液浸构件及曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术的液浸构件(5)用于液浸曝光装置(EX)，在能于光学构件(13)的下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)。液浸构件具备配置在光学构件周围的至少一部分的第1构件(21)、与配置在曝光用光(EL)的光路(K)周围的至少一部分而能相对第1构件移动的第2构件(22)。第2构件具有通过间隙与第1构件的第1下面(23)相对的第2上面(25)、与物体可相对的第2下面(26)、以及配置在第2下面周围的至少一部分的流体回收部(27)。

Liquid immersion component and exposure device

The liquid immersion member (5) of the present invention is used in a liquid immersion exposure device (EX) to form a liquid immersion space (LS) on an object (P) that can be moved below the optical member (13). The liquid dipping member has first components (21) arranged at least a part of the optical component, and second components (22) which move relative to the first component with at least part of the light path (K) configured to be exposed to light (EL). The second component has second upper (25) relative to the first part (23) relative to the first component, second below (26) relative to the object, and a fluid recovery part (27) arranged around the bottom of second.

【技术实现步骤摘要】
液浸构件及曝光装置本申请是分案申请，原案的申请号为201380038451.8，申请日为2013年07月16日，专利技术名称为“液浸构件及曝光装置”。
技术介绍
本专利技术是关于液浸构件、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序及记录媒体。本申请案主张2012年7月20日申请的美国专利暂时申请61/674,078及2013年3月15日申请的美国专利暂时申请61/790,328的优先权，并将其内容援用于此。微影制程所使用的曝光装置中，已知例如美国专利第7864292号所揭示的通过液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置。
技术实现思路
液浸曝光装置中，例如当液体从既定空间流出、或残留在基板等物体上时，即有可能发生曝光不良。其结果，有可能产生不良元件。本专利技术态样的目的，在提供一种能抑制曝光不良的发生的液浸构件、曝光装置、及曝光方法。又，本专利技术态样的另一目的，在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法、程序、及记录媒体。本专利技术第1态样提供一种液浸构件，是用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面：以及第2构件，于该第1构件的下方，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动；该第2构件，具有与该第1构件的该第1下面通过间隙相对的第2上面、该物体可相对的第2下面、以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部。本专利技术第2态样提供一种液浸构件，是用于通过光学构件的射出面与基板间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；液体回收部；以及第2构件，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动；该第2构件具有通过间隙与该第1构件的该第1下面相对的第2上面、该物体相对的第2下面、以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部；该液体回收部能回收来自该第1下面与该第2上面间的第1空间的液体；该流体回收部能回收来自该第2下面与该物体间的第2空间的流体。本专利技术第3态样的曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光，具备第1态样的液浸构件、或第2态样的液浸构件。本专利技术第4态样提供一种元件制造方法，其包含：使用第3态样的曝光装置使基板曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。本专利技术第5态样提供一种曝光方法，是通过光学构件的射出面与基板间的液体以曝光用光使该基板曝光，包含：使用液浸构件在能于该光学构件下方移动的该基板上形成该液体的液浸空间的动作，该液浸构件包含配置在该光学构件周围至少一部分的第1构件以及于该第1构件的下方配置在该曝光用光的光路周围至少一部分、包含通过间隙与该第1构件的第1下面相对的第2上面、该基板可相对的第2下面、配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部的第2构件；通过该液浸空间的该液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及于该基板的曝光的至少一部分中，相对该第1构件移动该第2构件的动作。