曝光数据生成方法、多层立体结构的制造方法、曝光数据生成装置、计算机可读存储介质及多层立体结构的制造系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及多层立体结构的制造，提供能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度且能够抑制曝光位置的位置偏移导致的凹凸面的形状变化的技术。在本发明专利技术中，通过对在各层重复进行抗蚀剂层的形成与对该抗蚀剂层进行选择性的曝光而生成的抗蚀剂层叠体进行显影，来制造多层立体结构。因此，根据对于各抗蚀剂层的各曝光图案，能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度。另外，在本发明专利技术中，曝光数据的曝光区域由凸面区域、凹面区域以及凹面周围区域构成。因此，即使在两层偏移的情况下，也能在对某两个抗蚀剂层进行曝光时，抑制在多层立体结构的凹凸面产生意料之外的台阶差。

Exposure data generation method, manufacturing method, exposure data generating device, exposure data generating program, and manufacturing system

The invention relates to the manufacture of multi-layer three-dimensional structure, and provides a technology that can adjust the depth of concave part in concave convex surface and inhibit the shape change of concave convex surface caused by position deviation of exposure position. In the present invention, multilayer multilayer structure is developed by developing the resist layer formed on the various layers repeatedly, forming the resist layer and selectively exposing the resist layer. Therefore, the depth of the concave parts in the concave convex surface can be adjusted separately according to the exposure patterns for each of the anticorrosive layers. In addition, in the present invention, the exposure area of the exposure data is composed of a convex area, a concave area, and a concave area. Therefore, even in the case of two layers of migration, when exposed to a two resist layer, it will suppress unexpected bump on the bump surface of multilayer structure.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光数据生成方法、制造方法、曝光数据生成装置、曝光数据生成程序及制造系统
本专利技术涉及通过按照曝光数据进行曝光来制造多层立体结构的技术。
技术介绍
以往，已知选择性地曝光层叠的抗蚀剂后通过显影除去抗蚀剂层叠体中的显影可溶区域，制造在一侧具有凹凸面的多层立体结构的技术。作为在一侧具有凹凸面的多层立体结构的制造方法，例如，已知如下技术：在抗蚀剂层叠体的一侧的主面部分形成用于耐蚀刻液的抗蚀覆膜后，对无覆膜的部位进行湿蚀刻。然而，当如此地通过湿蚀刻形成凹凸面时，难以分别调整凹凸面中的各凹部的深度。在专利文献1记载的技术中，在层叠有多层抗蚀剂成分不同的抗蚀剂层后，将多束波长不同的曝光用光照射到抗蚀剂层叠体上，选择性地曝光抗蚀剂层叠体。接着，通过显影除去抗蚀剂层叠体中的显影可溶区域，制造多层立体结构。在该技术中，能够制造已分别调整了凹凸面中的各凹部的深度的多层立体结构。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-208350号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，如专利文献1那样，当在各层中抗蚀剂的成分不同时，需要设置多个用于涂布各成分不同的抗蚀剂的涂布装置。另外，如专利文献1那样，当对各抗蚀剂层照射多束波长不同的曝光用光时，需要设置多个用于照射各波长不同的曝光用光的曝光装置。因此，从制造多层立体结构的制造处理的容易性、制造成本的观点出发，并不优选。