110、一空穴传输单元30、一发光层涂布单元40、一电子传输单元50、以及一子腔体120。该第一蒸镀源110、空穴传输单元30、发光层涂布单元40、电子传输单元50、以及子腔体120均设于该反应腔体10之中。该第一蒸镀源110设于该子腔体120之中。该子腔体120包括一真空阀门121以及一减压阀门122。上述空穴传输单元30包括一空穴传输蒸镀源，发光层涂布单元40包括一发光层涂布蒸镀源，电子传输单元50包括一电子传输蒸镀源。(在本专利技术的实施例中，以空穴注入蒸镀源的更换为例，然而，上述每一种蒸镀源均可进行更换，其可利用旋转方式进入子腔体内，或是其它等效的方法，例如当子腔体在外部时，可以利用滑移子腔体的方式来进行更换)。参照图2a，当进行蒸镀时，真空阀门121开启，第一蒸镀源110对该基板2进行蒸镀。参照图3，当欲更换该第一蒸镀源110时，该真空阀门121关闭，以此隔绝该反应腔体10与该子腔体120(步骤S11，搭配参照图2b)。然后，该子腔体120内的气体压力被调整至常压状态(步骤S12)。接着，该减压阀门122开启，以更换该第一蒸镀源110(步骤S13，搭配参照图2c)。然后，关闭减压阀门122，将该子腔体120内的气体压力降低至真空状态(步骤S14，搭配参照图2b)。最后，真空阀门121开启(步骤S15，搭配参照图2a)，这样该第一蒸镀源110即可重新进行蒸镀制程。该第一蒸镀源110以可拆卸的方式设于该子腔体120之中。在一实施例中，该第一蒸镀源110以可滑动的方式设于该子腔体120之中，当欲更换时，该第一蒸镀源110滑出该子腔体120以进行更换。应用本专利技术的蒸镀设备，由于使用子腔体来分隔该反应本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀设备，包括：一反应腔体；一子腔体，其连通该反应腔体，该子腔体包括一真空阀门以及一减压阀门，该真空阀门设于该子腔体与该反应腔体之间，该减压阀门设于该子腔体与大气环境之间；以及一第一蒸镀源，其设于该子腔体之中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李兴铨，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]