本专利技术第6态样提供一种元件制造方法，其包含使用第4态样的曝光方法使基板曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。本专利技术第7态样提供一种程序，是使电脑实施通过光学构件的射出面与基板间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置的控制，其使之实施：使用液浸构件在能于该光学构件下方移动的该基板上形成该液体的液浸空间的动作，该液浸构件包含配置在该光学构件周围至少一部分的第1构件以及于该第1构件的下方配置在该曝光用光的光路周围至少一部分、包含通过间隙与该第1构件的第1下面相对的第2上面、该基板可相对的第2下面、配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部的第2构件；通过该液浸空间的该液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及于该基板的曝光的至少一部分中，相对该第1构件移动该第2构件的动作。本专利技术第8态样提供一种电脑可读取的记录媒体，其记录有第7态样的程序。根据本专利技术的态样，可抑制曝光不良的发生。又，根据本专利技术的态样，可抑制不良元件的产生。附图说明以下附图仅旨在于对本专利技术做示意性说明和解释，并不限定本专利技术的范围。其中：图1是显示第1实施形态的曝光装置的一例的图。图2是显示第1实施形态的液浸构件的一例的侧视剖面图。图3是显示第1实施形态的液浸构件的一部分的侧视剖面图。图4是显示第1实施形态的液浸构件的一动作例的图。图5是从下方观察第1实施形态的液浸构件的图。图6是显示第1实施形态的液浸构件的一例的分解立体图。图7是显示第1实施形态的液浸构件的一例的分解立体图。图8是显示第1实施形态的第1构件的一例的图。图9是用以说明第1实施形态的液浸构件的一动作例的图。图10是用以说明第1实施形态的曝光装置的一动作例的图。图11是用以说明第1实施形态的曝光装置的一动作例的示意图。图12是用以说明第1实施形态的液浸构件的一动作例的示意图。图13是用以说明第1实施形态的曝光装置的一动作例的图。图14是显示第2实施形态的液浸构件的一部分的图。图15是显示第2实施形态的液浸构件的一部分的侧视剖面图。图16是显示第3实施形态的液浸构件的一例的图。图17是显示液浸构件的一例的图。图18是显示液浸构件的一例的图。图19是显示液浸构件的一例的图。图20是显示第1构件的一例的图。图21是显示第1构件的一例的图。图22是显示第1构件的一例的图。图23是显示第2构件的一例的图。图24是显示基板载台的一例的图。图25是显示第2构件的一例的图。图26是用以说明元件的制造方法的一例的流程图。主要元件标号说明：2：基板载台3：测量载台5：液浸构件6：控制器7：储存装置12：射出面13：终端光学元件21：第1构件22：第2构件22S：支承构件23：下面24：液体回收部25：上面26：下面27：流体回收部29：外侧面30：内侧面31：液体供应部32：驱动装置34：开口35：开口EL：曝光用光EX：曝光装置IL：照明系统K：光路LQ：液体LS：液浸空间P：基板具体实施方式以下，一边参照附图一边说明本专利技术的实施形态，但本专利技术并不限定于此。以下的说明中，是设定一XYZ正交座标系统，一边参照此XYZ正交座标系统一边说明各部的位置关系。并设水平面内的既定方向为X轴方向、于水平面内与X轴方向正交的方向为Y轴方向、分别与X轴方向及Y轴方向正交的方向(亦即铅直方向)为Z轴方向。此外，设绕X轴、Y轴及Z轴旋转(倾斜)方向分别为θX、θY及θZ方向。＜第1实施形态＞首先，说明第1实施形态。图1是显示第1实施形态的曝光装置EX的一例的概略构成图。本实施形态的曝光装置EX是通过液体LQ以曝光用光EL使基板P曝光的液浸曝光装置。于本实施形态，形成有将曝光用光EL的光路以液体LQ加以充满的液浸空间LS。液浸空间是被液体充满的部分(空间、区域)。基板P是通过液浸空间LS的液体LQ以曝光用光EL加以曝光。本实施形态中，液体LQ是使用水(纯水)。又，本实施形态的曝光装置EX，是例如美国专利第6897963号说明书、欧洲专利公开第1713113号说明书等所揭示的具备基板载台与测量载台的曝光装置。图1中，曝光装置EX，具备：可保持本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液浸构件，用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；以及第2构件，于该第1构件的下方，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动，其中该第2构件具备：与该第1构件的该第1下面通过间隙相对的第2上面；与该物体能相对的第2下面；以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部。

【技术特征摘要】
