本发明专利技术涉及一种用于真空覆层设备的工艺室的分隔装置和真空覆层设备，其中能够简单且经济地分隔相邻的工艺室的工艺气氛，并且能够给工艺室通风，同时在相邻的工艺室内维持在那里存在的工艺气氛。根据本发明专利技术的用于真空覆层设备的相继地布置的工艺室的分隔装置，包括可在两个工艺室之间横向于基底输送方向安置的分隔元件，所述真空覆层设备用于给平整基底覆层，所述分隔元件具有用于基底的通道，所述通道布置在基底输送平面的区域内并通过在该分隔元件内设置的至少一个通过开口构成，其特征在于，设有至少一个闭塞装置，其选择性地封闭或者开放所述通道。根据本发明专利技术的一个改进方案设计，此外还设有由中间室外壁构成的中间室，并且分隔元件布置在中间室内，并且所述中间室被划分成两个中间室部分。在该实施方式中，根据本发明专利技术的分隔装置构成了自己的室，该室能够布置在两个相邻的工艺室之间。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于真空覆层设备的、符合权利要求l的前序部分的分隔装置，本专利技术还涉及一种符合权利要求19的前序部分的真空覆 层设备。
技术介绍
在用于例如平整玻璃板的纵向延伸的平整的基底覆层的真空覆层 设备中，为了制造由不同的覆层材料的多层构成的层系统，基底被依 次地移动通过多个相继布置的工艺室，在这些工艺室的每一个内，基 底以覆层材料，例如通过溅射、温度蒸镀或者其他覆层工艺被覆层， 或者被施加刻蚀工艺，例如通过溅射或者离子束刻蚀。这类工艺大多 在比大气压力低的多的气氛压力(低压、真空)情况下进行，其中， 能够取决于覆层材料地把(惰性的或反应性的)工艺气体引入到相应 的工艺室内。为了将基底输送穿过真空覆层设备，大多数情况下都设 有延伸于整个系统的输送装置。它例如可以由多个横向于基底输送方 向布置的辊子组成，基底被置于其上并且其最上端的包络线以该方式 限定了输送平面，且这些辊子中的至少一部分是能够驱动的。工艺室系统的始端和终端通常分别布置有一个闸室，所述闸室用 于在持续的运行中闸入或闸出基底。此外，在一些设备中在每两个工 艺室之间还设有泵室，该泵室用于分隔相邻工艺室的工艺气氛。为了 在工艺室内产生和维持工艺压力，可以在闸室内设计一个或多个工艺 室以及(如果存在)在泵室内设计真空泵。相邻的工艺室的不同的工艺气氛的分隔对于覆层工艺的质量来说 具有决定性意义，因为在具有不同工艺气氛的工艺室之间的气体交换可能导致不纯净的层或者可能导致覆层材料与工艺气体的组成部分产 生不希望出现的化合物，该化合物沉积在基底上。
技术实现思路
因而本专利技术的任务在于，如下地改善已知的真空覆层设备，艮P， 使得相邻的工艺室的工艺气氛的分隔能够以简单且经济的方式实现。 本专利技术的另一个任务在于，允许工艺室通风，而同时在相邻的工艺室 内维持在那里存在的工艺气氛。换言之在工艺室内存在的压力条件 以及在那里现有的气体混合物不会被相邻的工艺室的通风消极地影 响。根据本专利技术，该任务通过具有权利要求l的特征的、用于真空覆层 设备的工艺室的分隔装置和具有权利要求18的特征的真空覆层设备来 解决。本专利技术的具备优点的实施方式是从属权利要求的主题。根据本专利技术的用于真空覆层设备的相继地布置的工艺室的分隔装 置，包括可在两个工艺室之间横向于基底输送方向安置的分隔元件， 所述真空覆层设备被用于给平整基底覆层，所述分隔元件具有用于基 底的通道，所述通道布置在基底输送平面的区域内并通过至少一个在 分隔元件内设置的通过开口构成，其特征在于，设有至少一个闭塞装 置，其能够选择性地封闭或者开放所述通道。根据本专利技术的分隔装置使得能够以结构简单的方式并且因而经济 地分隔真空覆层设备的相邻的工艺室的工艺气氛，从而在工艺室内存 在的压力条件以及在那里现有的气体混合物不会被相邻的工艺室的通 风消极地影响。例如，分隔元件可以替代工艺室的室连接壁，从而用 于基底的通道可以按需开启，使得基底能够通过该通道从一个工艺室 移动到相邻的工艺室内，或者用于基底的通道能够被封闭，从而可以 对一个工艺室进行通风，而同时在相邻的工艺室内维持在那里存在的 工艺气氛。6在本专利技术的一个实施方式中设计设有两个闭塞装置，其从分隔 元件的每一侧选择性地封闭或者开放通道。如果所采用的闭塞装置的 功能取决于压力下降的方向(单侧有效的闭塞装置)，则该实施方式 首先是有优点的。压力下降的方向又取决于两个相邻的工艺室中的哪 一个将被通风。所建议的在分隔元件的每一侧实施一个闭塞装置的方 式，使得在采用单侧有效的闭塞装置下，对两种情况的相邻的工艺室 的分隔成为可能。