一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基于Micro‑LED无掩模扫描式紫外曝光机，包括Micro‑LED、计算机及控制软件、待曝光工件表面和工作台。Micro‑LED发出的光直接作用在待曝光工件表面上，用计算机及控制软件(包括运动控制和图形控制)控制Micro‑LED每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形，使各图形连续拼接成所需要的曝光图形。本实用新型专利技术一种基于Micro‑LED无掩模扫描式紫外曝光机，由于Micro‑LED发出的光直接作用在待曝光工件表面上，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度等一系列革命性的技术进步。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。

A Micro-LED based maskless scanning UV exposure machine

The utility model discloses a Micro LED maskless scanning UV exposure machine, including the Micro LED, the computer and control software, the surface of the exposed workpiece and the worktable. The light emitted by the Micro LED directly acts on the surface of the exposed workpiece with the computer and control software (including motion control and graphic control) to control the graphics of the next position of the Micro LED, each or several refresh periods, so that the graphics are continuously spliced into the required exposure patterns. The utility model is based on the Micro LED maskless scanning UV exposure machine. Because the light emitted by the Micro LED directly acts on the surface of the exposed workpiece, there is no complicated optical machine loss, and a series of revolutionary technical progress can be achieved, such as higher energy efficiency, higher exposure intensity, and faster processing speed. And the structure is compact, easy to combine with robots to connect to the automatic production line.

【技术实现步骤摘要】
一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机
本技术涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机。
技术介绍
在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而目前现有无掩模曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影镜头的复杂结构，导致光源能量到工作表面能量损失过高，同时由于光源功率和DMD芯片最大承受功率受限，无法达到足够的曝光强度。
技术实现思路
本技术要解决的问题是：现有传统掩模式曝光机和无掩模紫外曝光机，系统效率低，曝光强度不足等问题。而本技术采用一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机，Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮。底层用CMOS集成电路工艺制成驱动电路。CMOS集成电路工艺主要包括硅基CMOS电路工艺和玻璃基CMOS电路工艺。Micro-LED发出的光直接作用到待曝光工件表面，没有经过准直、投影、芯片等一系列光学系统的损耗，所以不受光学系统能量传输效率、芯片最大功率承受能力以及光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于Micro‑LED无掩模扫描式紫外曝光机，其特征在于，包括Micro‑LED、计算机及控制软件、待曝光工件表面和工作台，其中计算机及控制软件的图形数据向Micro‑LED传输，放置在工作台上的待曝光工件表面与Micro‑LED没有间隙或有较小间隙，在运动和静止状态均与Micro‑LED平行；由于Micro‑LED发出的光直接作用在待曝光工件表面上，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。

【技术特征摘要】
1.一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机，其特征在于，包括Micro-LED、计算机及控制软件、待曝光工件表面和工作台，其中计算机及控制软件的图形数据向Micro-LED传输，放置在工作台上的待曝光工件表面与Micro-LED没有间隙或有较小间隙，在运动和静止状态均与Micro-LED平行；由于Micro-LED发出的光直接作用在待曝光工件表面上，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。2.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机，其特征在于，所述Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。3.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机，其特征在于，所述Micro-LED用作光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm，LED阵列的行数M≥2，列数N≥2。4.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模扫描...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙雷，
申请(专利权)人：北京德瑞工贸有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11