一种带状离子束注入调节结构制造技术

技术编号:16638132 阅读:109 留言:0更新日期:2017-11-26 01:08
本实用新型专利技术公开一种带状离子束注入调节结构,包括铁芯,铁芯包括上铁芯块、下铁芯块、前铁芯块和后铁芯块,上铁芯块、下铁芯块、前铁芯块和后铁芯块围成一个供带状离子束通过的通孔,通孔的上端设有由多个呈片状的上线圈连续叠加而成的第一马鞍形线圈组,通孔的下端设有由多个呈片状的下线圈连续叠加而成的第二马鞍形线圈组,第一马鞍形线圈组与第二马鞍形线圈组呈镜像设置。通过调节这两个马鞍形线圈的电流方向和大小,可以修正铁芯的极头之间的鼓形磁场,使极头之间的磁场变成完全均匀、并且封闭的线性磁场和均匀的带状离子束,在该磁场内的离子束可以达到均匀性,不受外界杂散磁场的干扰,从而使束流通过时带状束流的截面形状始终保持直线。

A strip ion beam injection adjustment structure

Adjust the structure, the utility model discloses a ribbon ion beam injection which comprises an iron core comprises a core block, on the core block, before and after the iron core block block, on the core block, under the core block, before the core block and block after the core surrounded by a band for the ion beam through the through hole of the upper end. A hole is arranged by a plurality of first saddle shaped coil group sheet coil continuous stack, second saddle shaped coil of the lower end of the through hole is arranged by a plurality of coils and the superposition of continuous sheet, the first saddle coil group and second saddle coil group was set as mirror. By adjusting the two saddle coil current direction and size, can drum magnetic pole iron core fixed between the polar head to the magnetic field between the closed and become completely uniform, linear and uniform magnetic field with ion beam, ion beam within the magnetic field can reach uniformity is not disturbed the stray magnetic field, so that the section shape of the beam through the ribbon beam always stays straight.

【技术实现步骤摘要】
一种带状离子束注入调节结构
本技术涉及太阳能电池片和LED面板用离子束注入调节装置,特别涉及一种带状离子束注入调节结构。
技术介绍
目前,市场上常见的二级磁铁(或称离子束流调节装置)如图1和图2所示,其包括铁芯1’和两个线圈2’,铁芯1’包括上铁芯块11’和下铁芯块12’,上铁芯块11’和下铁芯块12’的前后两端分别通过前铁芯块13’和后铁芯块14’连接,上铁芯块11’、下铁芯块12’、前铁芯块13’和后铁芯块14’之间形成通孔3’,两个线圈2’分别嵌入上铁芯块11’和下铁芯块12’。但是,由于目前半导体离子注入行业的带状离子束要适应300mm或以上的工艺,所以该种二极磁铁的极头之间的距离一般较大,随之带来的不良影响就是该二极磁铁极头之间的磁场一般是鼓型的。具体的,如图1所示,一束带状离子束4’射进入铁芯1’后,出来的带状离子束4’的形状如右侧所示(呈鼓形)。这样,带状束流在通过该磁铁后,由于二极磁铁在高度方向的不均匀,带状束流的截面形状将由一条直线变成弯月形,这不利于束流的后期传输和控制,也会给注入样品的均匀性带来一定的不良影响。此外,这种结构的二极磁铁的极头之间的磁场在高度方向上本文档来自技高网...
一种带状离子束注入调节结构

【技术保护点】
一种带状离子束注入调节结构,包括铁芯,其特征在于,所述铁芯包括上铁芯块、下铁芯块、前铁芯块和后铁芯块,所述上铁芯块、下铁芯块、前铁芯块和后铁芯块围成一个供带状离子束通过的通孔,所述通孔的上端设有由多个呈片状的上线圈连续叠加而成的第一马鞍形线圈组,所述通孔的下端设有由多个呈片状的下线圈连续叠加而成的第二马鞍形线圈组,所述第一马鞍形线圈组与所述第二马鞍形线圈组呈镜像设置。

【技术特征摘要】
1.一种带状离子束注入调节结构,包括铁芯,其特征在于,所述铁芯包括上铁芯块、下铁芯块、前铁芯块和后铁芯块,所述上铁芯块、下铁芯块、前铁芯块和后铁芯块围成一个供带状离子束通过的通孔,所述通孔的上端设有由多个呈片状的上线圈连续叠加而成的第一马鞍形线圈组,所述通孔的下端设有由多个呈片状的下线圈连续叠加而成的第二马鞍形线圈组,所述第一马鞍形线圈组与所述第二马鞍形线圈组呈镜像设置。2.根据权利要求1所述的带状离子束注入调节结构,其特征在于,所述上线圈的个数与所述下线圈的个数相同。3.根据权利要求2所述的带状离子束注入调节结构,其特征在于,所述第一马鞍形线圈组的中部具有一与所述上铁芯块形状相同的上凹槽,所述第二马鞍形线圈组的中部具有一与所述下铁芯块形状相同的下凹槽。4.根据权利要求3所述的带状离子束注入调节结构,其特征在于,所述第一马鞍形线圈组的两端分别沿所述上铁芯块的两端拱起,形成拱起部,所述第二马鞍形线圈组的两端分别沿所述下铁芯块的两端凹陷,形成凹陷部。5.根据权利要求4所述的带状离子束...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱锋
申请(专利权)人:东莞帕萨电子装备有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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