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本实用新型公开了一种光学薄膜均匀成膜系统，包括控制单元、膜厚监测系统、真空室、设在真空室内的镀膜工件架、电机及膜料蒸发源，还包括可监测所述电机在成膜开始时的初始转角和成膜过程中的实时转角的编码器，膜料蒸发源具有膜料释放口，真空室内在膜料释放...
该专利属于东莞隆润光学技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞隆润光学技术有限公司授权不得商用。

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