另外，对于抗蚀剂层，曝光位置完全不产生位置偏移的情况很少，通常略微产生位置偏移。在这种情况下，在专利文献1记载的技术中，曝光各抗蚀剂层时的位置偏移导致所制造的多层立体结构具有与所期望的形状不同的凹凸面。因此，在曝光各抗蚀剂层时，即使在产生上述位置偏移的情况下，也需求能够制造具有所期望的凹凸面的多层立体结构的技术。本专利技术是鉴于上述问题提出的，涉及多层立体结构的制造，其目的在于提供能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度且能够抑制曝光位置的位置偏移所导致的凹凸面的形状变化的技术。解决课题的技术手段本专利技术的第一方式的曝光数据生成方法，在对抗蚀剂层叠体进行显影来制造多层立体结构之前，生成多个曝光数据，所述抗蚀剂层叠体是对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的层叠体，其特征在于，具备：分割图案生成工序，基于表示在一侧具有凹凸面的所述多层立体结构的设计数据，生成表示在深度方向按所述各层将所述多层立体结构分割时的各图案的多个分割图案；以及数据生成工序，对于所述多个分割图案，将在所述一侧包括凸面的凸面区域、在所述一侧包括凹面的凹面区域以及位于所述凹面区域的周围的凹面周围区域设定为曝光区域，并生成多个曝光数据。本专利技术的第二方式的曝光数据生成方法，如本专利技术的第一方式所述的曝光数据生成方法，其特征在于，所述数据生成工序是执行以下处理的工序：第一处理，对于所述多个分割图案，将所述多层立体结构的存在区域设定为曝光区域，将所述多层立体结构的非存在区域设定为非曝光区域；第二处理，将所述第一处理后的各曝光区域中在所述一侧的层也设定曝光区域的区域变更为非曝光区域，从而将所述凸面区域和所述凹面区域设定为曝光区域；以及第三处理，将所述第二处理后的各非曝光区域中位于所述凹面区域周围的所述凹面周围区域变更为曝光区域，从而将所述凸面区域、所述凹面区域以及所述凹面周围区域设定为曝光区域，生成所述多个曝光数据。本专利技术的第三方式的曝光数据生成方法，如本专利技术的第一方式或第二方式所述的曝光数据生成方法，其特征在于，预先得知曝光装置对抗蚀剂层进行曝光时的曝光位置从基准曝光位置偏移的情况下的偏移的上限值，并将该上限值作为重合精度，所述凹面周围区域的宽度为所述重合精度的2倍至3倍的长度。本专利技术的第四方式的曝光数据生成方法，如本专利技术的第一方式至第三方式中的任一项所述的曝光数据生成方法，其特征在于，所述凹凸面具有多个凹部，所述多个凹部中宽度相对宽的凹部形成得相对浅，所述多个凹部中宽度相对窄的凹部形成得相对深。本专利技术的第五方式的制造方法，对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的抗蚀剂层叠体进行显影，来制造在一侧具有凹凸面的多层立体结构，其特征在于，作为按照从另一侧至所述一侧的顺序对各层重复执行的工序，具有以下工序：涂布工序，涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂层；预烘焙工序，对所述抗蚀剂层进行加热，以及曝光工序，基于通过第一方式至第四方式中任一项所述的曝光数据生成方法而生成的所述多个曝光数据中的与该层相对应的曝光数据，曝光所述抗蚀剂层。作为针对通过对所述各层执行所述涂布工序、所述预烘焙工序以及所述曝光工序而生成的抗蚀剂层叠体执行的工序，具有以下工序：显影工序，通过显影液除去在所述曝光工序中未被曝光的部位的抗蚀剂，得到所述多层立体结构，以及硬烘焙工序，对所述多层立体结构进行加热。本专利技术的第六方式的制造方法，如本专利技术的第五方式所述的制造方法，其特征在于，作为按照从所述另一侧至所述一侧的顺序对各层重复执行的工序，除了所述涂布工序、所述预烘焙工序以及所述曝光工序以外，还具有对被曝光的所述抗蚀剂层进行加热的后烘焙工序；作为针对通过对所述各层执行所述涂布工序、所述预烘焙工序、所述曝光工序以及所述后烘焙工序而生成的抗蚀剂层叠体执行的工序，具有所述显影工序和所述硬烘焙工序。本专利技术的第七方式的制造方法，如本专利技术的第五方式或第六方式所述的制造方法，其特征在于，作为在所述硬烘焙工序之后进行的工序，具有对所述多层立体结构的所述一侧的表面进行加工的表面加工工序。本专利技术的第八方式的制造方法，如本专利技术的第五方式至第七方式中的任一项所述的制造方法，其特征在于，在所述涂布工序中，涂布的抗蚀剂的成分在所述各层中相同。本专利技术的第九方式的制造方法，如本专利技术的第五方式至第八方式中的任一项所述的制造方法，其特征在于，所述曝光工序是通过对所述抗蚀剂层一边扫描曝光用光一边照射曝光用光来连续地进行局部曝光的直接描绘工序。本专利技术的第十方式的曝光数据生成装置，在对抗蚀剂层叠体进行显影来制造多层立体结构之前生成多个曝光数据，所述抗蚀剂层叠体是在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的层叠体，其特征在于，具备：分割图案生成单元，基于表示在一侧具有凹凸面的所述多层立体结构的设计数据，生成表示在深度方向按所述各层将所述多层立体结构分割时的各图案的多个分割图案；以及数据生成单元，对于所述多个分割图案，将在所述一侧包括凸面的凸面区域、在所述一侧包括凹面的凹面区域以及位于所述凹面区域的周围的凹面周围区域设定为曝光区域，并生成多个曝光数据。