一种坩埚制造技术

本发明专利技术提供一种坩埚，通过在坩埚本体内沿其宽度方向设置多个第一挡板，各第一挡板之间间隔设置，从而将坩埚本体的内部空间划分为多个区域，第一挡板固定在坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上，第一挡板上设置多个第一镂空部或多个凹槽，这样，当坩埚沿其长度方向从一个腔室移动到另一个腔室时，坩埚本体内的蒸镀材料可以通过第一挡板上的各个第一镂空部或各个第一凹槽在坩埚本体内的各个区域之间流动，从而抑制蒸镀材料晃动，提高蒸镀材料的稳定性，保证蒸镀速率维持平稳状态，可以提高蒸镀膜层的均一性和OLED基板色度良率。

A kind of crucible

The invention provides a crucible, through a plurality of first baffle plate is arranged in the crucible body along the width direction, set the interval between each first baffle, which will be the crucible body interior space is divided into multiple regions, the first side wall and the second side walls of the first baffle plate is fixed in the crucible body oppositely arranged, a plurality of first hollow or a plurality of grooves, set the first baffle so that when the crucible moves from one chamber along the length direction to another chamber, the crucible body evaporation materials can be the first baffle on the first hollow part or all the grooves in each region of the body between the crucible flow, thereby inhibiting evaporation materials shaking, improve the steam stability of plating materials, ensure the evaporation rate maintained a steady state, can improve the uniformity of steam coating layer and OLED substrate color yield.

【技术实现步骤摘要】
一种坩埚
本专利技术涉及OLED(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极管)制备
，具体涉及一种坩埚。
技术介绍
在制造OLED时，利用坩埚将用于制作OLED的有机材料蒸镀到OLED基板上，有机蒸镀是将有机材料加热直至汽化的过程。当有机材料的熔点低于升华温度，有机材料先转变为液态后再汽化。真空蒸镀过程中，一般选用线源坩埚盛放有机材料，坩埚外部包裹有加热丝，该加热丝在通电时可对坩埚进行加热，盛放在坩埚内的有机材料在高温下蒸发为气体，气体上升并遇到位于坩埚上方的OLED基板，在OLED基板上发生凝华，从而将有机材料蒸镀到OLED基板上。结合图1a、图1b和图1c所示，现有的坩埚长度较大，在坩埚内部，沿坩埚长度的方向上设置多个挡板101从而将坩埚的内部空间划分为多个区域，挡板具有一个凹槽102，蒸镀材料能够沿该凹槽102在坩埚内部相邻区域之间流动。如图2所示，在有机蒸镀过程中，如果将坩埚在A、B两个腔室之间进行快速切换，坩埚无需等待可以直接蒸镀，可以提高生产效率。在A、B两个腔室之间移动过程中，坩埚沿其长度方向移动，会造成熔融状态的蒸镀材料在坩埚内发生剧烈晃动，使蒸镀速率下降，导致蒸镀膜厚偏薄，产品色度异常。因此亟需一种坩埚以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述不足，提供一种坩埚，用以至少部分解决坩埚在两个腔室之间移动造成的内部蒸镀材料产生晃动，影响蒸镀速率和产品品质的问题。本专利技术为解决上述技术问题，采用如下技术方案：本专利技术提供一种坩埚，包括坩埚本体和多个第一挡板，所述第一挡板沿所述坩埚本体的宽度方向设置，并固定在所述坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上，各所述第一挡板之间具有第一间隔距离，所述第一挡板上设置有多个第一镂空部或多个第一凹槽。进一步的，所述坩埚还包括第二挡板，所述第二挡板沿所述坩埚本体的长度方向设置，并固定在所述坩埚本体相对的设置的第三侧壁和第四侧壁上，所述第二挡板上设置有多个第二镂空部或多个第二凹槽。优选的，所述第二挡板为多个，各所述第二挡板之间具有第二间隔距离。优选的，所述第一间隔距离和/或所述第二间隔距离为8-10cm。优选的，各所述第一镂空部或第一凹槽设置在所述第一挡板的下部，和/或，各所述第二镂空部或各第二凹槽设置在所述第二挡板的下部。优选的，所述第一挡板和所述第二挡板的高度小于所述坩埚本体的高度。优选的，所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的形状和大小，与所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的形状和大小相同。优选的，所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽呈矩形，所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽呈矩形。优选的，所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的宽度为1-1.5cm，所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的高度为2-3cm；所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的宽度为1-1.5cm，所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的高度为2-3cm。优选的，所述第一挡板的材料和/或所述第二挡板的材料包括金属或陶瓷。本专利技术能够实现以下有益效果：本专利技术提供的坩埚，通过在坩埚本体内沿其宽度方向设置多个第一挡板，各第一挡板之间间隔设置，从而将坩埚本体的内部空间划分为多个区域，第一挡板固定在坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上，第一挡板上设置多个第一镂空部或多个第一凹槽，这样，当坩埚沿其长度方向从一个腔室移动到另一个腔室时，坩埚本体内的蒸镀材料可以通过第一挡板上的各个第一镂空部或各个第一凹槽在坩埚本体内的各个区域之间流动，从而抑制蒸镀材料晃动，提高蒸镀材料的稳定性，保证蒸镀速率维持平稳状态，可以提高蒸镀膜层的均一性和OLED基板色度良率。附图说明图1a为现有的坩埚的主视图；图1b为现有的坩埚的俯视图；图1c为图1b中A-A’处的剖面图；图2为现有的坩埚在进行腔室切换时蒸镀速率变化示意图；图3a为本专利技术提供的坩埚的俯视图；图3b为图3a中B-B’处的剖面图；图3c为图3a中C-C’处的剖面图。图例说明：101、挡板102、凹槽1、坩埚本体2、第一挡板3、第二挡板11、顶壁12、底壁13、第一侧壁14、第二侧壁15、第三侧壁16、第四侧壁21、第一凹槽31、第二凹槽d1、第一间隔距离d2、第二间隔距离W、宽度h、高度具体实施方式下面将结合本专利技术中的附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。结合如图3a、图3b和图3c所示，本专利技术提供一种坩埚，所述坩埚包括坩埚本体1和多个第一挡板2，坩埚本体1呈长方体型，坩埚本体1的长度方向是指长方体最长边的方向(即图3a中坩埚的左右方向)，坩埚本体1的宽度方向是指与长方体的底面上与所述最长边垂直的边的方向(即图3a中坩埚的前后方向)。坩埚本体1为中空结构，包括顶壁11、底壁12、相对设置的第一侧壁13和第二侧壁14、相对设置的第三侧壁15和第四侧壁16，第一侧壁13和第二侧壁14为坩埚本体1的前壁和后壁，第三侧壁15和第四侧壁16为坩埚本体的左右两个端壁。第一挡板2沿坩埚本体1的宽度方向设置，并固定在坩埚本体1的第一侧壁13和第二侧壁14上，各第一挡板2之间具有第一间隔距离d1，第一挡板2上设置有多个第一镂空部或第一凹槽21。本专利技术提供的坩埚，通过在坩埚本体1内沿其宽度方向设置多个第一挡板2，各第一挡板2之间间隔设置，从而将坩埚本体1的内部空间划分为多个区域，第一挡板2固定在坩埚本体1相对设置的第一侧壁13和第二侧壁14上，第一挡板2上设置多个第一镂空部或多个第一凹槽21，这样，当坩埚沿其长度方向从一个腔室移动到另一个腔室时，坩埚本体1内的蒸镀材料可以通过第一挡板2上的各个第一镂空部或各个第一凹槽21在坩埚本体1内的各个区域之间流动，从而抑制蒸镀材料晃动，提高蒸镀材料的稳定性，保证蒸镀速率维持平稳状态，可以提高蒸镀膜层的均一性和OLED基板色度良率。进一步的，结合图3a和3b所示，所述坩埚还可以包括第二挡板3，第二挡板3沿坩埚本体1的长度方向设置，并固定在坩埚本体1的第三侧壁15和第四侧壁16上，第二挡板3上设置有多个第二镂空部或多个第二凹槽31。在本专利技术实施例中，以第一挡板2上设置第一凹槽21，第二挡板3上设置第二凹槽31为例进行说明。通过设置具有第二镂空部或第二凹槽31的第二挡板3，当坩埚沿其长度方向从一个腔室移动到另一个腔室时，坩埚本体1内的蒸镀材料可以通过第二挡板3上的各个第二镂空部或第二凹槽31，以及第一挡板2上的各个第一镂空部或第一凹槽21，在坩埚本体1内的各个区域之间流动，从而进一步抑制蒸镀材料晃动，提高蒸镀材料的稳定性。优选的，第二挡板3为多个，各第二挡板3之间具有第二间隔距离d2。在本专利技术实施例中，如图3a所示，第二挡板3为两个，两个第二挡板3可以将坩埚本体1的内部空间均匀分隔成3个区域，即邻近第一侧壁13的第二挡板3与第一侧壁13之间的距离和邻近第二侧壁14的第二挡板3与第二侧壁14之间的距离均等于第二间隔距离d2。优选的，各第一挡板2之间的第一间隔距离d1和/或各第二挡板3之间的第二间隔距离d2为8-10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种坩埚，包括坩埚本体和多个第一挡板，所述第一挡板沿所述坩埚本体的宽度方向设置，并固定在所述坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上，各所述第一挡板之间具有第一间隔距离，其特征在于，所述第一挡板上设置有多个第一镂空部或多个第一凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种坩埚，包括坩埚本体和多个第一挡板，所述第一挡板沿所述坩埚本体的宽度方向设置，并固定在所述坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上，各所述第一挡板之间具有第一间隔距离，其特征在于，所述第一挡板上设置有多个第一镂空部或多个第一凹槽。2.如权利要求1所述的坩埚，其特征在于，还包括第二挡板，所述第二挡板沿所述坩埚本体的长度方向设置，并固定在所述坩埚本体相对的设置的第三侧壁和第四侧壁上，所述第二挡板上设置有多个第二镂空部或多个第二凹槽。3.如权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述第二挡板为多个，各所述第二挡板之间具有第二间隔距离。4.如权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述第一间隔距离和/或所述第二间隔距离为8-10cm。5.如权利要求2所述的坩埚，其特征在于，各所述第一镂空部或各第一凹槽设置在所述第一挡板的下部，和/或，各所述第二镂空部或各第二凹槽设置在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：何传友，马群，崔志明，杨婷雁，雷瑶，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11