曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质技术方案

本发明专利技术提供了一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。本发明专利技术提供的控制方法具有提高曝光机生产效率的优点。本发明专利技术还提供了一种曝光机控制方法系统及一种存储介质。

Exposure machine control method, exposure machine control system and storage medium

The present invention provides a method for controlling the exposure machine, the exposure machine control method includes: when the pending substrate entrance substrate distance exposure machine preset distance, send out the signal to monitor the exposure mask inside it needs to be replaced; the exposure of the mask in the machine needs to be replaced, the judgment of the exposure the mask in the machine whether the replacement completed; when the exposure of the mask machine replacement is completed, the substrates to be processed into the exposure machine. The control method provided by the present invention has the advantage of improving the production efficiency of the exposure machine. The invention also provides an exposure machine control method system and a storage medium.

【技术实现步骤摘要】
曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质
本专利技术涉及曝光设备领域，具体涉及一种曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质。
技术介绍
现有技术中，曝光及显影的生产工艺包括如下步骤：清洗玻璃基板，涂布上光阻，烘烤，进入曝光机，然后利用光罩在玻璃基板上对光阻定义图形，最后经过显影制程显示图形。当上一批玻璃基板流出曝光机，下一批玻璃基板进入曝光机时，根据玻璃基板的信息，系统选择与之相对应的光罩，即，此时，需要更换光罩。将原来的光罩搬移走，新的光罩从曝光机的储槽位移动至工作位，完成光罩的更换。当光罩更换完毕之后曝光机才能正常运行。然而，当光罩的更换没有完成，下一批玻璃基板就进入曝光机时，就会导致曝光机死机，降低生产效率。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种曝光机控制方法及曝光机控制系统，具有提高曝光机生产效率的优点。本专利技术实施例提供一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括如下步骤：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。本专利技术实施例还提供一种曝光机控制系统，所述曝光机控制系统包括：监控模块，用于当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；判断模块，用于所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；传送模块，用于当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，将所述待处理基板送进所述曝光机；等待模块，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外；曝光模块，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。本专利技术实施例还提供一种计算机可读存储介质，其特征在于，其存储用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序被执行时，执行上述提供的所述的方法。本专利技术实施例还提供一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括存储了计算机程序的非瞬时性计算机可读存储介质，所述计算机程序可操作来使计算机执行上述提供的方法。实施本专利技术实施例，具有如下有益效果：本专利技术实施例的曝光机控制系统，在待处理基板进入曝光机之前，对曝光机内的光罩更换进行判断，通过判断曝光机内的光罩是否完成，从而决定是否将待处理基板送进曝光机曝光，当判断出曝光机内的光罩更换完成，则执行将待处理基板送进曝光机的动作，否则，不对待处理基板作任何操作。换言之，光罩是否更换完成不会受到待处理基板进入的影响，从而不会导致系统接收指令出错，降低了死机的概率，提高了曝光机的生产效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种曝光机控制方法的流程示意图。图2是本专利技术实施例提供的一种曝光机控制系统的结构框图。图3是本专利技术实施例提供的另一种曝光机控制系统的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的说明书和权利要求书及所述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本专利技术的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。为解决上述操作的不足的问题，本专利技术提出了一种曝光机控制方法，具体的，在本实施例中，该方法如图1所示，包括：步骤S101，当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换。上述步骤S101中的监控信号可以通过终端发送，该监控信号可以为移动通信的消息，也可以为计算机指令，在实际应用中，该监控信号还可以通过笔记本电脑或计算机接收。其中，所述终端可以包括智能手机(如Android手机、iOS手机、WindowsPhone手机等)、平板电脑、掌上电脑、笔记本电脑、移动互联网设备(MID，MobileInternetDevices)或穿戴式设备等，上述终端仅是举例，而非穷举，包含但不限于上述终端。其中，所述预设距离指的是待处理基板的当前位置与曝光机的基板入口之间的距离。步骤S102，所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。其中，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成可以采用图像识别的方法，具体的，就是在曝光机内设置若干个监控摄像头对所述光罩进行拍照，实时将获取的图像传递到终端设备，当摄像头监控到已经用完的光罩被移出曝光机外，并且新的光罩从储槽位移动至工作位时，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。可选的，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成还可以采用红外感应的方法，在曝光机内部设置若干个红外感应探头，监控目标位置的光罩变化情况，当红外感应探头检测到已经用完的光罩被移除曝光机外，同时红外感应探头检测到新的光罩从储槽位移动至工作位时，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。可选的，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成还可以采用重力传感器的方法，在曝光机内的光罩工作位上安装重力传感器，当重力传感器检测到光罩工作位上有重量变化时，可以认为此时正在进行光罩的更换动作，然后间隔预设时间之后，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。可选的，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成还可以采用运动传感器的方法，在曝光机内部设置若干个运动传感器，用于检测目标光罩的运动轨迹，当运动传感器检测到已经用完的旧的光罩的运动轨迹是移动至曝光机出口，并且运动传感器检测到新的光罩的运动轨迹是移动至光罩工作位，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。步骤S103，当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。其中，当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，默认此时的曝光机出口会自动关闭，然后就可以将待处理基板送进曝光机内。可选的，曝光机出口关闭的方式可以是自动的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。2.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述步骤“判断曝光机内的光罩是否更换完成”包括：通过监控所述曝光机内的所述光罩交换的时间、监控所述曝光机内原有的光罩是否被移除且新的光罩是否被安装到所述曝光机内，或者监控所述曝光机的所述光罩的出口的状态以判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。3.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述步骤“判断曝光机内的光罩是否更换完成”还包括：将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间；判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成。4.根据权利要求2所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法还包括：当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。5.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，在所述步骤“当曝光机内的光罩更换完成时，则将待处理基板送进曝光机”之后，所述曝光机控制方法还包括：判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。6.一种曝光机控制系统，其特征在于，所述曝光机控制系统包括：监控模块，用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡炳煌，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42