当前位置: 首页 > 专利查询>HOYA株式会社专利>正文

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法制造方法及图纸

技术编号:17595622 阅读:81 留言:0更新日期:2018-03-31 09:15
本发明专利技术提供能够使掩模图案截面形状的垂直化的光掩模坯料及其制造方法。本发明专利技术还提供使用其的光掩模的制造方法及显示装置的制造方法。本发明专利技术的光掩模坯料具有透明基板(1)、遮光层(2)和减反射层(3),遮光层(2)由含有铬和氮的铬化合物形成,减反射层(3)由含有铬、氮和氧的铬化合物形成,减反射层(3)中含有的铬的含量少于遮光层(2)中含有的铬的含量,减反射层(3)是叠层了多层的叠层膜,减反射层(3)的表面侧的上层部(32)所含有的氧含量多于减反射层(3)的遮光层侧的下层部(31)所含有的氧含量,在上层部(32)的表面侧具有实质上不含碳的区域,在该区域,氧朝向最表面连续地增加,且氧相对于氮的比例(O/N)的最大值为5以上。

Fabrication method of photomask blank, photomask blank, optical mask manufacturing method using the same, and manufacturing method of display device

The present invention provides a vertical photomask blank which can make the cross section shape of a mask pattern and a method for making the same. The invention also provides a manufacturing method for using its photomask and a manufacturing method of a display device. The invention of the photomask blank with a transparent substrate (1), a light shielding layer (2) and an anti reflection layer (3), a light shielding layer (2) formed by chromium compounds containing chromium and nitrogen, anti reflection layer (3) formed by chromium, chromium compounds containing nitrogen and oxygen, anti reflection layer (3) the content of chromium containing less than the light shielding layer (2) contains chromium content, anti reflective layer (3) is a laminated film laminated layer, antireflection layer (3) of the upper surface side (32) containing oxygen content than anti reflection layer (3) the light shielding layer side of the lower part (31) oxygen content contained in the upper part of the side surface (32) has a substantially carbon free area in the region, toward the surface oxygen continuously increases, the proportion of nitrogen and oxygen (O/N) relative to the maximum value above 5.

【技术实现步骤摘要】
光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法
本专利技术涉及光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、及使用其的光掩模(转印用掩模)的制造方法、以及使用了通过该制造方法制造的光掩模的显示装置的制造方法。
技术介绍
例如,对于以LCD(液晶显示器,LiquidCrystalDisplay)为代表的FPD(平板显示器,FlatPanelDisplay)等显示装置而言,不仅正在快速进行大画面化、宽视角化,而且正在快速进行高精细化、高速显示化。为了该高精细化、高速显示化而需要的要素之一是制造微细且尺寸精度高的元件、布线等电子电路图案。该显示装置用电子电路的图案化大多使用光刻法。因此,需要形成了微细且高精度的图案的显示装置制造用光掩模。从提高使用的图案的微细度和掩模图案的绘图处理能力的观点考虑,显示装置制造用光掩模通常在掩模图案绘图中使用波长为413nm等的激光。而且,为了在激光绘图中形成高尺寸精度的掩模图案,形成于合成石英等透明基板上的掩模图案(遮光膜图案)通常由掩模图案用遮光膜形成,所述掩模图案用遮光膜具有遮光层和减反射层的叠层结构,所述遮光层遮挡制造显示装置时的本文档来自技高网...
光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法

【技术保护点】
一种光掩模坯料,其具有由对曝光光实质上透明的材料制成的透明基板、所述透明基板上的遮光层、以及所述遮光层上的减反射层,其中,所述遮光层由含有铬和氮的铬化合物形成,所述减反射层由含有铬、氮和氧的铬化合物形成,所述减反射层中含有的铬的含量少于所述遮光层中含有的铬的含量,所述减反射层是叠层多层而成的叠层膜,所述减反射层的表面侧的上层部所含有的氧含量多于所述减反射层的遮光层侧的下层部所含有的氧含量,在所述上层部的表面侧具有实质上不含碳的区域,在该区域,氧朝向最表面连续地增加,且氧相对于氮的比例O/N的最大值为5以上。

【技术特征摘要】
2016.09.21 JP 2016-1839621.一种光掩模坯料,其具有由对曝光光实质上透明的材料制成的透明基板、所述透明基板上的遮光层、以及所述遮光层上的减反射层,其中,所述遮光层由含有铬和氮的铬化合物形成,所述减反射层由含有铬、氮和氧的铬化合物形成,所述减反射层中含有的铬的含量少于所述遮光层中含有的铬的含量,所述减反射层是叠层多层而成的叠层膜,所述减反射层的表面侧的上层部所含有的氧含量多于所述减反射层的遮光层侧的下层部所含有的氧含量,在所述上层部的表面侧具有实质上不含碳的区域,在该区域,氧朝向最表面连续地增加,且氧相对于氮的比例O/N的最大值为5以上。2.根据权利要求1所述的光掩模坯料,其中,所述氧相对于氮的比例O/N的最小值为2以上。3.根据权利要求1所述的光掩模坯料,其中,在所述透明基板与遮光层之间具有调整透射率的透射率调整层。4.根据权利要求3所述的光掩模坯料,其中,所述透射率调整层包含对所述遮光层具有蚀刻选择性的材料。5.根据权利要求1所述的光掩模坯料,其中,在所述透明基板与遮光层之间具有调整相位差的相位调整层。6.根据权利要求5所述的光掩模坯料,其中,所述相位调整层包含对所述遮光层具有蚀刻选择性的材料。7.根据权利要求1~6中任一项所述的光掩模坯料,其中,在所述减反射层上形成有抗蚀剂层。8.根据权利要求7所述的光掩模坯料,其中,所述抗蚀剂层包覆有不含表面活性剂的抗蚀剂。9.一种光掩模坯料的制造方法,其是权利要求1~...

【专利技术属性】
技术研发人员:坪井诚治浅川敬司中村真实阿山兼士安森顺一
申请(专利权)人:HOYA株式会社HOYA电子马来西亚有限公司
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1