使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构技术

本发明专利技术揭示一种形成纳米结构的方法，其包括在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装。所述图案化衬底包括多个区域。所述图案化衬底上的所述区域中的每一者经具体调适用于所述定向自组装中的特定核酸结构的吸附。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构优先权主张本申请案主张2015年4月2日申请的题为“使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构(METHODSOFFORMINGNANOSTRUCTURESUSINGSELF-ASSEMBLEDNUCLEICACIDS,ANDNANOSTRUCTURESTHEREOF)”的第14/677,445号美国专利申请案的申请日的权利。
在各种实施例中，本专利技术大体上涉及使用核酸的自组装形成纳米结构的方法。
技术介绍
集成电路制造的继续目标是减小集成电路的尺寸。集成电路尺寸可通过减少成分特征或结构的尺寸及间隔而减小。例如，通过减小存储器装置的半导体特征(例如存储电容器、存取晶体管、存取线)的尺寸及间隔，可减小所述存储器装置的总尺寸同时维持或增大所述存储器装置的存储容量。随着半导体装置特征的尺寸及间隔变得更小，用于形成所述半导体装置特征的常规光刻工艺的进行变得日益困难及昂贵。因此，纳米结构(特定地说，具有小于常规光光刻技术的分辨率极限(当前大约40nm)的特征尺寸(例如临界尺寸)的结构)的制造中遇到显著的挑战。可使用昂贵节距划分或双图案化技术制造具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装，所述图案化衬底包括多个区域，所述多个区域中的每一者经具体调适用于核酸结构的所述定向自组装中的特定核酸结构的吸附。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.02 US 14/677,4451.一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装，所述图案化衬底包括多个区域，所述多个区域中的每一者经具体调适用于核酸结构的所述定向自组装中的特定核酸结构的吸附。2.根据权利要求1所述的方法，其中在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括在所述图案化衬底上形成DNA结构的定向自组装。3.根据权利要求2所述的方法，其进一步包括形成DNA结构，其中所述DNA结构是由具有小于10nm的尺寸的多个DNA子单元形成。4.根据权利要求1所述的方法，其中在包括多个区域的图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括：图案化衬底以产生所述多个区域，每一区域显示对多个核酸结构的所述定向自组装中的核酸结构的拓扑特异性。5.根据权利要求1所述的方法，其中在包括多个区域的图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括：图案化衬底以产生所述多个区域，每一区域显示对多个核酸结构的所述定向自组装中的核酸结构的化学特异性。6.根据权利要求1所述的方法，其中在图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括：在衬底上形成官能化间隔物，其中所述官能化间隔物包括官能团，其经配置以与所述核酸结构的官能团化学地相互作用。7.根据权利要求6所述的方法，其进一步包括在所述图案化衬底上形成核酸结构的所述定向自组装之前，官能化所述核酸结构以在所述核酸结构上提供所述官能团。8.根据权利要求6所述的方法，其中在所述衬底上形成官能化...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯科特·E·西里斯，古尔特杰·S·桑胡，
申请(专利权)人：美光科技公司，
类型：发明
国别省市：美国,US