本专利技术的第十一方式的曝光数据生成装置，如本专利技术的第十方式所述的曝光数据生成装置，其特征在于，所述数据生成单元具有：第一处理，对于所述多个分割图案，将所述多层立体结构的存在区域设定为曝光区域，将所述多层立体结构的非存在区域设定为非曝光区域；第二处理，将所述第一处理后的各曝光区域中在所述一侧的层也设定曝光区域的区域变更为非曝光区域，从而将所述凸面区域和所述凹面区域设定为曝光区域；以及第三处理，将第二处理后的各非曝光区域中位于所述凹面区域周围的所述凹面周围区域变更为曝光区域，将所述凸面区域、所述凹面区域以及所述凹面周围区域设定为曝光区域，从而生成所述多个曝光数据。本专利技术的第十二方式的曝光数据生成装置，如本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光数据生成方法，在对抗蚀剂层叠体进行显影来制造多层立体结构之前，生成多个曝光数据，所述抗蚀剂层叠体是对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的层叠体，其特征在于，具备：分割图案生成工序，基于表示在一侧具有凹凸面的所述多层立体结构的设计数据，生成表示在深度方向按所述各层将所述多层立体结构分割时的各图案的多个分割图案；以及数据生成工序，对于所述多个分割图案，将在所述一侧包括凸面的凸面区域、在所述一侧包括凹面的凹面区域以及位于所述凹面区域的周围的凹面周围区域设定为曝光区域，并生成多个曝光数据。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.30 JP 2015-0686361.一种曝光数据生成方法，在对抗蚀剂层叠体进行显影来制造多层立体结构之前，生成多个曝光数据，所述抗蚀剂层叠体是对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的层叠体，其特征在于，具备：分割图案生成工序，基于表示在一侧具有凹凸面的所述多层立体结构的设计数据，生成表示在深度方向按所述各层将所述多层立体结构分割时的各图案的多个分割图案；以及数据生成工序，对于所述多个分割图案，将在所述一侧包括凸面的凸面区域、在所述一侧包括凹面的凹面区域以及位于所述凹面区域的周围的凹面周围区域设定为曝光区域，并生成多个曝光数据。2.如权利要求1所述的曝光数据生成方法，其特征在于，所述数据生成工序是执行以下处理的工序：第一处理，对于所述多个分割图案，将所述多层立体结构的存在区域设定为曝光区域，将所述多层立体结构的非存在区域设定为非曝光区域；第二处理，将所述第一处理后的各曝光区域中在所述一侧的层也设定曝光区域的区域变更为非曝光区域，从而将所述凸面区域和所述凹面区域设定为曝光区域；以及第三处理，将所述第二处理后的各非曝光区域中位于所述凹面区域周围的所述凹面周围区域变更为曝光区域，从而将所述凸面区域、所述凹面区域以及所述凹面周围区域设定为曝光区域，生成所述多个曝光数据。3.如权利要求1或2所述的曝光数据生成方法，其特征在于，预先得知曝光装置对抗蚀剂层进行曝光时的曝光位置从基准曝光位置偏移的情况下的偏移的上限值，并将该上限值作为重合精度，所述凹面周围区域的宽度为所述重合精度的2倍至3倍的长度。4.如权利要求1～3中任一项所述的曝光数据生成方法，其特征在于，所述凹凸面具有多个凹部，所述多个凹部中宽度相对宽的凹部形成得相对浅，所述多个凹部中宽度相对窄的凹部形成得相对深。5.一种制造方法，对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的抗蚀剂层叠体进行显影，来制造在一侧具有凹凸面的多层立体结构，其特征在于，作为按照从另一侧至所述一侧的顺序对各层重复执行的工序，具有以下工序：涂布工序，涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂层，预烘焙工序，对所述抗蚀剂层进行加热，以及曝光工序，基于通过权利要求1～4中任一项所述的曝光数据生成方法而生成的所述多个曝光数据中的与该层相对应的曝光数据，曝光所述抗蚀剂层；作为针对通过对所述各层执行所述涂布工序、所述预烘焙工序以及所述曝光工序而生成的抗蚀剂层叠体执行的工序，具有以下工序：显影工序，通过显影液除去在所述曝光工序中未被曝光的部位的抗蚀剂，得到所述多层立体结构，以及硬烘焙工序，对所述多层立体结构进行加热。6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于，作为按照从所述另一侧至所述一侧的顺序对各层重复执行的工序，除了所述涂布工序、所述预烘焙工序以及所述曝光工序以外，还具有对被曝光的所述抗蚀剂层进行加热的后烘焙工序，作为针对通过对所述各层执行所述涂布工序、所述预烘焙工序、所述曝光工序以及所述后烘焙工序而生成的抗蚀剂层叠体执行的工序，具有所述显影工序和所述硬烘焙工序。7.如权利要求5或6所述的制造方法，其特征在于，作为在所述硬烘焙工序之后进行的工序，具有...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤泽泰充，古谷祥雄，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP