一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置，镀膜设备至少包括密封盖板、设于密封盖板上连通真空腔室内外的多个空气进出口。每个空气进出口下方均设有对流入空气起到缓冲导流作用的缓冲导流板，缓冲导流板包括位于密封盖板下方并正对空气进出口的横挡板、分设于横挡板两侧且连接在横挡板与密封盖板之间的两个竖挡板。横挡板与竖挡板之间形成沿垂直于气流进入方向贯穿的气流通道。本装置通过将一体成型的缓冲导流板直接焊接于密封盖板上，避免了缓冲导流板脱落划伤玻璃的可能，提升了镀膜设备的安全性；其次在缓冲导流板周围填充填充物，减少了真空腔室的容积，进而减少了回气的时间，提高了生产效率。

A magnetron sputtering vacuum coating equipment chamber gas guiding device

The utility model discloses a gas return flow guiding device for a vacuum chamber of a magnetron sputtering coating equipment. The coating equipment comprises at least a sealed cover plate and a plurality of air inlet and outlet communicated with the vacuum chamber inside the sealed cover plate. Below are provided to buffer buffer guide plate guide effect on the inflow of air from the import and export of each air guide plate includes a buffer sealing cover and air is below the transverse baffle, the import and export of the cross baffle and the connection is divided into two vertical baffle between the transverse baffle and the sealing cover. An air passage is formed between the cross baffle and the vertical baffle, which is perpendicular to the direction of the airflow. The device through the buffer guide plate forming one of the directly welded on the sealing cover, to avoid scratching the glass off buffer baffle can enhance the safety of coating equipment; filler in the surrounding buffer plate, reduces the volume of the vacuum chamber, thereby reducing the air return time, improve production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置
本技术涉及一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置。
技术介绍
玻璃产品在进行磁控溅射镀膜工序时需要在真空环境下进行，因此在进行玻璃磁控溅射镀膜工序之前需要将真空腔室的空气抽出使真空腔形成真空状态。在对玻璃完成镀膜之后，真空腔室再进行回气动作，使得真空腔室的气压与大气压相同。为了避免回气时大气冲碎玻璃产品，如附图1所示，目前采用的技术方案是在空气进出口的下方设置一块钢板6对大气进行缓冲导流。此钢板6通过螺栓固定在凸起的固定柱7上，固定柱7固定于真空腔室的密封盖板1上。但是真空腔室的真空负压可达到0.03mbar左右，当进行回气动作时，会有大量的空气进入真空腔室内，可能会引起钢板6振动、螺栓松动掉落，从而划伤玻璃产品。同时，由于钢板6占用空间较小，镀膜真空腔室的抽放气效率较低。
技术实现思路
本技术的目的为了克服现有技术的缺点，提供一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置，能够对大气进行有效的缓冲导流，不会松动掉落划伤玻璃产品；并且占用空间较大，能够提高真空腔室抽放气的效率。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置，所述镀膜设备至少包括密封盖板、设于所述密封盖板上连通所述真空腔室内外的多个空气进出口，其特征在于：每个所述空气进出口下方均设有对流入空气起到缓冲导流作用的缓冲导流板，所述缓冲导流板包括位于所述密封盖板下方并正对所述空气进出口的横挡板、分设于所述横挡板两侧且连接在所述横挡板与所述密封盖板之间的两个竖挡板，所述横挡板与两侧的所述竖挡板之间形成沿垂直于气流进入方向贯穿的气流通道。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置，所述镀膜设备至少包括密封盖板、设于所述密封盖板上连通所述真空腔室内外的多个空气进出口，其特征在于：每个所述空气进出口下方均设有对流入空气起到缓冲导流作用的缓冲导流板，所述缓冲导流板包括位于所述密封盖板下方并正对所述空气进出口的横挡板、分设于所述横挡板两侧且连接在所述横挡板与所述密封盖板之间的两个竖挡板，所述横挡板与两侧的所述竖挡板之间形成沿垂直于气流进入方向贯穿的气流通道。2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置，其特征在于：所述横挡板与所述密封盖板相平行。3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置，其特征在于：所述回气导流装置还包括设于多个缓冲导流板之间的内填充物、设于多个所述缓冲导流板的外侧部的外填充物，所述内填充物、外填充物均设...

【专利技术属性】
技术研发人员：何天黎，田富，岳大勇，
申请(专利权)人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32