蒸镀掩膜及其制造方法技术

本发明专利技术提供蒸镀掩膜及其制造方法，在将掩膜主体用框体支撑的形式的蒸镀掩膜中，能够在抑制制造成本上升的同时，实现蒸镀掩膜的大型化，还能够维持蒸镀掩膜的平坦度，能够确保良好的再现精度及蒸镀精度。蒸镀掩膜(1)具备：掩膜主体(2)，其具备由多个独立的蒸镀通孔(5)构成的蒸镀图案(6)；以及加强用的框体(3)，其由低热线膨胀系数的金属板材构成。掩膜主体和框体经由金属层(8)接合成不可分离的一体。由形成为相同形状的上框(16)和下框(17)构成框体，且将上下框经由粘结层(18)接合而一体化。由此，能够用更薄的金属板材来形成框体，因此，减小框体整体的板厚偏差，能够抑制因由板厚偏差引起的热膨胀而产生的应变。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩膜及其制造方法
本专利技术涉及蒸镀掩膜及其制造方法，尤其涉及用框体支撑掩膜主体的形式的蒸镀掩膜及其制造方法。本专利技术能够应用于在形成例如有机EL元件的发光层时适于使用的蒸镀掩膜、及其制造方法。
技术介绍
在具有显示装置的智能手机、平板终端等移动设备中，以设备的轻量化及驱动时间的长时间化为目的，开始了使用更轻量且耗电小的有机EL显示器代替液晶显示器。有机EL显示器通过利用蒸镀掩膜法在基板(蒸镀对象)上形成有机EL元件的发光层(蒸镀层)而制造。此时，使用具备更多的掩膜主体的大型化的蒸镀掩膜，通过一次蒸镀作业来制造更多的产品，从而能够降低有机EL显示器的制造成本。因此，从有机EL显示器的制造商方面出发，蒸镀掩膜的大型化的愿望有所提高。例如，专利文献1公开了一种用于蒸镀掩膜法的蒸镀掩膜。该专利文献1中，用具备多个掩膜部(蒸镀图案)的金属掩膜(掩膜主体)和框架(框体)构成蒸镀掩膜，该框架(框体)形成为框状并以张紧金属掩膜的状态固定保持，且由不胀钢材料形成。金属掩膜通过点焊而与框架接合。这种蒸镀掩膜本申请人也提出过技术方案，例如专利文献2。该蒸镀掩膜由具备蒸镀图案的多个掩膜主体和与掩膜主体接合成不可分离的一体的加强用框体构成。框体由不胀钢材料(低热线膨胀系数的材质)形成，各掩膜主体的外周缘通过用电铸法形成的金属层而与包围掩膜主体的框体接合。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2004-323888号公报专利文献2：日本特开2005-15908号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题如专利文献1及专利文献2的蒸镀掩膜所示，通过用不胀钢材料构成固定保持金属掩膜的框架、加强掩膜主体的框体，从而，即使蒸镀时的作业环境为高温环境，也抑制蒸镀掩膜膨胀，进而能够确保蒸镀层(发光层)的再现精度及蒸镀精度。但是，专利文献1的蒸镀掩膜的金属掩膜虽然以张紧状态固定保持于框架，但是，在将蒸镀掩膜大型化的情况下，未被框架支撑的金属掩膜的面积变大，由于自重，金属掩膜会产生翘曲变形。因此，不能避免再现精度及蒸镀精度降低。对于该点，在专利文献2的蒸镀掩膜中，各掩膜主体与包围掩膜主体的框体接合，因此即使在将蒸镀掩膜大型化的情况下，也不会产生因自重而引起的掩膜主体的翘曲变形，能够确保蒸镀层的再现精度及蒸镀精度。但是，即使在由不胀钢材料形成的框体，在蒸镀作业时也稍微地膨胀。另外，虽然框体由不胀钢材料的金属板材形成，但是，通常，一般流通的金属板材存在板厚偏差，因此，根据框体的部位不同，而板厚分散。因此，存在以下情况，即，在框体的各部分膨胀量不同，而膨胀量的不同表现出整个蒸镀掩膜的应变。当这样地在蒸镀掩膜产生应变时，蒸镀掩膜的平坦度变差，再现精度及蒸镀精度会极度地降低。该应变随着将框体大型化而变现得显著。这种主要材料的板厚偏差所引起的应变的发生虽然通过管理金属板材的制造工序，专门制造且使用板厚偏差小的主要材料能够抑制，但是该部分主要材料昂贵，导致蒸镀掩膜的制造成本上升。在此，板厚偏差是指相对于金属板材的标准尺寸的厚度的分散幅度。