一种可旋转的膜厚补正板机构制造技术

本实用新型专利技术涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种可旋转的膜厚补正板机构，其特征在于：所述可旋转的膜厚补正板机构包括旋转部件、连接部件、补正板叶片和固定部件；其中所述旋转部件经由所述连接部件与所述补正板叶片连接，所述补正板叶片位于所述蒸发源与所述镀膜伞架之间，所述旋转部件通过所述连接部件驱动所述补正板叶片水平转动，以实现所述补正板叶片对所述蒸发源的遮挡或暴露。本实用新型专利技术的优点是：可以在同一个蒸发源位置上设置多个膜厚补正板，以满足在同一个蒸发源位置上进行蒸发特性不同的多种膜料镀膜的需求。

【技术实现步骤摘要】
一种可旋转的膜厚补正板机构
本技术涉及真空镀膜
，尤其是一种可旋转的膜厚补正板机构。
技术介绍
在真空镀膜设备中，膜厚补正板通过其遮挡特性来改变蒸发膜料的空间分布特性，以使得整个镀膜伞架上各镀膜基片达到一定的膜厚均一性。一般来说，可旋转的镀膜伞架设置在真空镀膜腔室的顶部，蒸发源设置在真空镀膜腔室的底部，膜厚补正板则设置在蒸发源和镀膜伞架之间。为了对蒸发源的蒸发特性进行有效调控，膜厚补正板通常设置在蒸发源正上方及其附近；并且，膜厚补正板可设置升降型，以便于适时开启或关闭。此处的升降是指：补正板开启或关闭时，补正板的工作平面与蒸发源所在的真空镀膜室的底面之间的夹角发生变化。补正板开启时，补正板的工作平面与蒸发源所在的真空镀膜室的底面接近平行，补正板位于蒸发源的正上方及其附近；补正板关闭时，补正板的工作平面与蒸发源所在的真空镀膜室的底面接近垂直，补正板贴于真空镀膜室的侧壁上。在需要多种膜料镀膜或所镀薄膜较厚时，往往需要可旋转的多坩埚位蒸发机构，以便于在一个坩埚中的膜料使用完成后，可以及时将另一个坩埚移动至电子枪电子束的照射位置。在需要多种膜料镀膜时，如果不同膜料的蒸发特性差别较大，在同一个电子枪电子束照射位置上设置一种膜厚补正板将很可能不能同时满足多种膜料成膜的膜厚均一性要求。在这种情况下，就需要设置多个膜厚补正板来修正多个膜料成膜的膜厚均一性。通常情况下，膜厚补正板通过法兰设置在真空镀膜腔室的侧壁。鉴于蒸发源上方空间有限和膜厚补正板通常具有一定的宽度，因此，在一蒸发源上方设置多个可升降膜厚补正板将可能造成多个膜厚补正板升降幅度和升降顺序受到限制。专利技术内容本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供一种可旋转的膜厚补正板机构,通过可旋转的膜厚补正板机构驱动补正板叶片在真空镀膜室内水平转动，从而对蒸发源进行遮挡或暴露，同时实现对升降型补正板的让位，从而进一步实现多个膜厚补正板来修正多个膜料成膜的膜厚均一性。本技术目的实现由以下技术方案完成：一种可旋转的膜厚补正板机构，设置在真空镀膜室内用于修正膜厚均一性，所述真空镀膜室内设置有蒸发源和镀膜伞架，所述镀膜伞架上承载有待镀膜工件，其特征在于：所述可旋转的膜厚补正板机构包括旋转部件、连接部件、补正板叶片和固定部件；其中所述旋转部件经由所述连接部件与所述补正板叶片连接，所述补正板叶片位于所述蒸发源与所述镀膜伞架之间，所述旋转部件通过所述连接部件驱动所述补正板叶片水平转动，以实现所述补正板叶片对所述蒸发源的遮挡或暴露，所述固定部件的一端固定连接于真空镀膜室，用于将所述可旋转的膜厚补正板机构固定于所述真空镀膜室。所述旋转部件包括旋转汽缸、联轴器和旋转轴，所述联轴器的两端分别连接所述旋转汽缸和所述旋转轴，所述旋转轴的另一端连接所述连接部件。所述联轴器的外围设置有联轴器保护罩。所述连接部件包括链接轴、连接块和连接杆，所述连接块的两端分别连接所述链接轴和所述连接杆，所述链接轴垂直于所述连接杆，所述链接轴的另一端连接所述旋转部件，所述连接杆的另一端设置所述补正板叶片。上述任一种可旋转的膜厚补正板机构中，所述固定部件为法兰。本技术的优点是：可以在同一个蒸发源位置上设置多个膜厚补正板，以满足在同一个蒸发源位置上进行蒸发特性不同的多种膜料镀膜的需求。附图说明图1是本技术中真空镀膜腔室俯视图（可旋转的膜厚补正板处于闲置状态，可升降的膜厚补正板处于使用状态）；图2是本技术中真空镀膜腔室俯视图（可旋转的膜厚补正板处于使用状态，可升降的膜厚补正板处于闲置状态）；图3是本技术中可旋转的膜厚补正板机构的结构示意图。具体实施方式以下结合附图通过实施例对本技术特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：如图1-3所示，图中1-13分别表示为：真空镀膜腔室1、蒸发源2、可升降的膜厚补正板叶片3、可升降的膜厚补正板固定法兰4、可旋转的膜厚补正板叶片5、旋转汽缸6、联轴器7、联轴器保护罩8、可旋转的膜厚补正板固定法兰9、旋转轴10、链接轴11、连接块12、连接杆13。实施例：如图1所示，本实施例中可旋转的膜厚补正板机构设置在真空镀膜室1之中，在真空镀膜腔室1中设置有蒸发源2、可升降的膜厚补正板叶片3、可旋转的膜厚补正板叶片5，其中蒸发源2用于对承载在镀膜伞架上的待镀膜工件进行镀膜。可升降的膜厚补正板叶片3通过可升降的膜厚补正板固定法兰4固定于真空镀膜腔室1侧壁，可升降的膜厚补正板3可在真空镀膜室1内升起或下降。如图1所示，当可升降的膜厚补正板叶片3时，其位于蒸发源2正上方且位于镀膜伞架（图中未示出）的下方，此时，可升降的膜厚补正板叶片3对蒸发源2进行遮挡，从而修正蒸发源2的蒸发特性。可旋转的膜厚补正板叶片5远离蒸发源2，处于闲置状态。图2亦为本技术中真空镀膜腔室1的俯视图，图2与图1的区别在于：可旋转的膜厚补正板叶片5已水平旋转至蒸发源2正上方，处于使用状态，其位于蒸发源2与镀膜伞架之间，可旋转的膜厚补正板叶片5对蒸发源2进行遮挡，从而修正蒸发源2的蒸发特性。此时，可升降的膜厚补正板叶片3已竖直旋转下降至真空镀膜腔室1侧壁附近，不再遮挡蒸发源2，处于闲置状态。结合图1和图2所示，本实施例中的蒸发源2既可以被可升降的膜厚补正板3单独遮挡，也可以被可旋转的膜厚补正板5单独遮挡，且两个膜厚补正板的位置相互避让，不会发生相互占位影响；因此，可在同一个蒸发源位置（例如蒸发源2所处的位置）上进行蒸发特性不同的多种膜料镀膜的需求。如图3所示，本实施例中驱动可旋转的膜厚补正板叶片5进行水平旋转的机构包括旋转部件、连接部件、和可旋转的膜厚补正板固定法兰9；其中，旋转部件包括旋转汽缸6、联轴器7和旋转轴10；联轴器7的外围设置有联轴器保护罩8。联轴器7的两端分别连接旋转汽缸6和旋转轴10，旋转轴10的另一端连接连接部件。连接部件包括链接轴11、连接块12和连接杆13；链接轴11通过连接块12与连接杆13连接，连接杆13的另一端与可旋转的膜厚补正板叶片5连接。可旋转的膜厚补正板固定法兰9将可旋转的膜厚补正板机构固定在真空镀膜腔室1的底部。本实施例在具体实施时，旋转汽缸6通过联轴器7依次带动旋转轴10、链接轴11、连接块12、连接杆13发生转动，从而引起可旋转的膜厚补正板叶片5的水平转动。虽然上述实施例已经参照附图对本技术目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本技术作出各种改进和变换，如：可旋转的膜厚补正板旋转的具体驱动方式、具体传动方式和可旋转的膜厚补正板在真空镀膜室的固定方式，等等，故在此不一一赘述。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可旋转的膜厚补正板机构，设置在真空镀膜室内用于修正膜厚均一性，所述真空镀膜室内设置有蒸发源和镀膜伞架，所述镀膜伞架上承载有待镀膜工件，其特征在于：所述可旋转的膜厚补正板机构包括旋转部件、连接部件、补正板叶片和固定部件；其中所述旋转部件经由所述连接部件与所述补正板叶片连接，所述补正板叶片位于所述蒸发源与所述镀膜伞架之间，所述旋转部件通过所述连接部件驱动所述补正板叶片水平转动，以实现所述补正板叶片对所述蒸发源的遮挡或暴露，所述固定部件的一端固定连接于真空镀膜室，用于将所述可旋转的膜厚补正板机构固定于所述真空镀膜室。

【技术特征摘要】
1.一种可旋转的膜厚补正板机构，设置在真空镀膜室内用于修正膜厚均一性，所述真空镀膜室内设置有蒸发源和镀膜伞架，所述镀膜伞架上承载有待镀膜工件，其特征在于：所述可旋转的膜厚补正板机构包括旋转部件、连接部件、补正板叶片和固定部件；其中所述旋转部件经由所述连接部件与所述补正板叶片连接，所述补正板叶片位于所述蒸发源与所述镀膜伞架之间，所述旋转部件通过所述连接部件驱动所述补正板叶片水平转动，以实现所述补正板叶片对所述蒸发源的遮挡或暴露，所述固定部件的一端固定连接于真空镀膜室，用于将所述可旋转的膜厚补正板机构固定于所述真空镀膜室。2.根据权利要求1所述的一种可旋转的膜厚补正板机构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：干黎明，龙汝磊，李刚正，裴蓓，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31