类金刚石薄膜制造技术
Diamond like carbon film
The present invention relates to a diamond-like carbon film. This kind of diamond film deposited on the substrate includes a metal substrate; depositing on said metal carbide metal transition layer deposited on the substrate; the metal carbide transition layer on the first DLC layer, the first layer is a functional type diamond diamond layer; deposition on the first DLC layer on the second kinds of diamond layer, the second layer is the diamond color control class diamond layer. The diamond film has the advantages of strong adhesion, high hardness, high smoothness, low friction coefficient, corrosion resistance, and has a dark color appearance, especially suitable for color appearance and reliable performance requirements are very demanding of decorative plating field.
【技术实现步骤摘要】
类金刚石薄膜
本专利技术涉及薄膜材料
，特别是涉及类金刚石薄膜。
技术介绍
随着各项技术的不断发展以及使用条件和场所的复杂化，目前市场对应用于钟表、手机等3C电子产品及其它高端装饰镀领域的装饰性薄膜要求越来越高，除了对颜色、外观有着苛刻的要求外，对薄膜的耐磨损、抗刮伤、耐腐蚀以及化学稳定性等也有着严格的要求。类金刚石碳膜(DIAMOND-LIKE-CARBON,下文用简称DLC)是一种由C元素构成，在性质上和金刚石类似，同时又具有石墨原子组成结构的非晶态薄膜。DLC薄膜具有高硬度和高弹性模量、低摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀、表面光洁度好等优点，可以满足上面提到的各项要求。如上所述，DLC薄膜是一种具有高硬度、低摩擦系数的非晶态碳膜，所以其膜层结构、热膨胀系数等与常规的金属基材及金属氮化物、碳化物等过渡层存在较大差异，导致常规DLC薄膜的层间结合力较差。另外，常规方法制备的DLC薄膜颜色不够深，L值一般在48～55之间，颜色发灰，不够美观，这就限制了其在对颜色外观要求非常苛刻的装饰镀领域的应用。对于用磁控溅射方法制备高质量含氢DLC薄膜的过程，实际很难通过掺杂其它...
【技术保护点】
一种类金刚石薄膜，其特征在于，包括：沉积于基材之上的金属打底层；沉积于所述金属打底层之上的金属碳化物过渡层；沉积于所述金属碳化物过渡层之上的第一类金刚石层，该第一类金刚石层为含氢类金刚石层；沉积于所述第一类金刚石层之上的第二类金刚石层，该第二类金刚石层为含氢类金刚石层，其折射率小于第一类金刚石层。
【技术特征摘要】
1.一种类金刚石薄膜，其特征在于，包括：沉积于基材之上的金属打底层；沉积于所述金属打底层之上的金属碳化物过渡层；沉积于所述金属碳化物过渡层之上的第一类金刚石层，该第一类金刚石层为含氢类金刚石层；沉积于所述第一类金刚石层之上的第二类金刚石层，该第二类金刚石层为含氢类金刚石层，其折射率小于第一类金刚石层。2.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜，其特征在于，所述金属碳化物过渡层中C含量为2％～50％，且由所述金属打底层向所述第一类金刚石层方向逐渐递增。3.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜，其特征在于，所述第二类金刚石层的折射率介于1.7～2.2之间，所述第一类金刚石层的折射率介于1.9～2.5之间。4.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜，其特征在于，所述第二类金刚石层的厚度为0.05～0.5μm。5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：田梦军，
申请(专利权)人：维达力实业深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。