本专利技术的目的在于提供一种蒸镀掩膜及其制造方法，在用框体支撑掩膜主体的形式的蒸镀掩膜中，在抑制制造成本的上升的同时，能够实现蒸镀掩膜的大型化，还能够维持蒸镀掩膜的平坦度，能够确保蒸镀层的良好的再现精度及蒸镀精度。用于解决课题的方案本专利技术的蒸镀掩膜具备：掩膜主体2，其具备由多个独立的蒸镀通孔5构成的蒸镀图案6；以及加强用的框体3，其配置于掩膜主体2的周围，且由低热线膨胀系数的金属板材构成。上述蒸镀掩膜的特征在于，掩膜主体2和框体3经由金属层8接合成不可分离的一体，而且框体3由形成为相同形状的上框16和下框17构成，上框16和下框17经由粘结层18接合而一体化。层叠多个框体3，并将在层叠方向上邻接的框体3彼此经由粘结层19接合。上框16和下框17以突弧面或者凹弧面彼此对置的状态接合，在将上框16及下框17的二维曲面或者三维曲面状的翘曲抵消了的状态，将框体3形成为平坦状。掩膜主体2形成为长方形状，多个掩膜主体2配置成矩阵状。框体3具备外周框10和在外周框10内划分出多个掩膜开口11的格子框状的纵框12及横框13。在将与掩膜主体2的长边平行的纵框12的宽度尺寸设为W1、且将与掩膜主体2的短边平行的横框13的宽度尺寸设为W2时，设定为纵框12的宽度尺寸W1和横框13的宽度尺寸W2满足不等式W1≤W2≤W1×1.1。能够采用将金属层8与掩膜主体2一体形成的形式。蒸镀掩膜具备：支撑框架46，其固定于框体3的下表面；以及辅助框架47，其固定于支撑框架46的下表面。在支撑框架46形成有与框体3的掩膜开口11对应的框架开口48，框架开口48形成为比掩膜开口11大一圈的开口形状，框体3的纵框12及横框13整体被支撑框架46支撑。另外，辅助框架47形成为框状，支撑框架46的四周缘被辅助框架47支撑。本专利技术的蒸镀掩膜制造方法的蒸镀掩膜具备：掩膜主体2，其在图案形成区域4内具有由多个独立的蒸镀通孔5形成的蒸镀图案6；以及加强用的框体3，其配置于掩膜主体2的周围，且由低热线膨胀系数的金属板材构成。蒸镀掩膜的制造方法的特征在于，包括：框体形成工序，形成加强用框体3；一次构图工序，在凹模24的表面设置具有与蒸镀通孔5对应的抗蚀剂体29a的一次图案抗蚀剂29；第一电铸工序，使用一次图案抗蚀剂29在凹模24上电铸电镀金属，且在该凹模24上在预定位置形成多个与掩膜主体2对应的一次电铸层30；框体配置工序，在以与框体3的各掩膜开口11对应的一次电铸层30位于该掩膜开口11内的方式进行对位的同时，在凹模24上配置框体3；第二电铸工序，在覆盖框体3的表面和掩膜主体2的图案形成区域4的外周缘4a的表面的状态下，利用电铸法形成金属层8，并经由该金属层8将一次电铸层30和框体3接合成不可分离的一体；以及剥离工序，从凹模24一体剥离一次电铸层30、框体3以及金属层8。在框体形成工序中包括接合工序而形成框体3，上述接合工序在上框16和下框17的突弧面或者凹弧面彼此对置的状态下，用粘结层18接合两框16、17，并在将上框16及下框17的二维曲面或者三维曲面状的翘曲抵消了的状态下，将框体3形成为平坦状。另外，本专利技术的蒸镀掩膜制造方法的蒸镀掩膜具备：掩膜主体2，其在图案形成区域4内具有由多个独立的蒸镀通孔5形成的蒸镀图案6；以及加强用的框体3，其配置于掩膜主体2的周围，且由低热线膨胀系数的金属板材构成。蒸镀掩膜的制造方法的特征在于，包括：框体形成工序，形成加强用框体3；一次构图工序，在凹模24的表面设置具有与掩膜主体2对应的抗蚀剂体29a的一次图案抗蚀剂29；框体配置工序，在包括一次图案抗蚀剂29的凹模24的整个上表面粘贴粘结抗蚀剂43，在此基础上，以包围一次图案抗蚀剂29的方式，在凹模24上粘结固定框体3；将除了位于框体3的下表面的粘结抗蚀剂43以外的粘结抗蚀剂43去除的工序；一体电铸工序，在覆盖除了抗蚀剂体29a以外的凹模24表面和框体3的表面的状态下电铸电镀金属，从而一体形成构成掩膜主体2的一次电铸层30和结合该掩膜主体2和框体3的金属层8；以及，剥离工序，从凹模24一体剥离一次电铸层30、金属层8以及框体3。