The utility model discloses an optical thin film system, which comprises a control unit, film thickness monitoring system, vacuum chamber, a vacuum chamber coating workpiece rack, motor and film evaporation source, including real time rotation angle in the initial film at the beginning of the monitoring of the motor and the coating process the encoder, membrane evaporation source with membrane material release, vacuum chamber in the membrane material release opening is provided with a blocking film evaporation source release membrane evaporation barrier member, evaporation barrier component, and the encoder connected to the control unit. The utility model can ensure that when the motor is rotated to the same position, the evaporation barrier component can be closed and the evaporation is stopped. Bring the film thickness to stop mode is good, in the frame of the optical substrate or lens in each position have experienced a complete cycle of rotation of the motor, to bring the thicknesses of the smallest deviation can improve the passive, narrow band filter, high precision filter or membrane yield, improve the performance of optical coating machine the.
【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜均匀成膜系统
本技术用于光学薄膜
,特别是涉及一种光学薄膜均匀成膜系统。
技术介绍
光学薄膜在当今信息社会中的应用愈来愈广泛,它在图像处理、光纤通信、生命科学、激光、生化、军事都有广泛的应用,如何精密制备这些特殊功能的光学薄膜式当今制造光学薄膜设备面临的一个难题。一般镀膜设备的原理是在真空环境下,电机带动镀膜工件架在真空室内匀速转动,光学基片或透镜放置在工件架上。蒸发源可以是电子束或电阻热蒸发,作用是使镀膜材料在高温下汽化,可以控制加热功率或电子束的束流,让汽化的膜以较均匀的速率真空涂敷到光学基片或透镜上。光学基片或透镜对于镀膜的均匀性有不同的要求,比如做常规的增透膜,膜厚均匀性控制在2%以内就可以了,光学图像处理滤光片的膜厚均匀性就要控制在0.5%以内,以免图像产生色差,影响视觉效果。对光纤通信使用的滤光片,由薄膜厚度不均导致的波长分布偏差的要求是均匀性小于0.1%。造成薄膜厚度不均匀的原因很多,我们也采取了多种方法去修正薄膜厚度不均,并取得了很好的效果。但是常规的光学镀膜设备中,其只要监控到测量参数达到设定参数要求,就会关闭蒸发挡板,造成的结果是工件架上同一圈光学基片上厚膜的分布是不同的,蒸发起始和终结时,由电机旋转导致的所处的位置不同,造成这些光学基片或透镜在膜厚均匀性分布上会有波动,一致性不好,经过多次积累后,误差越来越大,最终的光学特性的一致性就变坏了,降低了产品良率,使产品的光学参数失真,达不到设计要求而造成浪费。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术提供一种保证工件架上光学基片或镜片的膜厚分布一致性的光学薄膜均匀成膜系统。本技术解决 ...
【技术保护点】
一种光学薄膜均匀成膜系统,其特征在于:包括控制单元、膜厚监测系统、真空室、设在所述真空室内的镀膜工件架、可驱动所述镀膜工件架转动的电机及设在所述镀膜工件架下方的膜料蒸发源,还包括可监测所述电机在成膜开始时的初始转角和成膜过程中的实时转角的编码器,膜料蒸发源具有膜料释放口,真空室内在膜料释放口处设有可阻断膜料蒸发源释放膜料的蒸发阻挡部件,蒸发阻挡部件、编码器均与所述控制单元连接。
【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜均匀成膜系统,其特征在于:包括控制单元、膜厚监测系统、真空室、设在所述真空室内的镀膜工件架、可驱动所述镀膜工件架转动的电机及设在所述镀膜工件架下方的膜料蒸发源,还包括可监测所述电机在成膜开始时的初始转角和成膜过程中的实时转角的编码器,膜料蒸发源具有膜料释放口,真空室内在膜料释放口处设有可阻断膜料蒸发源释放膜料的蒸发阻挡部件,蒸发阻挡部件、编码器均与所述控制单元连接。2.根据权利要求1所述的光学薄膜均匀成膜系统,其特征在于:所述蒸发阻挡部件包括蒸发挡板和可驱动所述蒸发挡板遮挡在所述膜料蒸发源顶部的驱动...
【专利技术属性】
技术研发人员:范卫星,
申请(专利权)人:东莞隆润光学技术有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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