2012.07.20 US 61/674,078;2013.03.15 US 61/790,3281.一种液浸构件，用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；以及第2构件，于该第1构件的下方，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动，其中该第2构件具备：与该第1构件的该第1下面通过间隙相对的第2上面；与该物体能相对的第2下面；以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部。2.如权利要求1的液浸构件，其进一步具备相对该光路于该第1构件的外侧连接于该第2构件的支承构件；其中根据通过驱动装置而使该支承构件移动，该第2构件即能移动。3.如权利要求1或2的液浸构件，其中，该液体从该第2上面侧的空间及该第2下面侧的空间中一方往另一方的移动受到抑制。4.如权利要求1至3中任一项的液浸构件，其中，该流体回收部相对该光路配置在该第1构件外侧。5.如权利要求1至4中任一项的液浸构件，其中，该第1构件进一步具有相对该光路朝向外侧的外侧面；该第2构件进一步具有通过间隙与该第1构件的该外侧面相对的内侧面、与从该流体回收部回收的流体流经的回收流路；以及于该内侧面的外侧配置该第2构件的该回收流路。6.如权利要求1至5中任一项的液浸构件，其中，该物体能相对于该流体回收部。7.如权利要求1至6中任一项的液浸构件，其中，该第2构件的该流体回收部能通过多孔构件的孔回收流体。8.如权利要求1至7中任一项的液浸构件，其中，该第2构件能在与该光学构件的光轴实质垂直的平面内移动。9.如权利要求1至8中任一项的液浸构件，其进一步具备能供应用以形成该液浸空间的该液体的供应部。10.如权利要求9的液浸构件，其中，该供应部配置于该第1构件。11.如权利要求9或10的液浸构件，其中，来自该供应部的该液体的至少一部分被供应至该第1下面与该第2上面之间的第1空间；以及该液浸构件并且进一步具备能回收来自该第1空间的该液体的液体回收部。12.如权利要求11的液浸构件，其进一步具备配置在该第1下面、能诱导来自该供应部的该液体的至少一部分的诱导部。13.如权利要求12的液浸构件，其中，该第2构件在与该光学构件的该光轴实质垂直的方向移动；以及该诱导部使该液体的至少一部分流向与该第2构件的移动方向平行的方向。14.如权利要求1至8中任一项的液浸构件，其进一步具备能回收来自该第1下面与该第2上面之间的第1空间的该液体的液体回收部。15.如权利要求11至14中任一项的液浸构件，其中，该液体回收部配置于该第1构件。16.如权利要求11至15中任一项的液浸构件，其中，该液体回收部配置在该光路的周围。17.如权利要求1至16中任一项的液浸构件，其中，该第2上面对该液体具有拨液性。18.如权利要求1至17中任一项的液浸构件，其中，该第1构件具有与该光学构件的侧面相对的相对面；以及具有设置成该侧面与该相对面之间的液体的至少一部分流于该第2上面的流路。19.如权利要求18的液浸构件，其进一步具备能回收流于该第2上面的该液体的回收部。20.如权利要求19的液浸构件，其中，该回收部能回收来自该第1空间的该液体。21.如权利要求1至20中任一项的液浸构件，其中，该第2下面的至少一部分于相对该光路的放射方向朝外侧向上方倾斜。22.如权利要求1至21中任一项的液浸构件，其具备相对该光路配置在该第2构件的外侧、能回收流体的第3构件。23.如权利要求1至22中任一项的液浸构件，其中，该第3构件能通过多孔构件回收流体。24.如权利要求23的液浸构件，其中，该第3构件能与该第2构件一起移动。25.如权利要求1至24中任一项的液浸构件，其中，该第1构件实质上不移动。26.如权利要求1至25中任一项的液浸构件，其中，该第2构件能与该曝光用光从该射出面射出的期间的至少一部分并行移动。27.如权利要求1至26中任一项的液浸构件，其中，该第2构件能与该物体移动的期间的至少一部分并行移动。28.如权利要求1至27中任一项的液浸构件，其中，该第2构件能于该物体的移动方向移动。29.如权利要求1至28中任一项的液浸构件，其中，该第1构件具有该曝光用光能通过的第1开口；以及该第2构件具有该曝光用光能通过的第2开口。30.如权利要求29的液浸构件，其中，该第1开口较该第2开口大。31.如权利要求29或30的液浸构件，其中，规定面向该光路的该第2开口的该第2构件内面的至少一部分，于相对该光路的放射方向朝外侧向上方倾斜。32.如权利要求29至31中任一项的液浸构件，其中，该第2构件的该第2上面的一部分与该射出面相对。33.如权利要求29至32中任一项的液浸构件，其中，该第1构件具有形成在该第1开口周围的第1上面；以及该第1上面的一部分与该射出面相对。34.如权利要求29至33中任一项的液浸构件，其中，用以形成该液浸空间而从该液体供应部供应的液体，通过该第1开口及该第2开口供应至与该射出面相对的该物体上。35.一种液浸构件，用于通过光学构件的射出面与基板间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；液体回收部；以及第2构件，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动；其中该第2构件具有：通过间隙与该第1构件的该第1下面相对的第2上面；与该物体相对的第2下面；以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部；该液体回收部能回收来自该第1下面与该第2上面间的第1空间的液体；以及该流体回收部能回收来自该第2下面与该物体间的第2空间的流体。36.如权利要求35的液浸构件，其中，该第1构件进一步具有相对该光路朝向外侧的外侧面；该第2构件进一步具有通过间隙与该外侧面相对的内侧面、与从该流体回收部回收的流体流经的回收流路；以及该第2构件的回收流路相对该光路于该内侧面的外侧配置。37.如权利要求35或36的液浸构件，其中，该物体能相对于该流体回收部。38.如权利要求35至37中任一项的液浸构件，其中，该流体回收部能通过多孔构件的孔回收流体。39.如权利要求35至38中任一项的液浸构件，其中，该第2构件能在与该光学构件的光轴实质垂直的平面内移动。40.如权利要求35至39中任一项的液浸构件，其具备配置在该第1下面、或该第2上面、或该第1下面与该第2上面的两方的诱导部。41.如权利要求40的液浸构件，其中，该第2构件能在与该光学构件的该光轴实质垂...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤真路，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本,JP