在框体形成工序中包括接合工序而形成框体3，上述接合工序在上框16本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀掩膜，其具备：掩膜主体(2)，其具备由多个独立的蒸镀通孔(5)构成的蒸镀图案(6)；以及加强用的框体(3)，其配置于掩膜主体(2)的周围，且由低热线膨胀系数的金属板材构成，上述蒸镀掩膜的特征在于，掩膜主体(2)和框体(3)经由金属层(8)接合成不可分离的一体，框体(3)由形成为相同形状的上框(16)和下框(17)构成，上框(16)和下框(17)经由粘结层(18)接合而一体化。

【技术特征摘要】
2016.05.23 JP 2016-1026301.一种蒸镀掩膜，其具备：掩膜主体(2)，其具备由多个独立的蒸镀通孔(5)构成的蒸镀图案(6)；以及加强用的框体(3)，其配置于掩膜主体(2)的周围，且由低热线膨胀系数的金属板材构成，上述蒸镀掩膜的特征在于，掩膜主体(2)和框体(3)经由金属层(8)接合成不可分离的一体，框体(3)由形成为相同形状的上框(16)和下框(17)构成，上框(16)和下框(17)经由粘结层(18)接合而一体化。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜，其特征在于，层叠多个框体(3)，并将在层叠方向上邻接的框体(3)彼此经由粘结层(19)接合。3.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩膜，其特征在于，将上框(16)和下框(17)以突弧面或者凹弧面彼此对置的状态接合，在将上框(16)及下框(17)的二维曲面或者三维曲面状的翘曲抵消了的状态，框体(3)形成为平坦状。4.根据权利要求1～3中任一项所述的蒸镀掩膜，其特征在于，掩膜主体(2)形成为长方形状，多个掩膜主体(2)配置成矩阵状，框体(3)具备外周框(10)和在外周框(10)内划分出多个掩膜开口(11)的格子框状的纵框(12)及横框(13)，在将与掩膜主体(2)的长边平行的纵框(12)的宽度尺寸设为W1、且将与掩膜主体(2)的短边平行的横框(13)的宽度尺寸设为W2时，设定为纵框(12)的宽度尺寸W1和横框(13)的宽度尺寸W2满足不等式W1≤W2≤W1×1.1。5.根据权利要求1～4中任一项所述的蒸镀掩膜，其特征在于，金属层(8)与掩膜主体(2)一体形成。6.根据权利要求1～5中任一项所述的蒸镀掩膜，其特征在于，具备：支撑框架(46)，其固定于框体(3)的下表面；以及辅助框架(47)，其固定于支撑框架(46)的下表面，在支撑框架(46)形成有与框体(3)的掩膜开口(11)对应的框架开口(48)，框架开口(48)形成为比掩膜开口(11)大一圈的开口形状，框体(3)的纵框(12)及横框(13)整体被支撑框架(46)支撑，辅助框架(47)形成为框状，支撑框架(46)的四周缘被辅助框架(47)支撑。7.一种蒸镀掩膜制造方法，上述蒸镀掩膜具备：掩膜主体(2)，其在图案形成区域(4)内具有由多个独立的蒸镀通孔(5)形成的蒸镀图案(6)；以及加强用的框体(3)，其配置于掩膜主体(2)的周围，且由低热线膨胀系数的金属板材构成，上述蒸镀掩膜制造方法的特征在于，包括：框体形成工序，形成加强用的框体(3)；一次构图工序，在凹模(24)的表面设置具有与蒸镀通孔(5)对应的抗蚀剂体(29a)的一次图案抗蚀剂(29)；第一电铸工序，使用一次图案抗蚀剂(29)在凹模(24)上电铸电镀金属，且在该凹模(24)上在预定位置形成多个与掩膜主体(2)对应的一次电铸层(30)；框体配置工序，在以与框体(3)的各掩膜开口(11)对应的一次电...

【专利技术属性】
技术研发人员：田丸裕仁，小林良弘，石川树一郎，
申请(专利权)人：日立麦克赛尔株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP