Includes a method for making electronic devices providing a semiconductor wafer; forming a plurality of cavities in the semiconductor wafer; the stabilized material is filled into the cavity; on the semiconductor wafer to make temporary panel by applying will cover, the cover plate covering the cavity; the temporary one of the panel is divided into a plurality of semiconductor devices; to make embedded chip by using the semiconductor device embedded within an encapsulating material; every semiconductor device of the cover removal; and the single chip embedded to is divided into a plurality of electronic devices.
【技术实现步骤摘要】
半导体空腔的临时机械稳定
本公开涉及一种用于制作电子器件的方法。
技术介绍
例如,麦克风、压力和气体传感器在诸如智能手机、平板电脑、笔记本电脑、汽车和医疗设备等的电子设备中使用。这种器件现在可以被构造为硅微机电系统(MEMS:micro-electro-mechanicalsystem)。例如,在麦克风中,背部容积空间形成在MEMS声音装置的下方或后方。例如,术语“背部容积空间”可以指与MEMS声音部件、例如声波可能作用的膜相反的空间,并且也可以称为背侧空腔。背部容积空间在一侧由MEMS膜限制,在另一侧由覆盖麦克风空腔的盖或罩限制。例如,如前所述,可以以半导体晶片、例如硅晶片作为开始在晶片级基础上制作MEMS器件。在例如通过刻蚀在半导体晶片中形成空腔之后,由于所述半导体晶片的低的机械稳定性,特别是如果所述空腔被刻蚀至先前已经制作在所述半导体晶片的主面上的薄MEMS结构,则可能会出现问题。对于所述半导体晶片的进一步加工,机械稳定性的这些问题可能会变成阻碍。
技术实现思路
根据本公开的第一方面,一种用于制作电子器件的方法包括:提供半导体晶片;在所述半导体晶片中形成多个空腔;将稳定化材料填充到所述空腔中;通过将盖片施加在所述半导体晶片上来制作临时面板,所述盖片覆盖所述空腔;将所述临时面板单个化地分割成多个半导体器件;通过将所述半导体器件嵌入包封材料中来制作嵌入式晶片;将每一个半导体器件的所述盖片去除;以及将所述嵌入式晶片单个化地分割成多个电子器件。根据本公开的第二方面,一种用于制作电子器件的方法包括:提供包括多个空腔的半导体晶片;将稳定化材料填充到所述空腔中;将所述 ...
【技术保护点】
一种用于制作电子器件的方法,所述方法包括:提供半导体晶片;在所述半导体晶片中形成多个空腔;将稳定化材料填充到所述空腔中;通过将盖片施加到所述半导体晶片上来制作临时面板,所述盖片覆盖所述空腔;将所述临时面板单个化地分割成多个半导体器件;通过将所述半导体器件嵌入包封材料中来制作嵌入式晶片;将每一个所述半导体器件的所述盖片去除;以及将嵌入式晶片单个化地分割成多个电子器件。
【技术特征摘要】
2016.09.23 DE 102016117990.61.一种用于制作电子器件的方法,所述方法包括:提供半导体晶片;在所述半导体晶片中形成多个空腔;将稳定化材料填充到所述空腔中;通过将盖片施加到所述半导体晶片上来制作临时面板,所述盖片覆盖所述空腔;将所述临时面板单个化地分割成多个半导体器件;通过将所述半导体器件嵌入包封材料中来制作嵌入式晶片;将每一个所述半导体器件的所述盖片去除;以及将嵌入式晶片单个化地分割成多个电子器件。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法还包括:在去除所述盖片之后,将所述稳定化材料从所述空腔中去除。3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述稳定化材料具有在40℃至160℃范围内的熔化温度Ts。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述稳定化材料被配置为:在40℃至160℃范围内的温度Ta下其物理状态从非晶态变为粘弹性或反之。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述稳定化材料包括热塑性材料、聚合物、蜡、聚乙烯、聚丁二烯、反式-1,4-聚丁二烯、聚丙烯、非晶态聚合物和共济失调聚苯乙烯中的一种或两种以上。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中将所述稳定化材料填充到空腔中而使得每个空腔中20%至70%的空腔容积被所述稳定化材料占据。7.根据权利要求6所述的方法,其中所述空腔的剩余容积被排气。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述半...
【专利技术属性】
技术研发人员:J·马勒,D·迈尔,D·波尔沃尔,A·西格尔,
申请(专利权)人:英飞凌科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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