掩膜框架、掩膜版及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种掩膜框架、掩膜版及其制作方法，包括框架主体、固定部、挤压装置和压力感应装置，所述固定部位于框架主体相对两侧的内部，所述挤压装置用于穿过所述框架主体并对所述固定部施加压力，所述压力感应装置用于感应挤压装置对固定部施加的压力。本发明专利技术通过挤压装置对固定部施加压力，从而对所述掩膜框架施加压力，并通过压力感应装置感应挤压装置对固定部施加的压力，以便于调整挤压装置所施加的压力大小，从而可以对不同位置的固定部施加合适的压力，避免掩膜条上的像素图像出现差异或者位置偏差的问题，进而提高形成的掩膜图案的精度。

【技术实现步骤摘要】
掩膜框架、掩膜版及其制作方法
本专利技术涉及掩膜版
，特别是指一种掩膜框架、掩膜版及其制作方法。
技术介绍
目前，主动式有机发光二极管显示器件(ActiveMatrixDrivingOrganicLightEmittingDiode，简称AMOLED)的像素是使用精细金属掩膜版(FineMetalMask，简称FMM)通过真空蒸镀工艺来制造，而精细金属掩膜版的制造工艺难度很大，导致AMOLED产品的良率较低。在掩膜版的制作过程中，需要将掩膜条焊接在掩膜框架上。专利技术人发现现有技术存在以下问题：在焊接结束后，掩膜条上的像素图像会出现差异或者出现位置偏差的问题,这会导致AMOLED产品的显示异常；而且，在挤压力撤销之后，掩膜框架会产生与挤压力相等的向外弹力，这也会导致像素图案的位置发生偏差；另外，张网完成的掩膜版在张网和使用过程中也会出现开口位置偏差的问题，导致蒸镀位置偏差，出现混色不良等问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提出一种掩膜框架、掩膜版及其制作方法，以解决掩膜版在张网和使用过程中出现的开口位置偏差的技术问题。基于上述目的，在本专利技术的第一方面，本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜框架，其特征在于，包括框架主体、固定部、挤压装置和压力感应装置，所述固定部位于框架主体相对两侧的内部，所述挤压装置用于穿过所述框架主体并对所述固定部施加压力，所述压力感应装置用于感应挤压装置对固定部施加的压力。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜框架，其特征在于，包括框架主体、固定部、挤压装置和压力感应装置，所述固定部位于框架主体相对两侧的内部，所述挤压装置用于穿过所述框架主体并对所述固定部施加压力，所述压力感应装置用于感应挤压装置对固定部施加的压力。2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述框架主体的相对两侧开设有凹槽，所述凹槽的底部开设有通孔，所述凹槽和通孔用于穿过所述挤压装置。3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述压力感应装置设置于固定部，并与所述通孔相对。4.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，沿着所述掩膜框架的张网方向，所述框架主体的宽度d1与固定部的宽度d2的关系满足d1≥2d2。5.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，沿着所述掩膜框架的张网方向，所述固定部与框架主体之间的距离d3与固定部的宽度d2的关系满足d3≥d2。6.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，沿着所述掩膜框架的张网方向，所述凹槽的深度d4与框架...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴海东，李彦松，杜小波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11