在本专利技术的另一个实施方式中设计至少一个闭塞装置被构造成 能够从所述输送平面移出的板。该板如下构造其完整地覆盖了通道， 并且该板在真空覆层设备的运行过程中使得把基底从一个工艺室输送 到相邻的工艺室成为可能，并且在两个工艺室的一个通风时阻止基底 的输送，同时也阻止相邻的工艺室之间的压力交换。在一个简化实施 中，该板能够垂直于基底的输送方向可移动地安装，例如在为此而设 计的引导装置内，该引导装置使得该垂直的移动成为可能。有优点的是至少一个闭塞装置被构造成能够从所述输送平面摆 出的板。此实施能够特别有利地制造，这是因为能够放弃上述公差相 对小的引导部。此外，摆动运动能够相对简单地通过电马达驱动来实 现。额外地也可以设计至少一个闭塞装置围绕横向于基底的输送方 向的摆动轴可摆动地安装。由此，闭塞装置例如可以在基底的输送平 面的上方或者下方区域内(那里存在足够空间的区域)摆动，从而闭 塞装置不会妨碍基底的输送。此外具备优点地也可以设计至少一个闭塞装置具有至少一个密 封元件，所述密封元件用于在闭塞装置和分隔元件之间的密封。密封 元件例如可以由弹性体制成。通过该密封元件能够改善工艺气氛的所争取的分隔。在一个简单并且经济的变形例中设计分隔元件被构造成分隔壁， 所述分隔壁具有构成用于基底的通道的通过开口。分隔壁例如可以由 钢板制成，在其通过开口上设有一个或多个闭塞装置，所述闭塞装置 根据需要开放或者封闭通过开口。分隔元件适合于替代工艺室的室连 接壁。另选地也可以设计分隔元件至少在通道的周围具有两个相互间 隔的壁部分，所述壁部分分别具有构成用于基底的通道的通过开口。 分隔元件也适合于替代工艺室的室连接壁。特别是，当设有两个可摆 动的闭塞装置时，所述闭塞装置分别布置在分隔元件的一侧，该实施 方式提供下述优点，S卩闭塞装置的摆动轨道不会与布置在分隔元件 两侧上的输送装置的输送辊子产生冲突，即，如果输送辊子的距离被 强制预给定，分隔元件的双壁的实施至少在通道的区域内构成用于两 个可摆动的闭塞装置的空间，输送辊子也布置在所述通道的区域内。在本专利技术的具有相互间隔地布置的壁部分的实施方式中，还可以 有优点地设计至少一个输送辊子布置在壁部分之间。尽管分隔元件 在基底输送方向上需要更多的空间，这些输送辊子间的间隔能够以这 种方式维持。根据本专利技术的一个改进方案设计，此外还设有由中间室外壁构成 的中间室，并且分隔元件布置在中间室内，以及中间室被划分成两个 中间室部分。在该实施方式中，根据本专利技术的分隔装置构成了自己的 室，该室能够布置在两个相邻的工艺室之间。如果这些工艺室具有自 己的室连接壁，那么该中间室不需要自己的连接壁，并且能够分别直 接与两个工艺室的一端连接。即使在工艺室不包括室连接壁的情况下， 中间室能够与工艺室连接，其中在这种情况下中间室部分扩大了相应 的工艺室的容积。然而根据本专利技术，还可以设计此外还设有至少一个中间室连接 壁，其与中间室外壁连接、把所述中间室横向于基底的输送方向地隔 开，所述中间室连接壁具有由通过开口构成的、用于基底的通道。由 此在两个工艺室之间布置中间室的情况下，可以放弃室连接壁。在该实施方式中具有优点的是在至少一个中间室连接壁内设有 至少一个真空开口，所述真空开口用于把中间室部分与相邻的工艺室 连接。由此与工艺室邻接的中间室部分能够被使用，以便在该工艺室 内生成真空或者维持真空。其他具备优点的是至少一个真空开口被构造成可以被封闭。由 此可以降低工艺室和中间室部分之间的气体交换。为了能够把中间室部分用于给工艺室抽真空或者分隔气体，具备 优点地设计至少一个中间室外壁在至少一个本文档来自技高网...
【技术保护点】
分隔装置，所述分隔装置用于真空覆层设备的相继布置的工艺室，所述真空覆层设备用于给平整基底覆层，所述分隔装置包括可在两个工艺室之间横向于所述基底的输送方向安置的分隔元件（１１），所述分隔元件（１１）具有用于所述基底的、在所述基底的输送平面（２）的区域内布置的通道（１２、１７），其特征在于，设有至少一个闭塞装置（１３、１８），所述闭塞装置（１３、１８）选择性地封闭或者开放所述通道（１２、１７）。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：米歇尔霍夫曼，约亨克劳泽，
申请(专利权)人：冯阿德纳设备有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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